公开(公告)号：KR100173936B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019950045701

申请日：1995-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  박홍수 ,  유성준 ,  이현재

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체장치의 제조에 필요한 화학용액을 개발하는 데 사용되는 검사용 용액조에 관한 것으로서, 그 구성은 용기(10)와; 상기 용기(10) 내에 복수의 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼수납부와; 상기 용기(10)내에서 상기 수납된 웨이퍼를 상하방향으로 이동시키는 웨이퍼이동부와; 상기 용기(10)를 덮는 두껑(20)을 포함한다. 상술한 검사용 용액조에 의하면, 반도체장치의 제조에 있어서 특정막질을 세정 또는 식각할 수 있는 화학용액의 개발에 적합할 뿐만 아니라, 웨이퍼를 수용하여서 반도체 장치의 제조에 필요한 화학용액을 효율적으로 검사할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970018146A

公开(公告)日：1997-04-30

申请号：KR1019950031046

申请日：1995-09-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박홍수

IPC: H01L21/302

Abstract: 세정장치가 부착된 건식식각 장치를 개시한다. 반도체 제조장치의 건식식각장치에 있어서, 건식식각 전후의 세정공정이 일관공정으로 가능하도록 세정모듈이 전송 챔버를 거쳐 건식식각챔버에 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 제조의 건식식각장치를 제공한다. 본 발명의 바람직한 실시예에서 상기 세정모듈은 웨이퍼가 회전 또는 정지상태에서 약액이 분사되면서 세정이 진행되고, 후에 건조는 웨이퍼가 단순 회전에 의하여 이루어진다. 상기 전송 챔버는 진공상태 및 N
2 제거작용중 어느 하나로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 파티클 제어능력 향상 이외에도 일관공정에 따른 처리량(Throughput) 향상, 설비 면적 감소등의 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1019960043307A

公开(公告)日：1996-12-23

申请号：KR1019950011625

申请日：1995-05-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박홍수 ,  채희선

IPC: H01L21/304

Abstract: 약액처리장치 중앙관리 시스템에 개시되어 있다. 본 발명에 의한 약액처리 중앙관리 시스템은, 약액조, 필터 및 이들의 공정변수들을 감지하기 위한 다수의 센서를 구비하는 약액처리장치들(wet chemical cleaning equipments), 상기 센서로들부터 감지된 데이터를 표시, 저장, 및 처리하여 상기 데이터를 전체적으로 중앙관리하도록 상기 약액처리장치와 연결된 하나의 주컴퓨터(main computer)를 구비한다.
따라서, 하나의 주컴퓨터를 통해 세정공정을 효율적으로 중앙관리할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970030435A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950045701

申请日：1995-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  박홍수 ,  유성준 ,  이현재

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체장치의 제조에 필요한 화학용액을 개발하는데 사용되는 검사용 용액조에 관한 것으로서, 그 구성은 용기(10)와; 상기 용기(10)내에 복수의 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼수납수단와; 상기 용기(10)내에서 상기 수납된 웨이퍼를 상하방향으로 이동시키는 웨이퍼이동수단와; 상기 용기(10)를 덮는 뚜껑(20)을 포함한다. 상술한 검사용 용액조에 의하면, 반도체장치의 제조에 있어서 특정막질을 세정 또는 식각할 수 있는 화학용액의 개발에 적합할 뿐만 아니라, 웨이퍼를 수용하여서 반도체장치의 제조에 필요한 화학용액을 효율적으로 검사할 수 있다.