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公开(公告)号：KR1020100040439A
公开(公告)日：2010-04-20
申请号：KR1020080099539
申请日：2008-10-10
Applicant: 세종대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for measuring a thin film are provided to measure the property of the thin film by detecting the change of a vibration frequency through a vibration sensor. CONSTITUTION: Vibration frequency is measured. The thickness of a thin film which is deposited on a substrate is measure. A vibration sensor with a base film and a substrate are arranged under an identical condition. An identical deposition process is performed with respect to the substrate and the vibration sensor. The change of the vibration frequency is measure through the vibration sensor.
Abstract translation: 目的：提供一种用于测量薄膜的方法和装置，通过检测通过振动传感器的振动频率的变化来测量薄膜的性质。 构成：测量振动频率。 测量沉积在基底上的薄膜的厚度。 具有基膜和基板的振动传感器布置在相同的条件下。 相对于基板和振动传感器执行相同的沉积工艺。 振动频率的变化是通过振动传感器测量的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160088699A
公开(公告)日：2016-07-26
申请号：KR1020150008114
申请日：2015-01-16
Applicant: 세종대학교산학협력단
IPC: H01M4/04 , H01M4/139 , H01M4/485 , H01M10/052
CPC classification number: H01M4/0428 , H01M4/139 , H01M4/485 , H01M10/052
Abstract: 원자층증착법을이용한산화금속박막의제조방법및 상기산화금속박막의제조방법을포함하는리튬-함유산화금속박막의제조방법, 및상기방법들로제조된산화코발트박막및 리튬-함유산화금속박막을포함하는리튬이차전지에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及使用原子层沉积法的金属氧化物薄膜的制造方法以及包含金属氧化物薄膜的制造方法的含锂金属氧化物薄膜的制造方法以及锂二次 包括通过该方法制造的氧化钴薄膜的电池和含锂金属氧化物薄膜。
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公开(公告)号：KR1020100013832A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：KR1020080075538
申请日：2008-08-01
Applicant: 세종대학교산학협력단
IPC: H01L21/20
CPC classification number: C23C16/45553 , C23C16/45536 , C23C16/46 , H01L21/28556
Abstract: PURPOSE: A method of deposition of a metal thin film by using atomic layer deposition are provided to prevent the increase of non-resistance by not processing post annealing to CuO or the CuNx thin film deposited with ALD(Atomic Layer Deposition). CONSTITUTION: A metallic precursor is provided to a substrate. The nitride agent or oxidizer is provided to the metal Precursor. The metal Precursor is restored. The metal of the metal Precursor is Cu, ni, Co, Cr or Zn. The metal Precursor is a gas or liquid containing a copper precursor, a copper halogen compound or the copper organic metallic compound. The copper halogen compound is CuCl1, CuCl2, CuF1, CuF2, CuBr1, CuBr2, CuI1 or CuI2.
Abstract translation: 目的：提供通过使用原子层沉积沉积金属薄膜的方法，以通过不对CuO或沉积有ALD（原子层沉积）的CuNx薄膜进行后退火来防止不加电。 构成：向基材提供金属前体。 将氮化物或氧化剂提供给金属前体。 金属前体被恢复。 金属前体的金属是Cu，Ni，Co，Cr或Zn。 金属前体是含有铜前体，铜卤素化合物或铜有机金属化合物的气体或液体。 铜卤化合物是CuCl1，CuCl2，CuF1，CuF2，CuBr1，CuBr2，CuI1或CuI2。
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公开(公告)号：KR101034584B1
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：KR1020080099539
申请日：2008-10-10
Applicant: 세종대학교산학협력단
Abstract: 본 발명에 의하면, 진동주파수의 변화를 측정하여 기판 상에 증착된 박막의 두께를 측정하는 방법은 기초막을 가지는 상기 진동센서와 상기 기판을 동일한 조건 하에 위치시키는 단계; 상기 기판 및 상기 진동센서에 대하여 동일한 증착공정을 진행하여 상기 기판 및 상기 기초막 상에 각각 동일한 박막을 증착하는 단계; 그리고 상기 증착공정이 진행됨에 따라 상기 진동센서를 통해 감지되는 진동주파수의 변화를 측정하는 단계를 포함한다.
진동센서, 진동자, 전극, 기초막-
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公开(公告)号：KR101013818B1
公开(公告)日：2011-02-14
申请号：KR1020080075538
申请日：2008-08-01
Applicant: 세종대학교산학협력단
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명은 원자층 증착법에 의한 금속 박막 증착 방법에 관한 것으로, (a) 기판에 금속 전구체를 공급하는 단계; (b) 상기 금속 전구체에 질화제 또는 산화제를 공급하는 단계; 및 (c) 상기 금속 전구체를 환원시키는 단계;를 포함하여, 다양한 기판에 대해 접착력이 우수한 동시에 박막의 치밀한 구조를 가질 수 있고, 종래의 박막 증착법과 같은 후속열처리를 요하지 않으므로 비저항이 높아지는 단점을 해결할 수 있다.
금속 박막, 원자층 증착, 구리, 기판, 접착력
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