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公开(公告)号：KR1020170044800A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：KR1020150144114
申请日：2015-10-15
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/32082 , H01J37/32816 , H01J37/32834 , H01J37/32844 , H01J37/3299 , H01J2237/006 , Y02C20/30
Abstract: 본발명의실시예에따르면기판처리장치가제공된다. 기판처리장치는공정챔버, 상기공정챔버에제 1 가스및 제 2 가스를주입하는공급라인, 상기공정챔버에연결되는배기라인및 상기배기라인에설치되어상기공정챔버내에가스를배기하는펌프를가지는배기유닛, 상기배기라인의제 1 지점에고정되어위치하는배기밸브, 상기배기라인과연결되어상기제 1 지점과상기펌프사이의제 2 지점으로제 3 가스를주입하는주입유닛및 상기공정챔버내의압력을측정하여상기주입유닛을조절하는제어부를포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，提供了一种衬底处理设备。 基板处理打浆处理室，注入第一气体和第二气体到处理腔室线的供应，安装在排气管线和连接到所述处理室的排放管线，其具有用于在处理室内排出气体的泵的排气 单元，在注射单元中的压力与处理室到排气阀，用于固定位于排气线路的所述第一分支被连接到所述排气管线注入的第三气体至第二点，所述第一点之间，并且所述泵 以及用于控制注射单元的控制单元。
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公开(公告)号：KR1020150049799A
公开(公告)日：2015-05-08
申请号：KR1020130130794
申请日：2013-10-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/8851 , G01N2021/8887
Abstract: 기판의표면검사방법에따르면, 공정챔버로반입되기전에기판의제 1 표면이미지를획득한다. 상기제 1 표면이미지를처리하여상기기판의공정전 표면불량을검출한다. 따라서, 기판들을별도의검사장치로이송시키지않고도모든기판들에대한표면검사가수행될수 있다.
Abstract translation: 本发明提供了检查所有基板的表面的方法。 根据检查基板的表面的方法，在进入处理室之前，获得基板表面的第一图像。 通过在基板的处理之前处理第一表面的图像来检测基板表面上的所有缺陷。 因此，不将基板转移到单独的测试装置，可以执行所有基板的表面检查。
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公开(公告)号：KR1020150084262A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020140004095
申请日：2014-01-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01J37/32394 , G05B23/0283 , G05B2219/45031 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/86
Abstract: 본발명은반도체제조설비의관리방법및 그의관리시스템을개시한다. 그의관리방법은설비컴퓨터의반도체제조설비의관리방법에있어서, 챔버및 상기챔버내의부품들의예방정비를지시하는단계와, 상기챔버및 상기부품들의상기예방정비결과를확인하는단계와, 상기예방정비결과가정상적일경우, 상기챔버내의플라즈마반응을이용한생산공정을수행하는단계를포함한다. 여기서, 상기예방정비결과의확인단계는, 상기챔버및 상기부품들로부터검출되는전기적반사계수값들을이용하여상기플라즈마반응없이상기예방정비의결과를확인하는프리스크린방법을포함할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种用于管理半导体制造设备的方法及其管理系统。 用于管理设备计算机的半导体制造设备的方法包括以下步骤：指示腔室中的腔室和部件的预防性维护; 确认了该室和组件的预防性维护的结果; 并且当预防性维护的结果正常时，使用室内的等离子体响应进行生产处理。 预防性维护结果的确认步骤可以包括通过使用从部件和腔室检测的电反射系数值来确认没有等离子体响应的预防性维护的结果的自由屏幕方法。
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