반도체 제조공정의 생산관리 시스템
    2.
    发明公开
    반도체 제조공정의 생산관리 시스템 无效
    半导体生产工艺生产控制系统

    公开(公告)号:KR1020040069821A

    公开(公告)日:2004-08-06

    申请号:KR1020030006363

    申请日:2003-01-30

    Abstract: PURPOSE: A production control system of a semiconductor production process is provided to enhance the productivity by controlling all process flows and all recipes. CONSTITUTION: A plurality of semiconductor production units(100) are used for producing semiconductor devices by using semiconductor substrates. A plurality of cassettes(110) are used for storing the semiconductor substrates to load the semiconductor substrate into the semiconductor production units. The cassettes have serial numbers. An ID unit(200) identifies the serial numbers of the semiconductor substrates when the cassettes are loaded. A work flow manager(300) stores and tracks the information of the cassettes, determining a processing state according to the serial numbers, transmitting a work command to one of the semiconductor production units.

    Abstract translation: 目的:提供半导体生产过程的生产控制系统,以通过控制所有工艺流程和所有配方来提高生产率。 构成:通过使用半导体衬底,多个半导体制造单元(100)用于制造半导体器件。 多个盒(110)用于存储半导体衬底以将半导体衬底加载到半导体生产单元中。 盒带有序列号。 ID单元(200)在装载盒时识别半导体衬底的序列号。 工作流程管理器(300)存储和跟踪盒的信息,根据序列号确定处理状态,将工作命令发送到半导体生产单元之一。

    인식 마크를 통한 반도체 웨이퍼 자동 인식 방법
    3.
    发明公开
    인식 마크를 통한 반도체 웨이퍼 자동 인식 방법 无效
    基于识别标记的半导体晶片自动识别方法

    公开(公告)号:KR1019970049816A

    公开(公告)日:1997-07-29

    申请号:KR1019950055732

    申请日:1995-12-23

    Inventor: 최재섭

    Abstract: 인식마크를 통한 반도체 웨이퍼 자동인식방법이 개시되어 있다. 본 발명은 인식마크를 통한 반도체 웨이퍼 자동인식방법에 있어서, 웨이퍼가 수용되는 카세트의 인식마크를 자동인식수단으로 인식하는 단계와 상기 카세트에 수용된 웨이퍼에 표시된 인식마크를 자동인식수단으로 인식하는 단계 및 상기 두 단계에서 얻은 인식마크를 자동적으로 결합하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 따라서, 간단한 웨이퍼 인식마크를 사용하는 경우에도 각 웨이퍼별로 자동인식이 가능하고 각 웨이퍼별로 데이터를 보관하고 이를 이용한 보고가 이루어질 수 있게 하는 효과를 가진다.

    반도체 장비의 실시간 제어 방법
    4.
    发明公开
    반도체 장비의 실시간 제어 방법 无效
    半导体设备的实时控制方法

    公开(公告)号:KR1019960042904A

    公开(公告)日:1996-12-21

    申请号:KR1019950014339

    申请日:1995-05-31

    Inventor: 최재섭 전일환

    Abstract: 반도체 생산 장치비의 각 단위공정 제어를 실시간(Real Time) 제어할 수 있는 제어방법이 개시된다.
    본 발명은 호스트 컴퓨터에 각 스텝별 및 항목별 최적조건 한계값을 설정하고 SECS 메시지를 이용하여 해당 장비로부터 보고되는 장비데이타를 상기 설정된 한계치와 비교하여, 작업자의 장비 조작 실수로 인한 공정의 이상, 장비 자체의 기능상의 결함으로 인한 공정 이상, 및 장비조건 설정치의 이상등과 같은 이상 발생시 장비를 즉시 가동 중지시키고 이를 장비 화면에 모니터링함으로써, 피해를 최소화하고 조속히 공정을 안정화할 수 있다.

