公开(公告)号：KR1020000026642A

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019980044269

申请日：1998-10-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정석 ,  이제철 ,  이정훈 ,  문윤정

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A vacuum absorption system of a main arm for a semiconductor manufacturing apparatus is designed to stably convey a wafer by providing a device for vacuum-fixing the wafer on the main arm for conveying the wafer between units for each semiconductor manufacturing process. CONSTITUTION: A vacuum absorption system is provided with a vacuum hole formed on a wafer stacking location of a main arm(16). The vacuum hole is connected to a vacuum pump through a solenoid valve(172). The solenoid valve(172) is designed to cooperate with the operation of the main arm(16) so that the wafer can be fixed on the correct position using vacuum. The main arm includes a ring-shaped fingers and a plurality of pincettes(164) inserted into the ring-shaped fingers. The vacuum hole is formed one of the pincettes(164), which is located in a direction where the main arm(16) is returned after receiving the wafer.

Abstract translation: 目的：一种用于半导体制造装置的主臂的真空吸收系统被设计成通过在每个半导体制造工艺的单元之间提供用于将晶片真空固定在主臂上用于输送晶片的装置来稳定地传送晶片。 构成：真空吸收系统设置有形成在主臂（16）的晶片堆叠位置上的真空孔。 真空孔通过电磁阀（172）连接到真空泵。 电磁阀（172）被设计成与主臂（16）的操作配合，使得可以使用真空将晶片固定在正确的位置上。 主臂包括环形指状物和插入环形指状物中的多个卡扣（164）。 真空孔形成为在接收晶片之后主臂（16）返回的方向上的夹子（164）中的一个。

公开(公告)号：KR100642644B1

公开(公告)日：2006-11-10

申请号：KR1020050005485

申请日：2005-01-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김봉길 ,  고대호 ,  문윤정

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 냉각장치에 관한 것으로, 본 발명의 제1관점에 따르면, 챔버; 챔버 내부에 마련되며 웨이퍼를 냉각하는 냉각수단; 냉각수단 상에서 웨이퍼를 승강시키는 웨이퍼 지지핀; 및, 웨이퍼의 승강 높이가 제어되도록 웨이퍼 지지핀을 승강시키는 웨이퍼 지지핀 승강수단을 포함하는 웨이퍼 냉각장치가 제공된다. 따라서, 본 발명에 따르면, 고온으로 베이킹된 웨이퍼를 1차와 2차에 걸쳐 다단계로 냉각가능하다. 이에 따라 웨이퍼 냉각시 발생되는 웨이퍼 브로큰 현상은 미연에 방지된다.
웨이퍼, 냉각

公开(公告)号：KR1020000032258A

公开(公告)日：2000-06-05

申请号：KR1019980048662

申请日：1998-11-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An equipment system for a wafer coating is provided to prevent a wafer from being flowed without a coating for the wafer. CONSTITUTION: An equipment system for a wafer coating coats a predetermined material on a semiconductor wafer by an IDS pump(115), an IDS pump controller(110) to control the pump and a signal transmitted from the pump. Wherein, the pump drives a predetermined operation of a nozzle and, simultaneously, send a prosecution signal so as to prosecute a coating process to a coating equipment(120) when a control operation of the pump controller driven by a predetermined inputted voltage is transmitted to the pump via a communication cable(130). The pump directly transmits an interlock signal to the coating equipment via an outer alarm connection cable and makes a stop an operation of the coating equipment when a power supply supplied to the pump controller is cut.

