公开(公告)号：KR1020000007261A

公开(公告)日：2000-02-07

申请号：KR1019980026481

申请日：1998-07-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최동식 ,  강동수 ,  김용수 ,  주교철

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: The system improves the endurance and the reparability of a facility by making the cleaning of a cooling line(5) easy by installing a by-pass line(7). CONSTITUTION: The cooling system cools the facility by cycling a cooling water in the cooling line passing through the facility and has a flow meter(6) installed to control the flow the cooling water. The by-pass line detouring the flow meter is installed in the cooling line so that some of the cooling water can flow without going via the flow meter, and a valve opening and shutting the by-pass line by receiving the open/shut signal of a control part(8) is installed in the by-pass line.

Abstract translation: 目的：通过安装旁路线（7），使冷却线（5）的清洁变得容易，该系统提高了设备​​的耐久性和可修复性。 构成：冷却系统通过循环通过设备的冷却管线中的冷却水来冷却设备，并具有安装用于控制冷却水流量的流量计（6）。 迂回流量计的旁路线安装在冷却管线中，使得一些冷却水可以流过而不经过流量计，并且通过接收旁路线路的开/关信号来接通旁路线路 控制部（8）安装在旁路线路中。

公开(公告)号：KR1020060082306A

公开(公告)日：2006-07-18

申请号：KR1020050002827

申请日：2005-01-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 구경모 ,  박래삼 ,  주교철

IPC: H01L21/28

CPC classification number: H01L21/76828 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76849

Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 비아 콘택 형성방법 및 그 구조에 관한 것이다. 본 발명에서는, 하부 배선 및 상부 배선을 전기적으로 연결시키는 비아 콘택을 구현함에 있어서, 상기 하부 배선을 0~100℃의 낮은 온도하에서 형성한 뒤, 상기 알루미늄막의 일부 상부 표면을 노출시키는 비아홀을 형성한다. 그리고, 상기 비아홀의 내부에 베리어막을 300~500℃의 고온 공정하에서 형성함으로써, 낮은 온도에서 형성된 상기 알루미늄막이 액티베이션되어 비아홀을 통해 상부로 부풀어오르도록 한다. 그 결과, 상기 부풀어오른 알루미늄막의 높이만큼 비아홀의 종횡비가 감소되어 갭 필 마진이 보다 확보되며, 이처럼 확보된 갭 필 마진으로 인하여 비아 콘택으로서 기능하는 도전물질의 필링 특성이 향상되어 전체 반도체 소자의 신뢰성이 우수해진다.

반도체, 금속 배선, 비아, 블랙 비아, 말뚝 디펙

公开(公告)号：KR1020000008537A

公开(公告)日：2000-02-07

申请号：KR1019980028405

申请日：1998-07-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 주교철

IPC: G01K1/08

Abstract: PURPOSE: A thermoelectric thermometer is provided to prevent the failure in process by enhancing the stabilities of a temperature measuring working and a temperature control working. CONSTITUTION: The present invention discloses a thermoelectric thermometer comprising:a thermocouple(1) generating thermal electromotive force according to the temperature; and supporting members(2,8) having a through hole which the thermocouple is inserted into. Further, the thermocouple(1) is a spike-type thermocouple having a long and thin rod shape, and the supporting members are a hexagon block. Further, the supporting members further comprise a coupler for fixing the thermocouple. And, the coupler is consisted of a screw through hole(11) crossing with the through hole(10) formed in the supporting member and a screw(12) coupled to the screw through hole.

Abstract translation: 目的：提供热电温度计，通过提高温度测量工作和温度控制工作的稳定性来防止过程中的故障。 构成：本发明公开了一种热电温度计，包括：热电偶（1），根据温度产生热电动势; 以及具有热电偶插入的通孔的支撑构件（2,8）。 此外，热电偶（1）是具有长而薄的棒状的尖峰型热电偶，并且支撑构件是六边形块。 此外，支撑构件还包括用于固定热电偶的耦合器。 并且，联接器由与形成在支撑构件中的通孔（10）交叉的螺钉通孔（11）和与螺钉通孔联接的螺钉（12）组成。

公开(公告)号：KR1020060095018A

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：KR1020050015859

申请日：2005-02-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배동관 ,  고영범 ,  김정주 ,  박래삼 ,  주교철

