公开(公告)号：KR100767355B1

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：KR1020010002724

申请日：2001-01-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김진석 ,  김진수 ,  양수근 ,  최동욱

IPC: G02F1/136

Abstract: 본 발명은 LCD 제조용 알루미늄의 습식 식각방법 및 그 장치에 관한 것으로, 특히 습식 식각방법에서 혼산자체의 특성은 변화시키지 않으면서 알루미늄의 전처리 과정과 식각과정을 동시에 수행하는 LCD 제조용 알루미늄의 습식 식각방법과 그 장치에 관한 것이다.
본 발명에서는 엑시머 자외선을 통하여 알루미늄 표면을 산화시킴으로써, 혼산자체의 특성은 변화시키지 않으면서 알루미늄과 혼산과의 습윤성을 개선시켜 알루미늄의 전처리 과정을 수행하고, 또한 1대의 식각장치에 엑시머 자외선 장치를 알루미늄 식각장치로 연결설치하여 인라인화함으로써 알루미늄 전처리 공정과 식각공정을 1대의 설비에서 동시에 처리할 수 있다.
알루미늄, 액정표시소자(LCD), 습식 식각방법, 엑시머 자외선, 전처리, 혼산, 산화

公开(公告)号：KR1020020061771A

公开(公告)日：2002-07-25

申请号：KR1020010002724

申请日：2001-01-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김진석 ,  김진수 ,  양수근 ,  최동욱

IPC: G02F1/136

Abstract: PURPOSE: A wet etching device of aluminium for an LCD(Liquid Crystal Display) and a method thereof are provided to improve the wettability with mixed acid, by oxidizing the aluminium surface before etching the aluminium by using an aluminium etching unit equipped with an excimer ultra-violet unit in line. CONSTITUTION: A wet etching device of aluminium for an LCD(Liquid Crystal Display) includes an excimer ultra-violet(UV) unit(10) for radiating excimer ultra-violet rays from a front end part of an inlet part of an aluminium wet etching unit to an aluminium or aluminium alloy film formed on a glass substrate, an aluminium etching part(20) containing a mixed acid for etching the aluminium, a deionized water rinsing part(30) for cleansing the etched aluminium with deionized water, and a drying part(40) for drying the cleaned aluminium, wherein the above parts are connected in line.

Abstract translation: 目的：提供一种用于LCD（液晶显示器）的铝的湿蚀刻装置及其方法，通过使用配备有准分子超声波的铝蚀刻单元，在蚀刻铝之前，通过氧化铝表面来改善混合酸的润湿性 紫罗兰单位在线。 构成：用于LCD（液晶显示器）的铝的湿蚀刻装置包括用于从铝湿蚀刻的入口部分的前端部分辐射准分子紫外线的准分子紫外（UV）单元（10） 单元到形成在玻璃基板上的铝或铝合金膜，含有用于蚀刻铝的混合酸的铝蚀刻部分（20），用去离子水清洗蚀刻的铝的去离子水漂洗部分（30）和干燥 用于干燥清洁的铝的部分（40），其中上述部分被连接在一起。

公开(公告)号：KR1020070022456A

公开(公告)日：2007-02-27

申请号：KR1020050076697

申请日：2005-08-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민 ,  양수근 ,  이건종 ,  이수원

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67207

Abstract: 공간 사용 효율이 향상된 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법이 개시된다. 기판 처리 장치는 제1 및 제2 공정 유닛들, 이송 유닛 및 세정 모듈을 포함한다. 제1 및 제2 공정 유닛들은 기판에 대한 공정을 수행한다. 이송 유닛은 제1 공정 유닛으로부터 제2 공정 유닛으로 기판을 이송한다. 세정 모듈은 이송 유닛의 상부에 배치되어, 이송 유닛 상에 배치된 기판을 세정한다. 따라서, 기판의 이송 및 세정이 함께 이루어져 기판 처리 장치의 공간 사용 효율이 향상된다.
기판, 박막, 세정, 컨베이어, 공간

