公开(公告)号：KR1020000018617A

公开(公告)日：2000-04-06

申请号：KR1019980036280

申请日：1998-09-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안낙준

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A diffusion furnace processing temperature control device of a diffusion installation is provided to achieve thickness uniformity of a layer deposited on a wafer by uniformly controlling temperature in a tube. CONSTITUTION: A diffusion furnace processing temperature control device of a diffusion installation comprises a plurality of temperature sensors installed on a lower wafer region divided into many regions to measure temperature of each of the regions, a controller creating a compensation control value for controlling analyzed temperature values of the regions, and a lamp driver controlling lamp strength with respective group.

Abstract translation: 目的：提供扩散装置的扩散炉加工温度控制装置，以通过均匀地控制管中的温度来实现沉积在晶片上的层的厚度均匀性。 构成：扩散装置的扩散炉加工温度控制装置包括多个温度传感器，其安装在被划分成多个区域的下部晶片区域上以测量每个区域的温度，控制器创建用于控制分析的温度值的补偿控制值 以及控制灯强度的灯驱动器。

公开(公告)号：KR200156691Y1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：KR2019960005194

申请日：1996-03-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병호 ,  안낙준

IPC: H01L21/20

Abstract: 작업자의 오조작에 의한 반도체용 가스의 순도 저하를 방지할 수 있는 반도체용 가스의 벨브장치에 대해 기재되어 있다. 본 고안에 따른 반도체용 가스의 밸브장치는, 반도체용 가스의 흐름을 수동으로 단속하기 위한 핸드벨브와, 상기 핸드벨브를 통과한 상기 반도체용 가스내에 포함된 불순물을 여과하기 위한 필터부와, 상기 필터부를 통과한 상기 반도체용 가스의 흐름을 일정하게 하는 레귤레이터를 구비하여 구성된 반도체용 가스의 벨브장치에 있어서, 상기 핸드벨브와 연계하여, 온/오프 상태가 서로 연동하여 반대로 설정되는 연동벨브를 추가로 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 고안에 따른 반도체용 가스의 벨브장치에 의하면, 핸드벨브와 함께 온/오프 상태가 반대로 설정되는 연동벨브를 설치함으로써, 핸드벨브의 오조작으로 인하여 반도체용 가스에 캐리어가스인 질소 가스등이 혼입되는 문제를 해소할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100475016B1

公开(公告)日：2005-04-14

申请号：KR1019970069968

申请日：1997-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안낙준 ,  박춘호 ,  유병주 ,  이상우

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 내부에 빈 공간을 갖는 외부 튜브와, 상기 외부 튜브 내부에 일정 간격 이격되도록 설치되고 그 내부에 반도체 기판이 장착되는 보트를 포함하는 내부 튜브와, 상기 내부 튜브와 외부 튜브 사이의 공간에 가스가 흐로도록 하여 상기 내부 튜브와 외부 튜브 사이의 공간에서 상기 보트속의 반도체 기판쪽으로 수평으로 가스가 분사될 수 있는 복수개의 가스 분사구들을 갖는 가스 노즐을 포함하여 이루어지는 확산로의 반응 튜브를 제공한다. 상기 가스 노즐은 1∼50개 설치할 수 있으며, 상기 가스 분사구들의 지름은 0∼50mm이다. 본 발명의 확산로의 반응 튜브는 반도체 기판과 반도체 기판 사이의 수평방향으로 반응 가스를 분사시켜 줌으로써 반도체 기판 상에 균일한 막을 형성시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990065755A

公开(公告)日：1999-08-05

申请号：KR1019980001189

申请日：1998-01-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박춘호 ,  안낙준 ,  이상우 ,  소진호

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로, 특히 별도의 장소에 가스 공급 시스템을 구성하지 않고도 산화막 내의 움직이는 이온을 잡아주는 가스를 플로우할 수 있는 반도체용 가스 플로우 설비에 관한 것이다. 가스 공급 시스템은 반도체용 가스 플로우 설비 내에 산화막 내 움직이는 이온을 잡기위한 목적의 가스를 공급하기 위해 설치한다. 가스 공급 시스템은 수용성 액체 가스를 저장한 후 기포를 형성하여 제조 설비내로 가스를 플로우하고, 이때, 가스가 플로우되는 관은 PVDF 재질로 만든다.

公开(公告)号：KR1020000008107A

公开(公告)日：2000-02-07

申请号：KR1019980027789

申请日：1998-07-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안낙준 ,  박준현

IPC: H01L21/22

Abstract: PURPOSE: A diffusion process equipment having many injection nozzles is provided to form a uniform diffusion layer by injecting a process gas onto a wafer. CONSTITUTION: The equipment comprises a diffusion furnace; a wafer boat, formed in the diffusion furnace with many wafers loaded, having many injection nozzles; a gas supply supplying a supply gas to the injection nozzle mounted in the wafer boat; and a gas exhauster exhausting a gas remaining in the diffusion furnace, wherein the wafer boat includes an upper supporting member and a lower supporting member, the gas supply includes a gas supply source and a gas supply tube, and the gas exhauster includes a fuzzy nozzle, a fuzzy gas supply source, and an exhausting hole.

