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公开(公告)号：KR20210030545A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR1020190111656A
申请日：2019-09-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32623 , H01L21/67069 , H01L21/6831
Abstract: 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 에칭 장치는, 반도체 기판에 대한 플라즈마 에칭 공정이 수행되는 챔버의 내부에 에칭 가스를 공급하기 위한 에칭 가스 공급부, 상기 반도체 기판을 지지하고 고주파 RF 전원을 인가받아 상기 에칭 가스로부터 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성부, 상기 플라즈마 생성부에 상기 고주파 RF 전원을 공급하는 전원부, 및 상기 플라즈마 생성부 및 상기 전원부 사이에 연결되어 상기 고주파 RF 전원을 전달하고, 비동축 영역 및 동축 영역을 갖는 RF 피드를 포함하고, 상기 RF 피드의 반사계수는 0.1 이하일 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170002764A
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020150092375
申请日：2015-06-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/768 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L22/26 , H01J37/32963 , H01J2237/334 , H01L21/28008 , H01L21/31116 , H01L21/32135 , H01L22/12 , H01L27/11556 , H01L27/11582
Abstract: 반도체소자의제조방법을제공한다. 방법은, 제1 물질막들및 제2 물질막들이교번적으로적층된스택구조물의상부를식각반응가스의 EPD 신호를이용하여식각하고, 스택구조물의상부식각동안개구의깊이에대한제1 및제2 에천트들의주입시간함수를획득하여, 스택구조물의하부를함수를이용하여식각하는것을포함한다.
Abstract translation: 一种制造半导体器件的方法包括：在衬底上相互交替布置的第一材料层和第二材料层的叠层的蚀刻。 使用蚀刻反应气体的端点检测（EPD）信号来蚀刻堆叠的上部，并且获得蚀刻剂相对于开口深度的喷射时间的功能，同时堆叠的上部 被蚀刻。 使用所获得的功能蚀刻堆叠的下部。
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公开(公告)号：KR1020030042704A
公开(公告)日：2003-06-02
申请号：KR1020010073449
申请日：2001-11-23
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L43/062 , H04L43/028 , H04L43/08 , H04L65/608 , H04L69/22
Abstract: PURPOSE: A method for analyzing a multimedia packet in real time on the Internet is provided to classify RTP(Real-Time Transport Protocol) packets in real time, which are used in a multimedia traffic. CONSTITUTION: A network packet collecting unit collects packets from the Internet(100). A packet filter unit filters only packets using a UDP(User Datagram Protocol) among the collected packets(102). A data packet classifying unit checks whether the filtered packets use a well-known port, and discriminates packets which do not use the well-known port(106). A plug-in unit extracts fundamental information from the discriminated packets(110). The plug-in unit checks whether extracted fundamental information is identical to the characteristic of an RFT packet over the number of uniform times, and classifies the RTP packet among the discriminated packets(140,142).
Abstract translation: 目的：提供一种在互联网上实时分析多媒体数据包的方法，用于实时分类RTP（实时传输协议）数据包，用于多媒体业务。 规定：网络数据包收集单元从互联网收集数据包（100）。 分组过滤器单元仅使用收集的分组（102）中的UDP（用户数据报协议）过滤分组。 数据分组分类单元检查过滤的分组是否使用公知的端口，并且识别不使用公知端口（106）的分组。 插件单元从识别的分组（110）中提取基本信息。 插件单元检查提取的基本信息是否与均匀时间数量上的RFT分组的特征相同，并且在识别的分组（140,142）中对RTP分组进行分类。
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公开(公告)号：KR1020170044800A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：KR1020150144114
申请日：2015-10-15
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/32082 , H01J37/32816 , H01J37/32834 , H01J37/32844 , H01J37/3299 , H01J2237/006 , Y02C20/30
Abstract: 본발명의실시예에따르면기판처리장치가제공된다. 기판처리장치는공정챔버, 상기공정챔버에제 1 가스및 제 2 가스를주입하는공급라인, 상기공정챔버에연결되는배기라인및 상기배기라인에설치되어상기공정챔버내에가스를배기하는펌프를가지는배기유닛, 상기배기라인의제 1 지점에고정되어위치하는배기밸브, 상기배기라인과연결되어상기제 1 지점과상기펌프사이의제 2 지점으로제 3 가스를주입하는주입유닛및 상기공정챔버내의압력을측정하여상기주입유닛을조절하는제어부를포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，提供了一种衬底处理设备。 基板处理打浆处理室，注入第一气体和第二气体到处理腔室线的供应，安装在排气管线和连接到所述处理室的排放管线，其具有用于在处理室内排出气体的泵的排气 单元，在注射单元中的压力与处理室到排气阀，用于固定位于排气线路的所述第一分支被连接到所述排气管线注入的第三气体至第二点，所述第一点之间，并且所述泵 以及用于控制注射单元的控制单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160012302A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：KR1020140093323
申请日：2014-07-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/3065 , H01J37/32449 , H01J37/32816 , H01J37/32834 , H01J37/32889 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/02118 , H01L21/02274 , H01L21/30655 , H01L21/31116 , H01L21/31138 , H01L21/32136 , H01L21/67069 , H01L27/11582
Abstract: 본발명은기판제조방법및 그에사용되는기판제조장치를개시한다. 그의방법은, 마스크막이형성된기판을챔버내에제공하는단계와, 상기챔버내에플라즈마반응을유도하는단계와, 상기챔버내에제 1 가스와제 2 가스를번갈아제공하여상기마스크막으로부터노출된상기기판을식각하는단계를포함할수 있다. 상기제 1 가스와상기제 2 가스의각각은상기챔버내에제공될때마다상기제 1 가스와상기제 2 가스의교차공급압력펄스의요동없이안정화된공급압력으로공급될수 있다.