公开(公告)号：KR100552282B1

公开(公告)日：2006-05-11

申请号：KR1019970080244

申请日：1997-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이수원 ,  김진수 ,  양수근

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 지지 패드가 부착되어 있으며 좌우로 일정한 거리를 이동할 수 있는 유리 기판 지지대와, 상하로 일정한 거리를 이동할 수 있는 아래판이 장착되어 있고, 축에 의하여 일정한 각도를 회전할 수 있는 투입대를 설치하였다. 투입대의 양측면 하부에는 좌우로 일정한 거리를 이동할 수 있도록 측면 롤러를 장착하였고, 투입대와 아래판에는 볼 베어링을 설치하였으며, 투입대는 수평면에 대하여 약간 기울어져 있다. 또, 유리 기판 묶음의 이송을 위해 바닥 및 측면에 유도 롤러가 설치되어 있는 투입 유도부와 롤러 이송 장치를 설치하였다. 또, 불량 유리 기판을 처리할 수 있는 장소를 따로 마련하였다.

公开(公告)号：KR100493766B1

公开(公告)日：2005-08-01

申请号：KR1019980015590

申请日：1998-04-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이유인 ,  김창국 ,  양수근

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 액정표시장치 제조용 식각설비의 기판 이송 툴 및 이의 기판 이송방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 유리기판과 마주보는 이송아암들의 밑면에 유리기판의 파손을 감지할 수 있는 다수개의 센싱장치, 예컨대, 광센서를 부착하고, 이를 통해, 유리기판의 손상여부가 아암 콘트롤러의 제어에 의해 지속적으로 선별되도록 함으로써, 손상된 유리기판의 회전 드라잉 공정 투입을 완벽히 차단할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040071858A

公开(公告)日：2004-08-16

申请号：KR1020030007765

申请日：2003-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백용식 ,  양수근

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A filter apparatus used in fabricating a semiconductor device is provided to prevent a leakage of chemicals by including a pair of O-rings between a housing and a head so that if one of the pair of O-rings is damaged by corrosion or other reasons, the other is formed between the housing and the head. CONSTITUTION: A predetermined receiving space is provided by a housing(510). A head(520) is coupled to the housing. A filter(540) filters the chemicals passing through a filter apparatus(500), included in the receiving space. A plurality of O-rings prevents the chemicals from leaking to a gap between the housing and the head, included between the housing and the head.

Abstract translation: 目的：提供用于制造半导体器件的过滤装置，以通过在壳体和头部之间包括一对O形环来防止化学品泄漏，使得如果一对O形环中的一个被腐蚀或其它损坏 原因，另一个是在房屋和头部之间形成的。 构成：由壳体（510）提供预定的接收空间。 头部（520）联接到壳体。 过滤器（540）过滤穿过包含在接收空间中的过滤装置（500）的化学品。 多个O形环防止了化学品泄露到壳体和头部之间的间隙，包括在壳体和头部之间。

公开(公告)号：KR1020000018711A

公开(公告)日：2000-04-06

申请号：KR1019980036438

申请日：1998-09-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양수근 ,  이영식 ,  김창국

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  G02F2001/1316 ,  G02F2202/22 ,  H01L21/67034

Abstract: PURPOSE: An apparatus for drying LCD glass is provided, which installs an ion blower to an air knife for removing an electrostatic generated when removing a pure water. CONSTITUTION: An apparatus for drying LCD glass comprises: a conveyer (16) for transmitting an LCD glass (15) which a cleaning is progressed by a pure water; first to third air knifes (11,12,17) for emitting a high-temperature dry air to the LCD glass (15) from an upper and lower of the conveyer (16), wherein first to third air knifes (11,12,17) are connected to a high-temperature supplying pipe line (13); and ion blowers (31,32,33) to be installed to first to third air knifes (11,12,17) and for removing an electrostatic generated in the LCD glass (15), wherein ion blowers (31,32,33) emit an N2 ion. Thereby, it is possible to prevent which a badness of the LCD glass is occurred by the electrostatic.

