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公开(公告)号：WO2018021811A1
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：PCT/KR2017/008022
申请日：2017-07-25
Applicant: (주)아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본 명세서에는 졸-겔 상전이 성질을 갖는 온도 감응성 화장료 조성물이 개시된다. 일 측면에서, 온도 감응성 화장료 조성물은, 상온에서는 졸 상태로 존재하나, 체온과 근사한 온도에서는 겔 상태로 전이된다. 또한, 콜라겐, 폴리글루탐산, 폴리올 및 가용화제 등의 함량비를 조절하여, 사용 목적에 맞추어 제형의 온도감응 특성을 조절할 수 있다. 또한, 생체고분자인 콜라겐을 사용하므로, 인체에 무해한 장점이 있다.
Abstract translation: 本文公开了具有溶胶 - 凝胶相转变性质的热敏化妆品组合物。 一方面，热敏化妆品组合物在室温下处于溶胶状态，但在接近体温的温度下转变为凝胶状态。 此外，胶原蛋白，聚谷氨酸，多元醇和增溶剂的含量可根据使用目的调整以控制制剂的温度响应性质。 另外，由于使用了作为生物分子的胶原蛋白，所以对人体无害。
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公开(公告)号：KR101850406B1
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：KR1020170134218
申请日：2017-10-16
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H04R7/02 , H04R31/00 , C01B32/182 , C08L101/00
Abstract: 일체형진동막을포함하는스피커장치및 상기일체형진동막의제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020160086024A
公开(公告)日：2016-07-19
申请号：KR1020150003112
申请日：2015-01-09
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: G03F1/62 , C01B32/182 , C01B32/194 , C01B32/20 , C23C16/01 , C23C16/26 , C23C16/56 , C23F1/00 , C23F1/02 , C23F1/14 , G03F1/64
Abstract: 펠리클의제조방법에있어서, 기판의일 면상에, 상기기판을촉매로사용하는화학반응을이용하여막을형성한다. 상기기판의다른일 면상에, 보호막패턴을형성한다. 상기기판을식각액에침지시켜, 상기보호막패턴으로부터노출된기판부분을제거하여프레임을형성한다. 상기식각액을제1 용매로교환한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供具有改进的机械特性的防护薄膜组件。 在防护薄膜组件的制造方法中，通过使用该基板作为催化剂的化学反应，在基板的一个表面上形成膜。 在基板的另一个表面上形成保护膜图形。 将衬底浸入蚀刻液中以除去从保护膜图案露出的衬底的一部分，从而形成框架。 蚀刻液与第一溶剂交换。
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公开(公告)号：KR1020120118610A
公开(公告)日：2012-10-29
申请号：KR1020110036085
申请日：2011-04-19
Applicant: 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: G06Q50/22
Abstract: PURPOSE: A remote autistic disorder treatment service providing system and a method thereof are provided to enable a user to use intervention treatment contents and autistic disorder monitoring according to an autistic disorder diagnosis result through a home care service in home. CONSTITUTION: An autistic diagnosis processing unit(120) inputs autistic diagnosis result data through any one terminal of a treatment center terminal and a user terminal. An intervention treatment contents storing unit(110) stores received intervention treatment contents corresponding to the autistic diagnosis result data. The intervention treatment contents storing unit stores preset intervention treatment contents according to each kind of an autistic diagnosis result. [Reference numerals] (110) Intervention treatment contents storing unit; (120) Autistic diagnosis processing unit; (130) Active information processing unit; (140) Remote treatment service processing unit
Abstract translation: 目的：提供一种远程自闭症治疗服务提供系统及其方法，使用户能够通过家庭护理服务，根据自闭症诊断结果使用干预治疗内容和自闭症状障碍监测。 构成：自闭症诊断处理单元（120）通过治疗中心终端和用户终端的任一个终端输入自闭症诊断结果数据。 干预治疗内容存储部（110）存储与自闭症诊断结果数据对应的接收到的干预治疗内容。 干预治疗内容存储单元根据各种自闭症诊断结果存储预先设定的治疗内容。 （附图标记）（110）干预处理内容存储单元; （120）自闭诊断处理单元; （130）主动信息处理单元; （140）远程处理服务处理单元
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101815257B1
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：KR1020150190222
申请日：2015-12-30
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H04R7/02 , H04R31/00 , C01B31/04 , C08L101/00
Abstract: 일체형진동막을포함하는스피커장치및 상기일체형진동막의제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020160143090A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：KR1020150079200
申请日：2015-06-04
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: B32B37/025 , B32B37/0038 , B32B37/12 , B32B37/14 , B32B38/10 , B32B2038/166 , B32B2305/026 , B32B2457/08 , G03F1/62 , H01L21/00
Abstract: 펠리클조립체를제조하기위하여, 습식분위기하에서반송막상에탄소함유박막을부착한다. 탄소함유박막이반송막상에부착된상태에서건식분위기하에서탄소함유박막을펠리클프레임에부착한다. 탄소함유박막이펠리클프레임에부착된상태에서반송막을탄소함유박막으로부터분리한다.
Abstract translation: 一种制造防护薄膜组件的方法，所述方法包括在湿气氛中将含碳薄膜附着在转移膜上; 在含碳薄膜附着在转印膜上的同时，将干燥气氛中的含碳薄膜附着在防尘薄膜组件框架上; 并且在含碳薄膜附着到防护薄膜框架上的同时将转移膜与含碳薄膜分离。
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公开(公告)号：KR1020160085146A
公开(公告)日：2016-07-15
申请号：KR1020150002170
申请日：2015-01-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/027 , G03F1/62 , H01L21/02 , H01L21/205
CPC classification number: G03F1/62 , C23C16/26 , H01L21/0274 , H01L21/0228 , H01L21/205
Abstract: 기판상에그라파이트층을형성하고, 상기그라파이트층 상에지지층을형성하고, 상기기판을제거하고, 상기그라파이트층 및상기지지층의스택을프레임상에전사하고, 및상기지지층을제거하는것을포함하는펠리클제조하는방법이설명된다.
Abstract translation: 说明的是制造防护薄膜组件的方法，其包括以下步骤：在基板上形成石墨层; 在石墨层上形成支撑层; 消除基板; 将一层石墨层和支撑层转移到框架上; 并消除支撑层。 因此，该方法可以防止或减少由于静电颗粒导致的防护薄膜组件的污染，缺陷或损坏。
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公开(公告)号：KR102254103B1
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：KR1020150002170
申请日：2015-01-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
Abstract: 기판상에그라파이트층을형성하고, 상기그라파이트층 상에지지층을형성하고, 상기기판을제거하고, 상기그라파이트층 및상기지지층의스택을프레임상에전사하고, 및상기지지층을제거하는것을포함하는펠리클제조하는방법이설명된다.
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公开(公告)号：KR102251999B1
公开(公告)日：2021-05-17
申请号：KR1020150003112
申请日：2015-01-09
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: G03F1/64
Abstract: 펠리클의제조방법에있어서, 기판의일 면상에, 상기기판을촉매로사용하는화학반응을이용하여막을형성한다. 상기기판의다른일 면상에, 보호막패턴을형성한다. 상기기판을식각액에침지시켜, 상기보호막패턴으로부터노출된기판부분을제거하여프레임을형성한다. 상기식각액을제1 용매로교환한다.
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