公开(公告)号：WO2018004084A1

公开(公告)日：2018-01-04

申请号：PCT/KR2016/014290

申请日：2016-12-07

Applicant: 숭실대학교산학협력단

Inventor： 김도환 ,  강문성 ,  신지혜 ,  황해중 ,  박한울

IPC: H01L51/05 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02 ,  H01L51/05

Abstract: 본 발명의 일측면에 따른 유기 반도체 소자의 제조방법은 유전체가 형성된 기판상에 실라놀기를 포함하는 유기 반도체 용액을 적층하는 단계를 포함한다. 이때, 유기 반도체 용액의 적층에 의하여, 유기 반도체와 겔 전구체의 혼합 용액의 실라놀기와 실리콘 기판 표면의 실라놀기가 축합 반응을 하게 된다.

Abstract translation: 根据本发明的一个方面的制造有机半导体器件的方法包括在形成有电介质的基板上层压包含硅烷醇基团的有机半导体溶液的步骤。 此时，有机半导体与凝胶前体的混合溶液的硅烷醇基与硅基板表面的硅烷醇基通过有机半导体溶液的层叠发生缩合反应。

公开(公告)号：WO2018004093A1

公开(公告)日：2018-01-04

申请号：PCT/KR2017/000461

申请日：2017-01-13

Applicant: 숭실대학교산학협력단

Inventor： 김도환 ,  강문성 ,  황해중 ,  박한울 ,  신지혜

IPC: H01L51/05 ,  H01L51/00 ,  C08K5/56

CPC classification number: C08K5/56 ,  H01L51/00 ,  H01L51/05

Abstract: 본 발명의 일측면에 따른 유기 반도체 소자의 제조방법은 유전체가 형성된 기판상에 실라놀기(silanol group, Si-OH)와 같은 하이드록시 그룹(M-OH, M(금속))을 포함하는 유기 반도체 용액을 적층하는 단계를 포함한다. 유기 반도체층 표면 및 벌크에 존재하는 실라놀기(silanol group, Si-OH)와 같은 하이드록시 그룹(M-OH, M(금속))을 포함하는 반응기로서 활용하여 다양한 성질을 보이는 자기조립단분자층을 형성시켜 새로운 개념의 유기 반도체 소자를 제작하는 것을 포함한다.

Abstract translation:

制造根据本发明的一个方面的有机半导体装置的方法，所述衬底上的介质形成的硅烷醇基团（硅烷醇基下，Si-OH）（M-OH羟基基团，如，M（ 金属））。 形成自组装单分子层通过使用含有羟基的反应器表现出不同的特性（M-OH，M（金属）），如硅烷醇基（硅醇基下，Si-OH）存在于有机半导体层表面和整体 为了产生新概念的有机半导体器件。＆lt; / p＆gt;

公开(公告)号：KR102038124B1

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：KR1020170079382

申请日：2017-06-22

Applicant: 숭실대학교산학협력단 ,  한양대학교 산학협력단

Inventor： 김도환 ,  강문성 ,  황해중 ,  박한울 ,  신지혜

IPC: H01L51/05 ,  H01L21/02 ,  H01L51/00