    반도체 설비 관리 방법
    5.
    发明公开
    반도체 설비 관리 방법 无效
    半导体设施管理方法

    公开(公告)号:KR1019990050852A

    公开(公告)日:1999-07-05

    申请号:KR1019970070042

    申请日:1997-12-17

    Inventor: 최재섭

    Abstract: 본 발명은 반도체 제조 설비와 반도체 제조 설비의 공정 환경을 계측하는 계측 설비를 설비 제어 모듈에 의하여 양방향 통신 가능하게 온라인시키고, 설비 제어 모듈을 다시 호스트와 온라인시켜 설비 제어 모듈이 계측데이터를 호스트의 스펙 데이터와 비교 분석하여 반도체 설비에 이상이 발견되었을 때 이를 신속하게 경보 및 분석 가능토록 한 반도체 설비 관리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 의하면 반도체 설비의 공정 환경을 계측하기 위한 선행 공정을 진행하는 단계와, 선행 공정 결과에 따라서 계측 설비가 계측을 진행하도록 설비 제어 모듈이 계측 서버로 계측 명령을 내리는 단계와, 계측된 결과를 호스트에 저장하여 호스트에 기 설정되어 있는 스펙 데이터와 비교-분석하는 단계와, 비교-분석된 데이터에 의하여 설비 제어 모듈이 반도체 � �비를 셋팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    반도체 제조 설비 제어 방법
    6.
    发明公开
    반도체 제조 설비 제어 방법 失效
    半导体制造设施控制方法

    公开(公告)号:KR1019980073678A

    公开(公告)日:1998-11-05

    申请号:KR1019970009099

    申请日:1997-03-18

    Inventor: 최재섭

    Abstract: 본 발명은 반도체 제조 설비 제어 방법에 관한 것으로, 하나의 로트명 mid1에 각기 다른 공정명 Aproc, 공정명 Bproc이 중복 설정되어 있어 공정명 Aproc을 실행한 후, 공정명 Bproc을 실행할 때, 작업자의 실수로 로트명 mid1에 대한 중복된 공정명 Aproc을 삭제시키지 않고 공정명 Bproc을 진행하면, 로트명 mid1에 대해 각기 다른 공정명 Aproc, 공정명 Bproc이 중복 설정되어 있기 때문에 로트명 mid1에 대해 공정명 Aproc이 다시 진행되는 공정중복사고가 발생하게 되고, 로트명 mid1에 대해 공정명 Aproc, 공정명 Bproc이 진행되면 로트명 mid1으로 두 개의 로그(log)가 남게됨으로 데이터의 유실 및 데이터 구별에 어려움이 발생하며, 또한 작업자는 공정진행전에 공정을 진행할 로트명 mid1에 대한 공정명 Aproc을 확인하기 위해 제 1 모니터부와 제 2 모니터부를 모두 확인해야 하는 불편한 문제점을 제거하는 것을 목적으로 한다.
    이를 위해 본 발명에서는 상기 로트명 mid1과 상기 공정명 Aproc 또는 공정명 Bproc을 조합한 새로운 로트명을 이용하여 반도체 제조 설비에 설정함으로써 제 2 모니터부만으로 공정진행 확인이 가능하고, 로트명 mid1에 대해 각기 다른 공정명 Aproc, 공정명 Bproc이 설정되더라도 공정의 중복을 피할 수 있으며, 로트명 mid1에 대한 두 개 이상의 공정이 진행된 후 발생하는 로그(log)의 구별을 용이하게 할 수 있도록 한다.