Abstract translation: 目的：提供用于晶片涂层的设备系统，以防止晶片在没有晶片的涂层的情况下流动。 构成：用于晶片涂层的设备系统通过IDS泵（115），IDS泵控制器（110）在半导体晶片上涂覆预定材料，以控制泵和从泵传输的信号。 其中，所述泵驱动喷嘴的预定操作，并且同时发送检测信号，以便当由预定的输入电压驱动的泵控制器的控制操作传送到涂覆设备（120）时，对涂布设备（120）进行涂覆处理 泵通过通信电缆（130）。 泵直接通过外部报警连接电缆将联锁信号传送到涂层设备，并且在供应给泵控制器的电源被切断时停止涂布设备的操作。

公开(公告)号：KR1019980076738A

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019970013584

申请日：1997-04-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정 ,  김정열 ,  윤석현 ,  이제철

IPC: H01L21/50

Abstract: 본 발명은 스핀코팅장치의 배기호스 고정브라켓 구조에 관한 것으로, 지지대 상부면에 위치하는 가스배기호스의 돌출부가 움직이지 않도록 덮개바를 지지대와 대향되도록 돌출부상에 위치시키고 지지대와 덮개바를 나사결하여 돌출부를 고정시킴으로써 돌출부가 보울의 업/다운시 발생하는 작은 충격에 의해 가스배기호스가 브라켓으로부터 이탈되는 것을 방지하여 가스배기호스의 이탈로 인해 공정진행상의 불량이 발생하여 수율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970052116A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950059509

申请日：1995-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정 ,  김성일 ,  김정식 ,  신원열

IPC: H01L21/223

Abstract: 유량계에서 HMDS의 흐름을 감시하고, 확인하여 생산성의 저하를 방지할 수 있는 HMDS 공급 장치 및 그 사용법을 제공한다.
본 발명은 투명한 내부에 볼이 보이는 유량계를 포함하는 HMDS 공급장치에 있어서, 상기 유량계의 투명한 내부를 통하여 빛이 통과하도록 상기 유량계의 외부에 설치된 광원 및 광센서로 형성된 광학적 감지기 및 상기 광학적 감지기에 연결되어 광학적 감지의 신호를 제어하는 조절기를 포함한다. 본 발명에 의하여 감광막 도포시 HMDS 처리 공정의 불량이 대량으로 발생하는 것을 방지하여 생산성을 향상시키고, 원가를 절감하는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060084697A

公开(公告)日：2006-07-25

申请号：KR1020050005485

申请日：2005-01-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김봉길 ,  고대호 ,  문윤정

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 냉각장치에 관한 것으로, 본 발명의 제1관점에 따르면, 챔버; 챔버 내부에 마련되며 웨이퍼를 냉각하는 냉각수단; 냉각수단 상에서 웨이퍼를 승강시키는 웨이퍼 지지핀; 및, 웨이퍼의 승강 높이가 제어되도록 웨이퍼 지지핀을 승강시키는 웨이퍼 지지핀 승강수단을 포함하는 웨이퍼 냉각장치가 제공된다. 따라서, 본 발명에 따르면, 고온으로 베이킹된 웨이퍼를 1차와 2차에 걸쳐 다단계로 냉각가능하다. 이에 따라 웨이퍼 냉각시 발생되는 웨이퍼 브로큰 현상은 미연에 방지된다.
웨이퍼, 냉각

公开(公告)号：KR1020040009869A

公开(公告)日：2004-01-31

申请号：KR1020020044228

申请日：2002-07-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정 ,  김성일

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A chemical supply system is provided to stabilize a fabrication process by performing a process for removing bubbles of chemicals twice. CONSTITUTION: A chemical supply system includes the first and the second buffer tanks(110), the first 3-directional valve(140), and a pump(164). The first and the second buffer tanks(110) are used for storing chemicals. The first 3-directional valve(140) is connected to a line connected to the first and the second buffer tanks and a line connected to a processing unit in order to control selectively a supply process of the chemicals between the first and the second storage tanks and the processing unit. The bump(164) is installed between the first 3-directional valve and the processing unit. The chemical supply system further includes the first and the second buffer tanks(130,190) to remove bubbles from the chemicals.

