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公开(公告)号：KR1020050076108A
公开(公告)日：2005-07-26
申请号：KR1020040003917
申请日：2004-01-19
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01J37/32
Abstract: 본 발명은 TFT-LCD와 같은 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 장치이다. 본 발명에 의하면, 식각 공정이 다른 공정과 인라인으로 진행될 수 있도록 기판이송부가 제공되며, 상압에서 플라즈마가 안정하고 균일하게 발생될 수 있도록 글로우 방전을 유도하기 위해 상부전극의 아래에 절연판이 제공되고, 공정진행시 가스의 온도를 낮추기 위해 비반응성 가스가 공급된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100756227B1
公开(公告)日：2007-09-06
申请号：KR1020040003917
申请日：2004-01-19
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01J37/32
Abstract: 본 발명은 TFT-LCD와 같은 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 장치이다. 본 발명에 의하면, 식각 공정이 다른 공정과 인라인으로 진행될 수 있도록 기판이송부가 제공되며, 상압에서 플라즈마가 안정하고 균일하게 발생될 수 있도록 글로우 방전을 유도하기 위해 상부전극의 아래에 절연판이 제공되고, 공정진행시 가스의 온도를 낮추기 위해 비반응성 가스가 공급된다.
플라즈마, 식각, TFT-LCD, FPD, 절연판, 비반응성 가스-
公开(公告)号：KR100948951B1
公开(公告)日：2010-03-23
申请号：KR1020070071274
申请日：2007-07-16
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 가스 유입구를 구비한 챔버와; 챔버의 중앙에 설치되는 중앙 그라운드 전극과; 챔버 내에 중앙 그라운드 전극의 양측으로 이격되어 상기 중앙 그라운드 전극과 대향하도록 설치되며, 하부 그라운드 전극에 대향하여 챔버의 중심방향에서 측면방향으로 연장된 형상의 하부면을 구비하는 제1 및 제2 측면 파워전극과; 상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 측면 파워전극의 하측에, 발생된 플라즈마를 챔버의 외부로 분사하는 플라즈마 분사구가 형성된 하부 그라운드 전극을 구비하여, 챔버 내에 가스공급과 함께 전원이 인가됨에 따라, 상기 제1, 2 측면 파워전극과 중앙 그라운드 전극 및 하부 그라운드 전극 사이의 공간에 발생된 플라즈마가 하부 그라운드 전극의 플라즈마 분사구를 통해 외부로 분사되도록 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같은 구성을 구비함으로써, 소량의 식각가스를 이용하여 대기압 상태에서 대면적 플라즈마를 높은 밀도로 균일하게 발생시킬 수 있으며, 플라즈마 분사길이가 향상된 대기압 플라즈마 발생장치를 제공할 수 있게 된다.
대기압 플라즈마, 고밀도 플라즈마, 리사이클 시스템, 하부 그라운드 전극, 플라즈마 분사구-
公开(公告)号：KR1020090008001A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：KR1020070071274
申请日：2007-07-16
Applicant: 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32577 , H01J37/32834
Abstract: An atmospheric pressure plasma system with an extended power electrode is provided to prevent a surface damage of an object due to minute streamer and arcing under an atmosphere pressure and generate plasma with a large area and high density by using an amount of etching gas. A chamber(40) includes an gas inlet(401) for the inflow of a reactive gas or an atmosphere gas by being connected to an external gas supply unit. A central ground electrode(100) is installed in the center of the chamber(400) as both sides electrode. A first side surface power electrode(201) and a second side power electrode(202) are installed in both sides of the central ground electrode with the predetermined interval to face each other. A plasma spray(301) is connected to a ground terminal of the chamber and is installed in a direction perpendicular to the first side power electrode, the second side power electrode, and the central ground electrode in the bottom of the chamber. The plasma spray sprays the plasma to the outside of the chamber. The lower ground electrode(300) is installed at the bottom side of the chamber.