    반도체 제조 설비 제어 방법
    7.
    发明授权
    반도체 제조 설비 제어 방법 失效
    半导体器件制造设备的控制方法

    公开(公告)号:KR100242953B1

    公开(公告)日:2000-02-01

    申请号:KR1019970009099

    申请日:1997-03-18

    Inventor: 최재섭

    Abstract: 반도체 제조설비 제어에 관한 방법이 개시된다. 반도체 제조설비에 복수개의 로트명 및 이 로트명에 대해 진행될 복수개의 공정명을 설정하고, 공정 진행 포토면 및 이에 대응하는 로트명을 입력하며, 입력된 로트명에 대한 반도체 제조설비의 가동 상태를 체크하고, 또한 입력된 로트명에 대한 설정된 공정명을 진행하고, 설정된 공정명을 진행한 후 공정진행결과에 대한 계측공정을 실시하며, 설정된 로트명들 각각에 대한 공정들이 모두 완료되었는지 판단한다. 판단결과, 설정된 로트명들 각각에 대한 공정들이 모두 완료되었으면 종료하고, 완료되지 않았으면 완료될때까지 차후 진행할 로트에 대해 상기 단계들을 반복 실행한다.

    반도체제조설비관리시스템의설비사전예방유지의주기관리방법

    公开(公告)号:KR1019990065485A

    公开(公告)日:1999-08-05

    申请号:KR1019980000804

    申请日:1998-01-14

    Abstract: 본 발명은 반도체 제조설비 관리시스템의 설비 사전예방유지의 주기 관리방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 호스트 및 설비들 사이에 소정의 PM 관리모듈을 구비하고, 이를 통해 설비들로부터 업로드 되는 다양한 가동 파라미터 값이 지속적으로 자동 점검되도록 함으로써, 첫째, 설비들의 PM 주기가 작업자의 개재 없이 일관성 있게 관리될 수 있고, 둘째, 작업자의 PM 주기 결정 오류에 따른 예측하지 못한 설비손상이 미연에 방지될 수 있으며, 셋째, 작업자의 전체적인 업무효율이 현저히 향상될 수 있다.

    반도체 공정의 최적화 증착시간 산출방법
    9.
    发明公开
    반도체 공정의 최적화 증착시간 산출방법 无效
    优化半导体工艺的沉积时间

    公开(公告)号:KR1019980067890A

    公开(公告)日:1998-10-15

    申请号:KR1019970004224

    申请日:1997-02-13

    Inventor: 최재섭

    Abstract: 본 발명은 컴퓨터를 이용하여 누계된 최적의 증착시간을 반도체 증착공정에 적용하여 증착막 두께의 균일성을 이루어 제품의 신뢰성을 줄 수 있도록 한 반도체 공정의 최적화 증착시간 산출방법에 관한 것으로서,
    본 발명에 따르면, 증착시간을 조절하여 증착공정을 실시하는 반도체 제조 공정에 있어서, 상기 웨이퍼 상에 증착된 막 두께를 측정하는 단계와; 상기 측정된 막 두께 데이터를 이용하여 소정의 연산 장치에 의해 소정의 연산식을 이용하여 증착시간을 산출하는 단계와; 상기 산출된 증착시간을 소정의 임시 기억 장소에 저장하는 단계를 포함하는 반도체 공정의 최적화 증착시간 산출방법을 개시한다.

    반도체제조설비관리시스템의설비사전예방유지의주기관리방법
    10.
    发明授权
    반도체제조설비관리시스템의설비사전예방유지의주기관리방법 失效
    半导体制造设备管理系统的设备的预防性维护期管理方法

    公开(公告)号:KR100319208B1

    公开(公告)日:2002-03-21

    申请号:KR1019980000804

    申请日:1998-01-14

    Abstract: 본 발명은 반도체 제조설비 관리시스템의 설비 사전예방유지의 주기 관리방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 호스트 및 설비들 사이에 소정의 PM 관리모듈을 구비하고, 이를 통해 설비들로부터 업로드 되는 다양한 가동 파라미터 값이 지속적으로 자동 점검되도록 함으로써, 첫째, 설비들의 PM 주기가 작업자의 개재 없이 일관성 있게 관리될 수 있고, 둘째, 작업자의 PM 주기 결정 오류에 따른 예측하지 못한 설비손상이 미연에 방지될 수 있으며, 셋째, 작업자의 전체적인 업무효율이 현저히 향상될 수 있다.

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