Abstract translation: 目的：提供一种化学品供应系统，用于通过执行一种除去化学气泡两次的方法来稳定制造过程。 构成：化学品供应系统包括第一和第二缓冲罐（110），第一三向阀（140）和泵（164）。 第一和第二缓冲罐（110）用于储存化学品。 第一三向阀（140）连接到连接到第一和第二缓冲罐的管线和连接到处理单元的管线，以便选择性地控制第一和第二储存罐之间的化学品的供应过程 和处理单元。 凸起（164）安装在第一三向阀和处理单元之间。 化学品供应系统还包括从化学品中除去气泡的第一和第二缓冲罐（130,190）。

公开(公告)号：KR1020040006113A

公开(公告)日：2004-01-24

申请号：KR1020020039642

申请日：2002-07-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성일 ,  문윤정

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A photolithography system for semiconductor fabrication is provided to indicate states of signals between an exposure unit and a coating and developing unit by using a board including a plurality of light emitting elements. CONSTITUTION: A photolithography system for semiconductor fabrication includes an exposure unit(10), a coating and developing unit(20), an interface stage(30), and a board(40). The coating and developing unit(20) is connected to the exposure unit(10). The interface stage(30) is used for transferring a substrate between the exposure unit(10) and the coating and developing unit(20). A plurality of light emitting elements are formed on the board(40) in order to indicate states of signals between the exposure unit(10) and the coating and developing unit(20).

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体制造的光刻系统，以通过使用包括多个发光元件的板来指示曝光单元和涂覆显影单元之间的信号状态。 构成：用于半导体制造的光刻系统包括曝光单元（10），涂层和显影单元（20），界面台（30）和板（40）。 涂布和显影单元（20）连接到曝光单元（10）。 界面级（30）用于在曝光单元（10）和涂层显影单元（20）之间传送基板。 为了表示曝光单元（10）和涂覆显影单元（20）之间的信号状态，在基板（40）上形成多个发光元件。

公开(公告)号：KR1020060118196A

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：KR1020050040728

申请日：2005-05-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02 ,  B05B9/04 ,  B05D3/10

Abstract: An apparatus for dispensing a chemical having a canister and a method for controlling a pressure of the canister are provided to reduce an operation standby time by automatically ventilating the canister before bottles are replaced. An apparatus for dispensing a chemical includes a bottle(112), a canister(110), and a valve(150). The bottle is filled with chemicals. The bottom is mounted on the canister. The valve maintains the canister at a pressurized state, when the chemicals are dispensed from the bottle. The valve automatically vents the pressure inside the canister, when more chemicals are required, and automatically changes the canister back to the pressurized state, when the chemicals are supplemented. The valve includes a 3-way valve. The valve injects nitrogen or inertial gas into the canister, such that the canister is maintained at the pressurized state.

Abstract translation: 提供一种用于分配具有罐的化学品的设备和用于控制罐的压力的方法，以通过在更换瓶子之前自动通风来减少操作待机时间。 用于分配化学品的装置包括瓶（112），罐（110）和阀（150）。 瓶子里充满了化学物质。 底部安装在罐上。 当化学品从瓶中分配时，阀将加压状态保持在罐体的状态。 当需要更多化学物质时，阀门会自动排出罐内的压力，并在补充化学品时自动将罐改回加压状态。 该阀包括三通阀。 阀将氮气或惯性气体注入到罐中，使得罐保持在加压状态。

公开(公告)号：KR1020060082486A

公开(公告)日：2006-07-18

申请号：KR1020050002993

申请日：2005-01-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문윤정

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/324

Abstract: 본 발명은 냉각 플레이트의 상부면과 기판사이의 진공형성을 방지하여 기판 손상을 예방할 수 있는 기판 냉각 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기판 냉각 장치는 냉각 플레이트와; 상기 냉각 플레이트로/로부터 기판을 로딩/언로딩시키기 위한 리프트 부재; 상기 냉각 플레이트의 상면에 형성되어 상기 기판과 냉각 플레이트 상면 사이의 공기를 냉각 플레이트의 외곽으로 유도하는 홈을 포함한다.