公开(公告)号：KR1020170035650A

公开(公告)日：2017-03-31

申请号：KR1020150134815

申请日：2015-09-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄정환 ,  박성문 ,  김동욱

IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32119 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/3266

Abstract: 본발명의기술적사상은플라즈마공정에의플라즈마의밀도분포를균일하게할 수있는유전체윈도우, 그윈도우를포함한플라즈마공정시스템, 및그 시스템을이용한반도체소자제조방법을제공한다. 그유전체윈도우는제1 유전체물질로형성되고, 플라즈마챔버의내부로향하는제1 면과상기제1 면에반대되는제2 면을구비하며, 상기제2 면에자기장조절용홈이형성된다.

Abstract translation: 本发明的技术特征提供了一种等离子处理系统，使用该系统mitgeu，包括电介质窗口中的半导体装置的制造方法，该窗口可以由等离子体工艺的均匀的等离子体密度分布。 电介质窗由第一介电材料形成，且相对面向到等离子体腔室的内部的第一表面上的第一表面的第二表面，形成磁场的第二表面上的槽调整。

公开(公告)号：KR1020170029076A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：KR1020150125718

申请日：2015-09-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 석철균 ,  강태균 ,  엄정환 ,  최창원

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32642 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32697 ,  H01J37/32715

Abstract: 본발명은링 부재및 그를포함하는기판처리장치를개시한다. 그의장치는월 라이너, 정전척, 및링 부재를포함한다. 링부재는포커스링과사이드링을포함한다. 사이드링은상기사이드링은상기링 부재의바닥에서부터상기링 부재의상부로연장하고, 상기링 부재의상부로부터상기링 부재의외부측벽으로연장한다.

Abstract translation: 衬底处理系统包括壁衬，壁衬中的用于保持衬底的静电吸盘，以及包括聚焦环和侧环的环构件。 聚焦环位于静电卡盘的边缘区域上，侧环包围聚焦环的外侧表面和静电卡盘的侧表面。 侧环包括从环形构件的底表面朝向环形构件的顶部延伸并从环形构件的顶部朝向环形构件的外侧表面延伸的气孔。