公开(公告)号：KR101215110B1

公开(公告)日：2012-12-24

申请号：KR1020110113850

申请日：2011-11-03

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이준신 ,  박형식 ,  최규호 ,  송규완 ,  백승신 ,  장주연 ,  정준희 ,  김민범 ,  신종훈

IPC: H01L31/04 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/18

CPC classification number: Y02E10/50 ,  H01L31/04 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/18

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a compliant substrate for a solar cell is provided to simplify manufacturing process by omitting a dry etching mode, a mechanical grooving mode, and a wet etching mode. CONSTITUTION: A frame in which an uneven portion is formed on the surface is prepared(S110). A polymer film is formed on the frame with a spin coating process(S120). The polymer film is hardened(S130). A metal layer is formed on the front side of the polymer film(S140). A first transparent conductive film is formed on the metal layer(S150). A protective film is formed on the rear side of the polymer film(S160). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Preparing a frame with an uneven portion; (S120) Forming a polymer film on a frame with a spin coating process; (S130) Hardening a polymer film; (S140) Forming a metal film on the front side of the polymer film; (S150) Forming a first transparent conductive film on the metal film; (S160) Forming a protection film on the rear of the polymer film

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造用于太阳能电池的柔性衬底的方法，以通过省略干蚀刻模式，机械开槽模式和湿蚀刻模式来简化制造工艺。 构成：准备在表面形成有凹凸部的框架（S110）。 用旋涂法在框架上形成聚合物膜（S120）。 聚合物膜被硬化（S130）。 在聚合物膜的前侧形成有金属层（S140）。 在金属层上形成第一透明导电膜（S150）。 在聚合物膜的后侧形成保护膜（S160）。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S110）准备具有不平坦部分的框架; （S120）在旋涂工序的框架上形成聚合物膜; （S130）硬化聚合物膜; （S140）在聚合物膜的正面形成金属膜; （S150）在金属膜上形成第一透明导电膜; （S160）在聚合物膜的背面形成保护膜