公开(公告)号：KR1020090020932A

公开(公告)日：2009-02-27

申请号：KR1020070085576

申请日：2007-08-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동훈 ,  정해영 ,  차병철 ,  한성재

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N1/4055 ,  G01N30/96 ,  G01N2001/4061 ,  G03F1/84 ,  Y10T436/25125 ,  H01L21/0274 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: An apparatus and a method of analyzing ions adsorbed on the surface of a mask are provided to separate ions absorbed in a mask surface within the short time accurately by using positive pressure to increase the boiling point of distilled water. A heating vessel(140) of the inside of a chamber(110) is filled with solvent of predetermined amount. A mask(180) dips in solvent within the heating container. Gas is supplied to the inside of the chamber and the inner pressure of the chamber is increased to constant pressure. As the solvent within the upper heating container is heated with constant temperature for constant time, the ion is separated from the surface of a mask. The solvent is sampled and analyzes the ion. The gas is purge gas.

Abstract translation: 提供分析吸附在掩模表面上的离子的装置和方法，通过使用正压以提高蒸馏水的沸点，在短时间内精确地分离吸收在掩模表面中的离子。 在室（110）内部的加热容器（140）中填充有预定量的溶剂。 掩模（180）在加热容器内溶于溶剂中。 气体被供应到室的内部，并且室的内部压力增加到恒定压力。 随着上部加热容器内的溶剂恒温恒温加热，离子与掩模表面分离。 对溶剂进行取样并分析离子。 气体是吹扫气体。

公开(公告)号：KR1020060083510A

公开(公告)日：2006-07-21

申请号：KR1020050004231

申请日：2005-01-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김민아 ,  김용훈 ,  차병철

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F1/82 ,  G03F1/84

Abstract: 결함성 부산물들을 제거하는 포토마스크 장비를 제공한다. 이 장비는 포토마스크 기판이 로딩되는 척(chuck), 로딩된 포토마스크 기판의 결함성 부산물들을 검출하는 검사 수단(inspection means), 및 세정 레이저를 사용하여 검사 수단에 의해 검출된 결함성 부산물들을 제거하는 세정 수단(cleaning means)을 포함한다. 이때, 세정 및 검사 수단들로 구성된 일군, 및 척으로 구성된 일군 중에 적어도 하나는 2차원적으로 수평이동이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020030093491A

公开(公告)日：2003-12-11

申请号：KR1020020031067

申请日：2002-06-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: H04M1/64

Abstract: PURPOSE: A multifunction machine having a TAM(Telephone Answer Machine) function and a method for connecting to voice mail system by using caller ID are provided to register mail systems in each group, and to recognize registered telephone numbers as caller IDs, thereby smoothly having a conversation between the groups. CONSTITUTION: An ID detector(320) detects a caller ID by inputting a ring signal. A voice mail system(340) registers telephone numbers. An ID comparator(330) compares the caller ID with a registered telephone number, and connects the ring signal to the voice mail system(340) if the caller ID is the same as the registered telephone number. A ring signal detector(310) detects the ring signal inputted to a line end. The voice mail system(340) registers voice messages of each user comprised in groups. An OGM(Out Going Message) processor(350) delivers an OGM to a user sending the ring signal, if the voice mail system(340) does not detect the caller ID.

Abstract translation: 目的：提供具有TAM（电话答复机）功能的多功能机和通过使用呼叫者ID连接到语音信箱系统的方法来登记每个组中的邮件系统，并将注册的电话号码识别为呼叫者ID，从而平滑地具有 组之间的对话。 构成：ID检测器（320）通过输入振铃信号来检测呼叫者ID。 语音邮件系统（340）注册电话号码。 如果呼叫者ID与注册的电话号码相同，ID比较器（330）将呼叫者ID与注册的电话号码进行比较，并将该铃声信号连接到语音信箱系统（340）。 振铃信号检测器（310）检测输入到线路端的振铃信号。 语音邮件系统（340）注册组中包含的每个用户的语音消息。 如果语音邮件系统（340）没有检测到呼叫者ID，则OGM（Out Going Message）处理器（350）向发送振铃信号的用户传送OGM。

公开(公告)号：KR1020000026360A

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019980043868

申请日：1998-10-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/26 ,  G03F1/144 ,  G03F1/32 ,  G03F1/46 ,  G03F1/72 ,  G03F1/80

Abstract: PURPOSE: An apparatus for developing photoresist is provided to manufacture a photo mask suitable for a manufacture of a high-integrated semiconductor device by forming a photoresist pattern for providing a uniform bias over all surfaces of the photo mask. CONSTITUTION: A rotating axis(13) is attached to a center portion of a lower surface of a photo mask loader(11), and supports the photo mask loader(11). The photo mask loader(11) has a same shape with a photo mask(M) on an upper surface opposed to the lower surface in which the rotating axis(13) is attached. The photo mask loader(11) has a groove with a depth which is equal to a thickness of the photo mask(M). A surface of the photo mask(M) and a groove surface of the photo mask loader(11) have same height each other when loading the photo mask(M) to the groove of the photo mask loader(11).

