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公开(公告)号:KR101991380B1
公开(公告)日:2019-06-20
申请号:KR1020120081898
申请日:2012-07-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 정성곤
IPC: H01L21/027
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公开(公告)号:KR100618811B1
公开(公告)日:2006-08-31
申请号:KR1020010014305
申请日:2001-03-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 반도체 소자 제조를 위한 위상 반전 마스크 및 그 제조 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 위상 반전 마스크는 투명 기판, 투명 기판상에 형성되고, 0보다 큰 제1 광투과율을 갖는 제1 위상 반전막으로 이루어진 주패턴 및 주패턴의 주위의 투명 기판상에 형성되고, 주패턴과 동일하게 위상 반전을 일으키며, 노광시 웨이퍼에 패턴으로 전사되지 않으면서, 제1 광투과율보다 작은 제2 광투과율을 갖는 적어도 1개의 보조패턴을 포함한다.
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公开(公告)号:KR100577610B1
公开(公告)日:2006-05-10
申请号:KR1020030048223
申请日:2003-07-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/11
CPC classification number: H01L27/088 , G11C11/412 , H01L27/0203 , H01L27/1104 , Y10S257/903
Abstract: 공정 마진이 증가된 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. 반도체 기판의 단위 셀 영역 내에 P형 도핑 영역 및 N형 도핑 영역이 구비된다. 상기 P형 도핑 영역 및 N형 도핑 영역에 제1 피치를 갖도록 배치되는 액티브 패턴들이 구비된다. 상기 액티브 패턴들 상에, 제2 피치를 갖고 액티브 패턴과 수직한 방향으로 배치되는 게이트 패턴들이 구비된다. 상기 액티브 패턴 및 게이트 패턴 각각은 동일 피치를 가지므로 공정 마진을 증가시킬 수 있다.
Abstract translation: 根据本发明的一些实施例,提供掺杂有P型杂质的衬底。 在衬底中掺杂N型杂质以将衬底分成P型杂质区和N型杂质区。 在P型和N型杂质区中形成具有第一间距的有源图案。 具有第二间距的栅极图案在与有源图案基本垂直的方向上形成在有源图案上。 描述和要求保护其他实施例。
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公开(公告)号:KR1020060030239A
公开(公告)日:2006-04-10
申请号:KR1020040079042
申请日:2004-10-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70466 , G03F1/00 , G03F1/70 , G03F1/144 , G03F1/32
Abstract: 반도체 소자 제조용 마스크 및 그 제조방법을 제공한다. 이 마스크 세트는 제 1 하프톤 패턴이 형성되어 상기 제 1 패턴 영역을 정의하는 제 1 노광 영역을 포함하는 제 1 마스크 레이어와, 바이너리 패턴 및 제 2 하프톤 패턴이 형성되어 상기 제 2 패턴 영역을 정의하는 제 2 노광 영역을 포함하는 제 2 마스크 레이어를 포함한다. 바이너리 패턴과 하프톤 패턴으로 구성된 제 2 마스크 레이어를 사용함으로써 제 1 마스크 레이어를 사용하여 1차 노광한 후 하프톤막과 차광막의 오정렬 및 레지스트레이션으로 인해 유발되는 1차 노광의 이상 노광을 2차 노광에서 보정할 수 있다.
Abstract translation: 提供了一种用于半导体器件制造的掩模及其制造方法。 掩模组包括其中形成有第一半色调图案并且限定第一图案区域的第一掩模层以及其上形成有二元图案和第二半色调图案的第二掩模层, 以及第二掩模层,其包括限定第二曝光区域的第二曝光区域。 使用第二掩模层的二进制图案和半由音调由图案的第一通过使用掩模层,主曝光的一个或多个曝光进行曝光伯,其由在第二曝光的错位和半tonmak的登记和遮光膜引起的 可以纠正。
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公开(公告)号:KR1020040081678A
公开(公告)日:2004-09-22
申请号:KR1020030016303
申请日:2003-03-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A method for forming a pattern using photolithography processing is provided to improve etch process margin by using two photoresist layer having different absorption coefficient. CONSTITUTION: The first photoresist layer(311) is formed on a semiconductor substrate(100) with an etch target layer(200). The second photoresist layer(351) having different absorption coefficient is formed on the first photoresist layer. The second photoresist layer is selectively exposed using an optical source, such as 193 §^. That is, the first photoresist layer has a relatively high absorption coefficient compared to the second photoresist layer in the wavelength of 193 §^. By baking, an acid generated in the second photoresist layer is diffused to the first photoresist layer. By developing the resultant structure, a photoresist pattern(300) is then formed.
Abstract translation: 目的:提供使用光刻处理形成图案的方法,以通过使用具有不同吸收系数的两个光致抗蚀剂层来改善蚀刻处理余量。 构成:第一光致抗蚀剂层(311)用蚀刻目标层(200)形成在半导体衬底(100)上。 在第一光致抗蚀剂层上形成具有不同吸收系数的第二光致抗蚀剂层(351)。 使用光源例如193§^选择性地曝光第二光致抗蚀剂层。 也就是说,与波长193ns的第二光致抗蚀剂层相比,第一光致抗蚀剂层具有相对较高的吸收系数。 通过烘烤,在第二光致抗蚀剂层中产生的酸被扩散到第一光致抗蚀剂层。 通过显影所得到的结构,然后形成光致抗蚀剂图案(300)。
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公开(公告)号:KR200247737Y1
公开(公告)日:2001-10-27
申请号:KR2019990009113
申请日:1999-05-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 정성곤
IPC: H04N5/63
Abstract: 개시된 영상 표시장치의 피드백 전압 안정화 회로는 영상 표시장치의 모드를 전원절전모드로 전환하는 경우 다이오드를 이용하여 안정된 보조전원을 공급하여 피드백 전압을 안정화하는 것에 관한 것이다.
