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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2019194394A1
公开(公告)日：2019-10-10
申请号：PCT/KR2018/016332
申请日：2018-12-20
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: G06F9/50
Abstract: 전자 장치가 개시된다. 본 전자 장치는 컴퓨터 실행가능 명령어(computer executable instructions)를 저장하는 메모리 및 컴퓨터 실행가능 명령어를 실행함으로써, 프로그램을 실행하기 위한 요청이 입력되고 프로그램에 할당하기 위한 메모리의 제1 영역의 가용 용량이 부족한 경우, 제1 영역에 저장된 페이지 데이터를 메모리의 제2 영역으로 스왑 아웃(swap-out)하는 프로세서를 포함하며, 프로세서는, 페이지 데이터의 속성을 기초로, 페이지 데이터를 일부 스왑 아웃하거나 전체 스왑 아웃한다.
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公开(公告)号：KR1020110115820A
公开(公告)日：2011-10-24
申请号：KR1020100035367
申请日：2010-04-16
Applicant: 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H01L51/0021 , H01L51/442 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/5206 , H01L51/5221
Abstract: 일 실시예에 따르는 유기 전자 소자는 유기 기능층 및 상기 유기 기능층과 접하는 가요성 투명 전도층을 구비한다. 상기 가요성 투명 전도층은 n형 또는 p형의 특성을 가지는 그라핀 시트층을 포함한다.
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公开(公告)号：KR101151277B1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：KR1020090117590
申请日：2009-12-01
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/3065 , C23C16/04
Abstract: 대기압 플라즈마를 이용한 기판의 이중 패터닝 방법이 개시(disclose)된다. 보다 구체적으로 본 개시는 기판을 제1 전극 및 제2 전극을 구비하는 대기압 플라즈마 장치에 제공하는 과정, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에서 대기압 플라즈마를 방전하여 상기 기판이 소수성 패턴을 가지도록 대기압 플라즈마 표면처리를 하는 과정, 상기 기판을 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에서 소정거리만큼 이송하여 위치하게 하는 과정 및 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에서 대기압 플라즈마를 방전하여 상기 기판이 친수성 패턴을 가지도록 대기압 플라즈마 친수성 표면처리를 하는 과정을 포함하여 상기 기판이 소수성 패턴과 친수성 패턴을 동시에 가지도록 하는 대기압 플라즈마를 이용한 기판의 이중 패터닝 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020110061062A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020090117590
申请日：2009-12-01
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/3065 , C23C16/04
CPC classification number: H01L21/306
Abstract: PURPOSE: A dual patterning method of a substrate using atmospheric pressure plasma is provided to simultaneously form a hydrophobic pattern and a hydrophilic pattern on the substrate below several micro meters by selectively discharging atmospheric plasma. CONSTITUTION: A substrate is provided to an atmospheric pressure plasma device including a first electrode and a second electrode(S100). A hydrophobic pattern is formed on the substrate by discharging the atmospheric pressure plasma between the first electrode and the second electrode(S110). The substrate is transferred between the first electrode and the second electrode(S120). A hydrophilic pattern is formed on the substrate by discharging atmospheric pressure plasma between the first electrode and the second electrode(S130).
Abstract translation: 目的：提供使用大气压等离子体的基板的双重图案化方法，通过选择性地排放大气等离子体，同时在几微米以下的基板上形成疏水图案和亲水图案。 构成：向包括第一电极和第二电极的大气压等离子体装置提供衬底（S100）。 通过在第一电极和第二电极之间排出大气压等离子体，在衬底上形成疏水性图案（S110）。 衬底在第一电极和第二电极之间转移（S120）。 通过在第一电极和第二电极之间排放大气压等离子体，在衬底上形成亲水图案（S130）。
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