Abstract translation: 目的：提供一种用于显影光致抗蚀剂的设备，以通过形成用于在光掩模的所有表面上提供均匀偏压的光致抗蚀剂图案来制造适于制造高集成度半导体器件的光掩模。 构成：旋转轴（13）附接到光掩模装载器（11）的下表面的中心部分，并且支撑光掩模装载器（11）。 光掩模装载器（11）在与安装旋转轴（13）的下表面相对的上表面上具有与光掩模（M）相同的形状。 光掩模装载器（11）具有深度等于光掩模（M）的厚度的凹槽。 当将光掩模（M）加载到光掩模装载机（11）的槽时，光掩模（M）的表面和光掩模装载器（11）的槽表面具有相同的高度。

公开(公告)号：KR101240333B1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：KR1020070085576

申请日：2007-08-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동훈 ,  정해영 ,  차병철 ,  한성재

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N1/4055 ,  G01N30/96 ,  G01N2001/4061 ,  G03F1/84 ,  Y10T436/25125

Abstract: 반도체 소자의 패턴형성용 마스크의 표면에 잔류하는 이온을 분석하는 이온 분석 방법 및 장치를 개시한다. 이온 분석 방법은 먼저, 챔버 내부의 가열 용기내에 일정량의 용매를 채워준다. 이어서, 상기 가열 용기내에 채워진 상기 용매에 마스크를 담근다. 상기 챔버 내부로 개스를 공급하여 상기 챔버의 내부압력을 일정 압력까지 상승시켜 준다. 상기 가열 용기내의 상기 용매를 일정 온도로 일정시간 가열시켜 상기 마스크의 표면으로부터 이온을 분리시켜 준다. 상기 용매를 포집하여 상기 이온을 분석한다.

公开(公告)号：KR1020030001843A

公开(公告)日：2003-01-08

申请号：KR1020010037650

申请日：2001-06-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A semiconductor fabrication apparatus is provided to remove easily contaminants such as fumes from a surface of a wafer in a process of removing organic materials. CONSTITUTION: A support portion(52) is formed at a center of a chamber(50) having a predetermined space in order to load and support a wafer(70). A photoresist or an electron beam resist are coated on the wafer(70). The support portion(52) is formed with a support plate(52a) and a support bar(52b). The support plate(52a) is used for supporting the wafer(70). The support bar(52b) is used for supporting the support plate(52a). A plurality of nozzles(54) are formed at each upper portion of both sides of the support plate(52a) in order to inject a developing solution or a cleaning solution. The nozzle(54) is formed with a binary nozzle or a fan nozzle. An injection hole of the nozzle(54) is directed to a surface of the wafer(70). An exhaust portion(56) is installed on a wall of a chamber(50) in order to exhaust fumes(58) or contaminants.

Abstract translation: 目的：提供一种半导体制造装置，用于在除去有机材料的过程中容易地从晶片表面除去诸如烟雾的污染物。 构成：为了加载和支撑晶片（70），在具有预定空间的腔室（50）的中心处形成支撑部分（52）。 将光致抗蚀剂或电子束抗蚀剂涂覆在晶片（70）上。 支撑部分（52）形成有支撑板（52a）和支撑杆（52b）。 支撑板（52a）用于支撑晶片（70）。 支撑杆（52b）用于支撑支撑板（52a）。 在支撑板（52a）的两侧的每个上部形成有多个喷嘴（54），以便喷射显影液或清洁溶液。 喷嘴（54）由二进制喷嘴或风扇喷嘴形成。 喷嘴（54）的喷射孔被引导到晶片（70）的表面。 排气部分（56）安装在室（50）的壁上，以排出烟雾（58）或污染物。

公开(公告)号：KR1020010008829A

公开(公告)日：2001-02-05

申请号：KR1019990026855

申请日：1999-07-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/2024 ,  G03F1/68 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/32 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: Provided are a developing apparatus having vertical blast nozzles which can spread a developer on the whole photosensitive film and a process for producing a mask by using the developing apparatus. CONSTITUTION: The developing apparatus includes a first blast nozzle(80) located at the center of the photosensitive film and a second blast nozzle(82) located side by side with the first blast nozzle(80) between the first blast nozzle(80) and the edge of the photosensitive film, wherein the blast nozzles(80,82) exclude air. Further, the process for producing the mask(40) comprises the steps of: forming a light-shading film on an optically transparent substrate; coating the surface of the light-shading film with the photosensitive film; exposing the fixed area of the photosensitive film to an electronic beam; injecting the developer vertically onto the photosensitive film by using the blast nozzles(80,82) in order to remove the exposed area of the photosensitive film; etching the light-shading film; removing the photosensitive film.