본 고안은 플라이백 변압기의 1차측 권선에 연결된 전원 제어회로를 이용하여 1차측 권선으로 유입되는 AC 전원에 의해 에너지를 축적하고, 이 축적된 에너지를 2차측으로 전도하여 복수의 직류전압을 발생, 출력하여 부하단으로 공급하는 파워단을 갖는 영상 표시장치에 있어서, 부하단으로 공급되는 전압을 피드백할 수 있도록 증폭시켜 전송하는 증폭부와 전송부로 구성되는 피드백 회로부와, 상기 피드백 회로부로 14V 전원이 공급되도록 하는 스위치와, 피드백 회로부에서 피드백되는 전압에 의해 플라이백 변압기의 1차측 권선에 에너지를 축적하여 2차측 권선으로 전도되도록 제어하는 전원 제어부와, 전체 모드를 전원절전모드로 전환하는 경우, 정상모드시 충전된 전류가 피드백 회로부로 유입되는 것을 차단하는 차단회로부로 구성된다.
본 고안은 회로의 동작상태와 관계없이 출력로드를 언제든지 끊어 회로의 출력 와트수를 줄일 수 있고, 전원 절전모드의 경우 보조전원인 35볼트의 전원라인에 구비된 캐패시터의 영향을 받지 않는다는 효과를 제공한다.-
公开(公告)号:KR100201306B1
公开(公告)日:1999-06-15
申请号:KR1019960038307
申请日:1996-09-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 정성곤
IPC: G06F13/00
CPC classification number: H04N21/4122 , G06F3/1454 , G09G2320/06 , H04N21/4143 , H04N21/4325 , H04N21/436 , H04N21/4854
Abstract: 개시된 내용은 화상통신시스템에 있어서, 시리얼로 연결된 다수개의 서브모니터간에 상호 통신하기 위한 통신장치 및 통신장치를 제어하기 위한 프로그램을 이용하여 회의실용으로 사용되는 다수개의 서브모니터들의 각 기능을 모니터에서 제어하기 위한 화상통신시스템의 모니터제어장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 장치는 비디오테이프 재생기록장치 및 컴퓨터를 연결하여 사용할 수 있도록 신호처리가 가능하고, 또한 한 개의 모니터에 다른 모니터를 연결하여 비디오테이프 재생기록장치 및 컴퓨터로부터 전송되는 신호를 동시에 디스플레이하는 모니터에 있어서, 다수개의 모니터중 셋업될 모니터를 선택 및 셋업하기 위해 모니터로부터 출력되는 제어데이터를 수신하는 통신부와, 통신부를 통해 전송된 제어데이터가 수신모니터에 해당하는 경우 제어데이터에 응답하여 모니터를 셋업하고, 해당되지 않는 경우 다음 서브모니터로 제어데이터를 송신하는 마이크로 컴퓨터로 구성된다.
따라서, 본 발명은 화상통신시스템에 있어서 회의실용으로 사용되는 다수개의 서브모니터를 메인모니터에서 제어할 수 있는 효과를 제공하는데 있다.-
公开(公告)号:KR1019990038641A
公开(公告)日:1999-06-05
申请号:KR1019970058462
申请日:1997-11-06
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 정성곤
IPC: H04Q9/00
Abstract: 본 발명은 디스플레이 모니터에서 쌍방향 통신이 가능한 원격 제어 장치 및 방법에 관한 것으로, 디스플레이 모니터를 원격 제어하는 장치에 있어서, 원격제어신호를 빛신호로 변환시킨 원격제어신호를 발생하여 송신하고 송신된 원격제어신호가 리턴되어 수신되면 출력 및 리턴된 원격제어신호를 비교하여 같은지를 확인한 후 같으면 재송신하는 리모콘과, 상기 원격제어신호를 인가받아 빛신호에서 전기신호로 변환시켜 수신 받은 후 다시 전기신호에서 빛신호로 리턴시켜 상기 리모콘으로 송신한 후 리모콘에서 재송신되는 원격제어신호를 수신받아 원격제어신호에 따라 실행되는 디스플레이 모니터로 구성됨을 특징으로 하는 디스플레이 모니터로 구성하여, 리모콘을 이용하여 디스플레이 모니터를 원격으로 제어시 리모콘에서 송신된 원격제어 신호가 외부 공중파에 의해 간섭되어 디스플레이 모니터가 오동작되는 것을 방지도록 함에 있다.
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公开(公告)号:KR2019980063652U
公开(公告)日:1998-11-25
申请号:KR2019970008193
申请日:1997-04-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 정성곤
IPC: G06F3/16
Abstract: 본 고안은 시간대별 사운드 출력 레벨을 제한하므로써 주간에 출력되었던 사운드 출력 레벨 그대로 야간에 출력되어 사용자가 놀라는 것을 방지할 수 있는 사운드 출력 레벨 제한 기능을 갖는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
마이컴에 저장된 사운드 출력 레벨 및 각 방송국 사운드 출력레벨에 따라 사운드 앰프회로를 출력 볼륨을 조절하여 사운드 앰프회로를 통해 출력되는 사운드 레벨을 일정 레벨로 제한하도록 구성되어 시각의 변동에 따라 스피커를 통하여 출력되는 사운드의 출력레벨을 제한하므로써, 야간에 갑자기 출력되는 고음에 의해 사용자나 주변 사람들이 놀라는 것을 방지할 수 있는 효과를 가진다. -
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