公开(公告)号：KR1020170044800A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：KR1020150144114

申请日：2015-10-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태화 ,  강병복 ,  박찬훈 ,  이재현 ,  김성협 ,  홍재익

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/54

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32816 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32844 ,  H01J37/3299 ,  H01J2237/006 ,  Y02C20/30

Abstract: 본발명의실시예에따르면기판처리장치가제공된다. 기판처리장치는공정챔버, 상기공정챔버에제 1 가스및 제 2 가스를주입하는공급라인, 상기공정챔버에연결되는배기라인및 상기배기라인에설치되어상기공정챔버내에가스를배기하는펌프를가지는배기유닛, 상기배기라인의제 1 지점에고정되어위치하는배기밸브, 상기배기라인과연결되어상기제 1 지점과상기펌프사이의제 2 지점으로제 3 가스를주입하는주입유닛및 상기공정챔버내의압력을측정하여상기주입유닛을조절하는제어부를포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，提供了一种衬底处理设备。 基板处理打浆处理室，注入第一气体和第二气体到处理腔室线的供应，安装在排气管线和连接到所述处理室的排放管线，其具有用于在处理室内排出气体的泵的排气 单元，在注射单元中的压力与处理室到排气阀，用于固定位于排气线路的所述第一分支被连接到所述排气管线注入的第三气体至第二点，所述第一点之间，并且所述泵 以及用于控制注射单元的控制单元。