플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법 및 장치
    3.
    发明公开
    플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법 및 장치 有权
    电子能量分布特性的监测方法及装置

    公开(公告)号:KR1020130057677A

    公开(公告)日:2013-06-03

    申请号:KR1020110123540

    申请日:2011-11-24

    CPC classification number: H01J37/32926 H01J37/32935 H05H1/0006

    Abstract: PURPOSE: A variation monitoring method of an electronic energy distribution property and an apparatus including the same are provided to shorten a calculation time by calculating an EEDF[Electron Energy Distribution Function] in a simple method by utilizing an OES[Optical Emission Spectroscopy] signal. CONSTITUTION: A mathematical modeling about a light intensity is established(S110). An EEDF is measured based on the established mathematical modeling(S120). A monitoring about a process plasma state is performed based on the variation of the measured EEDF(S130). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Establish mathematical modeling about light intensity; (S120) Measure an EEDF based on the mathematical modeling; (S130) Perform a monitoring about a process plasma state based on the variation of the EEDF

    Abstract translation: 目的:提供电子能量分布特性的变化监测方法及包括该变化监测方法的装置,以通过利用OES [发射光谱]信号以简单方法计算EEDF [电子能量分布函数]来缩短计算时间。 构成:建立关于光强度的数学建模(S110)。 基于已建立的数学建模来测量EEDF(S120)。 基于测量的EEDF的变化进行关于过程等离子体状态的监视(S130)。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S110)建立关于光强度的数学建模; (S120)基于数学建模测量EEDF; (S130)基于EEDF的变化进行对等离子体状态的监视

    플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법 및 장치
    6.
    发明授权
    플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법 및 장치 有权
    等离子体电子能量分布特性的监测方法和装置

    公开(公告)号:KR101354343B1

    公开(公告)日:2014-01-27

    申请号:KR1020110123540

    申请日:2011-11-24

    Abstract: 플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법은, 빛의 세기(line intensity)에 대한 수학적 모델링을 설립하는 단계; 및 설립된 상기 수학적 모델링에 기초하여 EEDF(Electron Energy Distribution Function)를 측정하는 단계를 포함하며, 측정된 상기 EEDF의 변동에 기초하여 공정 플라즈마 상태에 관한 모니터링을 수행하는 것을 특징으로 한다.

Patent Agency Ranking