Abstract translation: 本发明公开了一种用于其的基板制造方法和基板制造装置。 该方法可以包括以下步骤：将具有掩模层的衬底提供到腔室中; 在室中引起等离子体反应; 交替地将第一气体和第二气体提供到腔室中，并且蚀刻从掩模层暴露的衬底。 每当第一气体和第二气体中的每一个被提供到腔室中时，可以以稳定的供应压力供应每种气体，而不会引起第一气体和第二气体的交叉进给压力脉冲的波动。
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公开(公告)号：KR1020150084262A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020140004095
申请日：2014-01-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01J37/32394 , G05B23/0283 , G05B2219/45031 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/86
Abstract: 본발명은반도체제조설비의관리방법및 그의관리시스템을개시한다. 그의관리방법은설비컴퓨터의반도체제조설비의관리방법에있어서, 챔버및 상기챔버내의부품들의예방정비를지시하는단계와, 상기챔버및 상기부품들의상기예방정비결과를확인하는단계와, 상기예방정비결과가정상적일경우, 상기챔버내의플라즈마반응을이용한생산공정을수행하는단계를포함한다. 여기서, 상기예방정비결과의확인단계는, 상기챔버및 상기부품들로부터검출되는전기적반사계수값들을이용하여상기플라즈마반응없이상기예방정비의결과를확인하는프리스크린방법을포함할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种用于管理半导体制造设备的方法及其管理系统。 用于管理设备计算机的半导体制造设备的方法包括以下步骤：指示腔室中的腔室和部件的预防性维护; 确认了该室和组件的预防性维护的结果; 并且当预防性维护的结果正常时，使用室内的等离子体响应进行生产处理。 预防性维护结果的确认步骤可以包括通过使用从部件和腔室检测的电反射系数值来确认没有等离子体响应的预防性维护的结果的自由屏幕方法。
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公开(公告)号：KR100429542B1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：KR1020010073449
申请日：2001-11-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: A method for analyzing a multimedia packet in real time on the Internet is provided to classify RTP(Real-Time Transport Protocol) packets in real time, which are used in a multimedia traffic. CONSTITUTION: A network packet collecting unit collects packets from the Internet(100). A packet filter unit filters only packets using a UDP(User Datagram Protocol) among the collected packets(102). A data packet classifying unit checks whether the filtered packets use a well-known port, and discriminates packets which do not use the well-known port(106). A plug-in unit extracts fundamental information from the discriminated packets(110). The plug-in unit checks whether extracted fundamental information is identical to the characteristic of an RFT packet over the number of uniform times, and classifies the RTP packet among the discriminated packets(140,142).
Abstract translation: 目的：提供一种在互联网上实时分析多媒体分组的方法，用于实时分类RTP（实时传输协议）分组，用于多媒体业务。 构成：网络分组收集单元收集来自因特网的分组（100）。 分组过滤器单元仅使用所收集的分组（102）中的UDP（用户数据报协议）来过滤分组。 数据分组分类单元检查经过滤的分组是否使用众所周知的端口，并且辨别不使用公知端口的分组（106）。 插入单元从被区分的分组（110）中提取基本信息。 插件单元检查所提取的基本信息是否与统一时间数量上的RFT分组的特性相同，并且将分类的分组中的RTP分组分类（140,142）。
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公开(公告)号：KR1020170024922A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020150120546
申请日：2015-08-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32532 , H01J37/32027 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32146
Abstract: 플라즈마발생장치는외부와격리가능한반응공간을정의하는챔버와, 상기챔버의상부에배치되는상부전극과, 상기챔버의하부에배치되는하부전극과, 상기챔버의측벽에배치되는측벽전극과, 상기상부전극및 하부전극중 적어도하나에 RF 펄스전원을공급하는 RF 펄스전원공급부와, 상기측벽전극에직류펄스전원을공급하는직류펄스전원공급부를포함한다.
Abstract translation: 提供了一种等离子体产生装置。 等离子体产生装置包括限定可与外部环境隔离的反应空间的室，设置在室的上部的上电极，设置在室的下部的下电极，设置在室 腔室的侧壁，被配置为向从上部电极和下部电极中选择的至少一个提供RF脉冲功率的射频（RF）脉冲电力供给器，以及被配置为提供直流脉冲功率的直流（DC）脉冲电源 到侧壁电极。
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