Abstract:
복수의 평면으로 구성된 입체상의 한 지점의 영상 정보를 보간하는 본 발명에 의한 영상 보간 방법은, 상기 지점에 가장 인접한 상기 평면을 검색하고, 상기 검색된 평면과 마주보는 상기 평면의 하나 이상의 정점의 영상 정보를 이용하여 대향면 정보를 구하고, 상기 검색된 평면의 하나 이상의 정점의 영상 정보 및 상기 구해진 대향면 정보를 이용하여 상기 지점의 영상 정보를 보간함으로써, 신뢰할 수 있는 보간값을 신속히 획득하는 효과를 갖는다.
Abstract:
본 발명에 의한 우선 순위를 결정하는 방법은, 제1 DMA 요청 블록과 메모리 간의 데이터를 전송하고, 전송된 데이터의 데이터 전송량과 소정의 최대 허용 전송량을 비교하며, 비교 결과 전송된 데이터 전송량이 소정의 최대 허용 전송량 이상인 경우 제1 DMA 요청 블록과 메모리 간에 전송되어야 할 데이터 전송량으로부터 전송된 데이터 전송량을 감산하여 잔존 데이터 전송량을 계산하고, 계산된 잔존 데이터 전송량에 기초하여, 제1 DMA 요청 블록보다 낮은 우선순위의 제2 DMA 요청 블록과 메모리 간의 데이터 전송 여부를 결정함으로써, 우선순위가 낮은 DMA 요청 블록과 메모리 간의 데이터 전송을 효율적으로 처리할 수 있는 효과를 가진다.
Abstract:
PURPOSE: A pipe line system employing diaphragm valve for manufacturing semiconductor device is provided to protect the diaphragm valve against outer impulse or environment and to prevent the valve from moving by fitting the controller into a frame. CONSTITUTION: A pipe line system employing diaphragm valve for manufacturing semiconductor device comprises: a diaphragm valve comprising a body(100), an inlet an outlet and a controller(130); and a frame(300) surrounding the diaphragm valve to protect it. The inlet is connected to the body. The outlet is opposed to the inlet and connected to the body(100). The controller(130) is connected to the body and controls gas flow rate into the outlet.
Abstract:
PURPOSE: A reaction gas provider for impurity diffusion of a wafer directly and accurately measures a pressure of POCl3 gas provided into a reaction furnace in P doping process on the wafer by using POCl3, and prevents a solidifying phenomenon of oxidation gas and an installation error. CONSTITUTION: A reaction gas provider for impurity diffusion of a wafer mounts a POCl3gas pressure sensor(200) to one pipe line(6) connected to the reaction furnace in POCl3 liquid storage receptacle(4), under the condition the gas providing line is not divided. Thereby, the reaction gas provider accurately measures a real reaction gas pressure, and prevents a gas stagnation, a gas solidifying phenomenon, and installation error. Also, the reaction gas provider removes POCl3 gas vent line and valve, and makes a gas provider of a simple construction.
Abstract:
PURPOSE: A cooling apparatus of a semiconductor manufacturing equipment is provided to independently control the operating power supply being supplied to each cooling pan, and, easily, repair a trouble of the cooling pan, and alarm a trouble state of a designated cooling pan. CONSTITUTION: A cooling apparatus of a semiconductor manufacturing equipment includes a large number of cooling pan(10 to 18) and an alarm means. The alarm means is that the large number of cooling pan is, in parallel, connected so as to be able to independently come off and on an operating power supply, that a large number of cooling pan is assembled by a bolt(22) assembled to a body through the cooling pan from the top of the cooling pan. The alarm means detects the number of rotations of the large number of cooling pan, respectively, and output an alarm signal when an abnormality is generated.