Abstract translation: 目的：提供一种显影装置，其具有能够在整个感光膜上展开显影剂的垂直喷嘴，以及使用显影装置制造掩模的工艺。 构成：显影装置包括位于感光膜中心的第一喷射喷嘴（80）和与第一喷射喷嘴（80）并排设置在第一喷射喷嘴（80）和 感光膜的边缘，其中喷射喷嘴（80,82）排除空气。 此外，掩模（40）的制造方法包括以下步骤：在光学透明基板上形成遮光膜; 用感光膜涂覆遮光膜的表面; 将感光膜的固定区域暴露于电子束; 通过使用喷嘴（80,82）将显影剂垂直注入到感光膜上，以去除感光膜的曝光区域; 蚀刻遮光膜; 去除感光膜。

公开(公告)号：KR1019990012264A

公开(公告)日：1999-02-25

申请号：KR1019970035605

申请日：1997-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: H01L21/027

Abstract: 전자빔에 의해 반도체 기판에 침투한 전자가 후방산란을 일으켜서 인접하는 미세 패턴 형성에 장애가 되는 현상을 개선한 전자빔을 사용한 포토리소그래피 공정의 노광방법에 관하여 개시한다. 이를 위하여 본 발명은, 반도체 기판에 포토레지스트를 도포하고, 노광 광원으로 전자빔(electron beam)을 사용하여 반도체 기판에 미세 패턴을 형성하는 공정에 있어서, 반도체 기판에 전자빔을 조사하는 제1 단계와, 반도체 기판의 이면(back side)에서 플러스(+) 이온을 형성하여 전자빔의 후방산란을 억제하여 미세 패턴을 형성하는 제2 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 전자빔을 사용한 포토리소그래피 공정의 노광방법을 제공한다. 상기 반도체 기판의 이면(back side)에서 플러스(+) 이온을 형성하는 방법은, 반도체 기판의 이면에 플러스 바이어스(plus bias) 전원을 인가하거나, 반도체 기판의 이면에 플러스 이온을 샤워링(+ ion showering)하는 것이 적합하다.

公开(公告)号：KR1019970016755A

公开(公告)日：1997-04-28

申请号：KR1019950029317

申请日：1995-09-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: G03F1/70

Abstract: 마스크 제조 방법에 대해 기재되어 있다. 이는, 전자빔(E-Beam)을 광원으로 이용한 사진 공정을 행하여 마스크를 제조하는데 있어서, 석영기판 상에 광 차단막을 형성하는 제 1단계, 광 차단막 상에 박막의 제 1전자빔 레지스트를 도포하는 제 2단계, 박막의 제 1전자빔 레지스트를 노광/현상함으로써 석영기판을 노출시키는 제 1개구부가 형성된 제 1전자빔 레지스트 패턴을 형성하는 제 3단계, 제 1전자빔 레지스트 패턴이 형성되어 있는 석영기판 전면에 박막의 제 2전자빔 레지스트를 도포하는 제 4단계, 박막의 제 2전자빔 레지스트를 노광/현상함으로써 제 1개구부의 수직상단에 위치하고, 제 1개구부 보다 큰 제 2개구부가 형성된 제 2전자빔 레지스트 패턴을 형성하는 제 5단계 및 제 1 및 제 2전자빔 레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 광 차단막을 식각하는 제 6단계를 포함하는 것을 특징으로 다. 따라서 미세 구멍이 없는 광 차단 패턴을 갖는 마스크를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1020020019676A

公开(公告)日：2002-03-13

申请号：KR1020000052662

申请日：2000-09-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차병철

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/26 ,  G03F1/72 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: PURPOSE: Provided is a resist developing apparatus equipped with a mesh-shaped nozzle, which can spray a developer on a photomask uniformly, therefore, can maintain line breadth uniformly. CONSTITUTION: The resist developing apparatus(200) contains a chuck(100) mounted rotatively and laying the photomask(110) thereon and the mesh-shaped nozzle(210), mounted over the chuck(100), for spraying the developer on the photomask(110), wherein the nozzle(210) has a plurality of spray holes having a width of 1-2mm and the space between the nozzle(210) and the photomask(110) is 5-10mm and the whole width of the nozzle(210) is larger than or the same as the photomask(110).

Abstract translation: 目的：提供一种装有网状喷嘴的抗蚀剂显影装置，其可以均匀地在光掩模上喷涂显影剂，因此可以均匀地保持线宽。 构成：抗蚀剂显影装置（200）包含旋转安装的卡盘（100）和将光掩模（110）放置在其上并安装在卡盘（100）上的网状喷嘴（210），以将显影剂喷在光掩模上 （110），其中所述喷嘴（210）具有多个宽度为1-2mm的喷射孔，并且所述喷嘴（210）和所述光掩模（110）之间的空间为5-10mm，并且所述喷嘴的整个宽度 210）大于或等于光掩模（110）。