Abstract translation: 目的：提供具有许多注射喷嘴的扩散工艺设备，通过将工艺气体注入晶片来形成均匀的扩散层。 规定：设备包括扩散炉; 在扩散炉中形成有许多晶片的晶片舟，其具有许多注入喷嘴; 将供给气体供给到安装在晶片舟皿中的喷嘴的气体供给装置; 以及排出残留在扩散炉中的气体的排气器，其中，所述晶片舟包括上支撑构件和下支撑构件，所述气体供给包括气体供给源和气体供给管，所述排气器包括模糊喷嘴 ，模糊气体供应源和排气孔。

公开(公告)号：KR1019990050785A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970069968

申请日：1997-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안낙준 ,  박춘호 ,  유병주 ,  이상우

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 내부에 빈 공간을 갖는 외부 튜브와, 상기 외부 튜브 내부에 일정 간격 이격되도록 설치되고 그 내부에 반도체 기판이 장착되는 보트를 포함하는 내부 튜브와, 상기 내부 튜브의 내면에 상부에서 하부로 장착되고, 상기 내부 튜브와 외부 튜브 사이의 공간에 가스가 흐로도록 하여 상기 내부 튜브와 외부 튜브 사이의 공간에서 수평으로 가스가 분사되는 복수개의 가스 분사구들을 갖는 가스 노즐을 포함하여 이루어지는 확산로의 반응 튜브를 제공한다. 상기 가스 노즐은 1∼50개 설치할 수 있으며, 상기 가스 분사구들의 지름은 0∼50mm이다. 본 발명의 확산로의 반응 튜브는 반도체 기판과 반도체 기판 사이의 수평방향으로 반응 가스를 분사시켜 줌으로써 반도체 기판 상에 균일한 막을 형성시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020080017119A

公开(公告)日：2008-02-26

申请号：KR1020060078517

申请日：2006-08-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김홍근 ,  안낙준 ,  이재형

IPC: H01L21/22

Abstract: A vertical furnace device is provided to reduce loss of wafers by preventing the deterioration due to breakdown of a wafer. A thermocouple sensor tube(31) is fixed at one side of an inner surface of a single tube(12) by performing a welding process. The thermocouple sensor tube and the single tube are formed with one body. A hole is formed at a lower part of the single tube. The thermocouple sensor tube is protruded through the hole of the single tube to the outside of the single tube. The thermocouple sensor tube is bent and extended from the outside of the single tube to a top part of the inner surface of the single tube. A thermocouple sensor(32) is installed at the bent and extended parts of the thermocouple sensor tube.

Abstract translation: 提供了一种垂直炉装置，以通过防止由于晶片的击穿而导致的劣化来减少晶片的损耗。 通过执行焊接工艺，将热电偶传感器管（31）固定在单个管（12）的内表面的一侧。 热电偶传感器管和单管形成一体。 在单管的下部形成有孔。 热电偶传感器管通过单管的孔突出到单管的外部。 热电偶传感器管从单管的外部弯曲并延伸到单管内表面的顶部。 热电偶传感器（32）安装在热电偶传感器管的弯曲和延伸部分。

公开(公告)号：KR1020030037008A

公开(公告)日：2003-05-12

申请号：KR1020010067971

申请日：2001-11-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안낙준

IPC: H01L21/22

Abstract: PURPOSE: A wafer boat for a semiconductor fabricating apparatus is provided to reduce fabricating cost of a boat and prevent the boat from being deteriorated by unnecessary assembled parts by making the wafer boat composed of a single part. CONSTITUTION: A boat ring(110) is of a ring type. A settlement surface(120) in which a wafer is settled is inwardly and downwardly stepped in the upper portion of the inner circumference of the boat ring. An incised groove(130) that is upwardly exposed is formed on a side of the boat ring so that a wafer loading apparatus is loaded/unloaded into/from the incised groove.

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体制造装置的晶片舟，以减少船的制造成本，并且通过制造由单一部件构成的晶片舟，防止船由于不必要的组装部件而劣化。 构成：船环（110）是环形的。 其中晶片沉降的沉降表面（120）在舟形环的内圆周的上部中向内和向下台阶。 在舟形环的一侧形成向上露出的切口槽130，从而将晶片装载装置装入/从切割槽中卸载。

公开(公告)号：KR2019970056045U

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR2019960005194

申请日：1996-03-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병호 ,  안낙준

IPC: H01L21/20

公开(公告)号：KR1020000018614A

公开(公告)日：2000-04-06

申请号：KR1019980036277

申请日：1998-09-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박준현 ,  안낙준

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A method for controlling an air shower apparatus is provided to prevent an unnecessary operating of the air shower apparatus so as to reduce a power consumption. CONSTITUTION: A controlling method of an air shower apparatus comprises: a first step of monitoring all persons who come into/out of each room; a second step of determining whether to open or shut a door according to whether or not the persons come into the room and positions of the persons, and opening and shutting the door based on the determination; a third step of determining whether or not the persons are in each room, and operating the air shower apparatus in the corresponding room if there is the person; and a fourth step of opening the door after completion of the showering so that the person can be move out. In the first step, the position of the person is detected by detecting means which is respectively mounted at an entrance of the air shower apparatus, a center of each room and both side wall of each room. Thereby, since an inner space of the air shower apparatus is divided into a plurality of room, and the air shower apparatus is selectively operated according the position of the person, the efficiency of the air shower apparatus is increased.

Abstract translation: 目的：提供一种空气喷淋装置的控制方法，以防止空气喷淋装置的不必要的操作，从而降低功耗。 构成：一种空气淋浴装置的控制方法，其特征在于，包括：监视进入/离开每个房间的所有人的第一步骤; 根据人员是否进入人员的房间和位置以及基于该确定来打开和关闭门来确定是否打开或关闭门的第二步骤; 确定人员是否在每个房间中的第三步骤，并且如果有人，则在相应的房间中操作空气淋浴器具; 以及在完成淋浴之后打开门的第四步骤，使得人可以移出。 在第一步骤中，通过分别安装在空气淋浴器的入口，每个房间的中心和每个房间的两个侧壁的检测装置来检测人的位置。 因此，由于空气喷淋装置的内部空间被分成多个房间，并且根据人的位置选择性地操作空气淋浴装置，因此空气淋浴装置的效率增加。