Abstract translation: 提供具有扩展电源电极的大气压等离子体系统，以防止在大气压下由于微小拖缆和电弧引起的物体的表面损伤，并且通过使用一定量的蚀刻气体产生具有大面积和高密度的等离子体。 室（40）包括用于通过连接到外部气体供应单元来流入反应气体或气氛气体的气体入口（401）。 中心接地电极（100）作为两侧电极安装在腔室（400）的中心。 第一侧面电力电极（201）和第二侧面电力电极（202）以预定间隔安装在中心接地电极的两侧以彼此面对。 等离子体喷雾（301）连接到腔室的接地端子，并且安装在与腔室底部的第一侧面电源电极，第二侧面电源电极和中心接地电极垂直的方向上。 等离子体喷雾将等离子体喷射到室的外部。 下接地电极（300）安装在室的底侧。
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公开(公告)号：KR100860039B1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：KR1020070070128
申请日：2007-07-12
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32825 , H01J37/32568 , H01J37/32844
Abstract: An atmospheric pressure plasma system is provided to generate large area plasma with high density without arching or streamer by causing plasma discharge between a lower side of a power electrode and a lower ground electrode. A chamber(400) is connected to a gas supply unit and includes a gas inlet for receiving reaction gas or atmospheric gas. A power electrode(100) is connected to a power supply unit and is composed of a both-sided electrode. The power electrode is installed in a center of the chamber. A first and second lateral ground electrodes(201,202) are connected to a ground terminal of the chamber. The first and second lateral ground electrodes are installed opposite to the power electrode. A lower ground electrode(300) is connected to a ground terminal of the chamber and is installed at a lower side of the outside of the chamber. A plasma discharge process is performed in a space between the first and second lateral ground electrodes and the lower ground electrode by supplying gas into the chamber and applying the power from the power supply unit to the power electrode.
Abstract translation: 提供大气压等离子体系统，通过在电源电极的下侧和下接地电极之间引起等离子体放电，产生高密度的大面积等离子体，无拱形或流光。 室（400）连接到气体供应单元，并且包括用于接收反应气体或大气气体的气体入口。 电源电极（100）连接到电源单元并由双面电极组成。 电源电极安装在腔室的中心。 第一和第二横向接地电极（201,202）连接到腔室的接地端子。 第一和第二横向接地电极安装在与电源电极相对的位置。 下接地电极（300）连接到室的接地端子并且安装在室的外侧的下侧。 在第一和第二横向接地电极和下部接地电极之间的空间中通过向室内供应气体并将电力从电源单元施加到电力电极来进行等离子体放电过程。
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公开(公告)号：KR100755517B1
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：KR1020060097777
申请日：2006-10-09
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32559 , H01J37/32357 , H01J37/32825
Abstract: A high-density plasma generator using atmospheric remote plasma is provided to reduce environmental pollution by performing a process using a small amount of etching gas. A plasma generating unit includes a process gas supplier(211), a first electrode disposed perpendicular to a flow direction of a process gas, a second electrode spaced apart from the first electrode at predetermined interval, and a plasma outlet formed by the first and the second electrodes for discharging high-density plasma. The plasma outlet is provided with plural holes for discharging the plasma. The first electrode is connected to a power source(219), and the second electrode is connected to a ground. Protrusions(213) are formed on a surface of the first electrode.
Abstract translation: 提供使用大气远程等离子体的高密度等离子体发生器，通过使用少量蚀刻气体进行处理来减少环境污染。 等离子体发生单元包括处理气体供给器（211），垂直于处理气体的流动方向设置的第一电极，以预定间隔与第一电极隔开的第二电极和由第一和第二电极形成的等离子体出口 用于放电高密度等离子体的第二电极。 等离子体出口设置有用于排出等离子体的多个孔。 第一电极连接到电源（219），并且第二电极连接到地。 突起（213）形成在第一电极的表面上。
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