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32862 ,  C23C16/4407

Abstract: 본 발명은 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 금속 증착챔버의 실드 세정방법을 개시한다. 그의 세정방법은, 실드 표면에 유발된 이물질을 물리적으로 이탈시키기 위해 상기 실드를 비드 처리하는 단계; 상기 비드 처리된 상기 실드를 제 1 연마하는 단계; 상기 제 1 연마가 완료된 상기 실드를 제 1 세정하는 단계; 상기 제 1 세정된 상기 실드를 베이킹 시키면서 질소가스에 반복적으로 노출시켜 제 1 건조하는 단계; 상기 제 1 건조된 상기 실드의 표면에서 상기 금속 이물질을 전기적으로 이탈시키기 위해 상기 실드를 플라즈마 처리하는 단계; 상기 플라즈마 처리된 상기 실드를 제 2 연마하는 단계; 상기 제 2 연마된 상기 실드를 제 2 세정하는 단계; 및 상기 제 2 세정된 상기 실드를 베이킹 시키면서 상기 질소가스에 반복적으로 노출시켜 제 2 건조하는 단계를 포함함에 의해 종래의 단순 물리적 방법의 세정에 비해 신뢰성을 높일 수 있기 때문에 생산성을 향상시킬 수 있다.
실드(shield), 챔버(chamber), 단속기, 연마(polishing), 플라즈마(plsma)

公开(公告)号：KR1020000020879A

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019980039670

申请日：1998-09-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 주교철 ,  류춘욱

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An error inspection tool of semiconductor wafer boats is provided to prevent a crack and an error of wafers by easily and freely controlling the distance between a slot bar and an align bar. CONSTITUTION: A tool comprises a tool body(61) and a plurality of align bars(64). The tool body(61) is loaded in both sides of slot bars of a wafer boat to guide in accordance with the slot bars. The align bars(64) are connected to the tool body(61) for easily and freely controlling the distance according to one side of the tool body(61) and contact with sides of the slot bar. The tool body(61) and the align bar(64) are both coupled with a connector(63). The connector(63) is made of polyetrafluoroetylene.

Abstract translation: 目的：提供半导体晶片舟的误差检测工具，通过容易且自由地控制狭槽条和对准杆之间的距离来防止晶片的裂纹和误差。 构成：工具包括工具主体（61）和多个对准条（64）。 工具主体（61）装载在晶片舟的槽条的两侧，以根据槽条引导。 对准杆（64）连接到工具主体（61），以容易且自由地控制根据工具主体（61）的一侧的距离并与槽条的侧面接触。 工具主体（61）和对准杆（64）都与连接器（63）相连。 连接器（63）由聚四氟乙烯制成。

公开(公告)号：KR100289164B1

公开(公告)日：2001-06-01

申请号：KR1019980039670

申请日：1998-09-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 주교철 ,  류춘욱

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼보트의 불량검사용 공구에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 웨이퍼보트의 불량검사용 공구는 검사할 웨이퍼보트의 양측 슬롯바아에 안착되어 상기 양측 슬롯바아를 따라 안내되는 공구몸체; 및 상기 공구몸체의 일측면에 그 길이 방향을 따라 수직상으로 병립되고, 공구몸체의 상기 일측면을 따라 간격 조절이 가능하도록 상기 공구몸체와 연결되어 상기 양측 슬롯바아의 내측에 배치된 슬롯바아의 측면과 각각 접촉되는 복수의 정렬바아;를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼보트의 불량검사용 공구를 사용하는 경우에, 검사할 슬롯바아와 밀착되는 정렬바아의 간격 조절이 자유로우므로 모든 석영재질의 웨이퍼보트에 적용 가능하고, 그 웨이퍼보트에 구비된 슬롯바아의 휨 및 뒤틀림 등의 변형 상태를 사전에 정확히 인식할 수 있게 되어 웨이퍼의 파손 및 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020000008747A

公开(公告)日：2000-02-15

申请号：KR1019980028698

申请日：1998-07-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이득우 ,  정해웅 ,  주교철 ,  최종덕

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A process-stop control system of a semiconductor manufacturing apparatus is provided to prevent abnormal process such as abrupt process-stop caused by a careless mistake of a worker during a semiconductor manufacturing process by improving equipment circuit. CONSTITUTION: The process-stop control system comprises a process performing part having a plurality of cassettes(40); a control part for controlling the process performing part, a first switch(10) for performing a switch operation for stopping a downstream process and making an upstream process be standing by ready to be performed; and a second switch(20) for controlling the first switch by conducting a switching operation according to movement of the cassettes(40), the second switch(20) being coupled to the first switch.

Abstract translation: 目的：提供一种半导体制造装置的过程停止控制系统，用于通过改进设备电路来防止在半导体制造过程中由于工人的粗心大意的错误引起的突然的过程停止等异常处理。 构成：过程停止控制系统包括具有多个盒（40）的处理执行部分。 用于控制处理执行部分的控制部分，用于执行用于停止下游处理并使上游处理准备好执行的开关操作的第一开关（10） 以及第二开关（20），用于通过根据所述盒（40）的移动进行切换操作来控制所述第一开关，所述第二开关（20）联接到所述第一开关。