Abstract translation: 目的：提供一种用于干燥LCD玻璃的设备，其将离子鼓风机安装到气刀上，以除去去除纯水时产生的静电。 构成：用于干燥LCD玻璃的设备包括：用于传输LCD玻璃（15）的输送机（16），清洁用纯水进行; 用于从所述输送机（16）的上部和下部向所述LCD玻璃（15）发射高温干燥空气的第一至第三空气刀（11,12,17），其中，第一至第三空气刀（11,12,17） 17）连接到高温供应管线（13）; 以及要安装到第一至第三空气刀（11,12,17）并用于去除在LCD玻璃（15）中产生的静电的离子鼓风机（31,32,33），其中离子鼓风机（31,32,33） 发出N2离子。 由此，可以防止由于静电导致LCD玻璃的不良现象。

公开(公告)号：KR200143051Y1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR2019960007415

申请日：1996-04-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양수근

IPC: H01L21/20

Abstract: 반응조의 용액에 넣어진 반응대상물들을 양극산화반응시킨 직후에 수위조절 수단을 이용하여 상기 반응조의 배출구를 폐쇄시킨 상태에서 상기 용액의 수위를 상기 반응대상물의 상측부의 높이보다 높게 상승시키고나서 상기 반응조의 배출구를 개방시켜 상기 반응대상물이 상기 용액의 표면에 발생하는 부유물들에 의해 오염되지 않도록 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100911466B1

公开(公告)日：2009-08-11

申请号：KR1020030007765

申请日：2003-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백용식 ,  양수근

IPC: H01L21/302

Abstract: 약액의 누수를 방지할 수 있는 반도체 장치 제조에 사용되는 필터장치를 개시한다. 필터장치는 수납공간을 제공하는 하우징, 하우징과 결합하는 헤드 및 수납공간 내에 구비되는 필터를 포함한다. 하우징과 헤드와의 사이에는 쌍을 이루는 오링이 구비된다. 이로써, 약액이 필터장치를 경유할 때 하우징과 헤드와의 결합 틈새로 누수되는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100580403B1

公开(公告)日：2006-05-15

申请号：KR1019990051366

申请日：1999-11-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양수근 ,  김진수 ,  김진석 ,  최동욱 ,  임정택 ,  변성준 ,  정재우

IPC: B65G49/07

Abstract: 이 발명은 이중 설비 시스템 및 그 제어 방법을 개시한다. 제1 설비 및 제2 설비가 인라인으로 구성된 이중 설비 시스템에서, 다수의 기판이 랏단위로 처리되도록 수납되어 있는 카세트가 제1 대기부 또는 제2 대기부로 이송되면 설비 제어기는 호스트로부터 각 랏의 작업 모드를 전송받아서 해당 작업 모드에 따라 각 랏에 대한 작업을 수행한다. 하나의 랏에 대하여 제1 설비의 제1 공정만을 수행하거나, 제2 설비의 제2 공정만을 수행할 수 있으며, 또한 하나의 랏에 대하여 제1 공정 및 제2 공정을 순차적으로 수행하거나, 제2 공정 및 제1 공정을 순차적으로 수행할 수 있다. 그리고 하나의 설비에서 기판이 처리되고 있는 도중에 다른 설비의 구동이 중지되면, 처리되던 기판의 공정을 완료한 다음에 처리된 기판을 제1 또는 제2 대기부의 빈 카세트에 언로딩시켜 대기시킨 후에, 구동이 중지된 설비가 복구되면 대기시킨 기판을 복구된 설비로 로딩시켜 해당 공정을 수행한다. 이에 따라 하나의 설비가 고장난 경우에도 작업이 계속하여 수행됨으로써 작업 지연을 방지할 수 있다. 따라서, 설비 이용 효율 및 작업 진행 효율 등이 향상되어 생산성이 향상된다.
TFT, LCD, 자동화시스템, 이중설비