公开(公告)号：KR101948912B1

公开(公告)日：2019-02-15

申请号：KR1020177001173

申请日：2015-06-19

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 싱아만데브 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  워나르페트릭

IPC: G03F7/20 ,  G01J3/28 ,  G01J3/45 ,  G01N21/47

公开(公告)号：KR100697277B1

公开(公告)日：2007-03-20

申请号：KR1020050074825

申请日：2005-08-16

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 덴보에프아리에예프레이 ,  블리커아르노얀 ,  반돔멜렌유리요한네스로렌티우스마리아 ,  두사머시 ,  키에르스안토이네가스톤마리에 ,  루어맨폴프랑크 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  반데르샤르마우리츠 ,  그로우브스트라체드릭데지레 ,  반크라이요마르쿠스게라르두스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

Abstract: 본 발명에 따르면, 높은 개구수 렌즈의 퓨필 평면에서, 방사선이 기판에서 반사된 결과로서, 각도-분해 스펙트럼을 측정함으로써, 기판의 특성을 결정하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 특성은, 각도 및 파장에 의존적일 수 있으며, TM- 및 TE-편광된 광의 세기 및 그들의 관련 위상차를 포함할 수도 있다.

公开(公告)号：KR1020060050488A

公开(公告)日：2006-05-19

申请号：KR1020050074825

申请日：2005-08-16

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 덴보에프아리에예프레이 ,  블리커아르노얀 ,  반돔멜렌유리요한네스로렌티우스마리아 ,  두사머시 ,  키에르스안토이네가스톤마리에 ,  루어맨폴프랑크 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  반데르샤르마우리츠 ,  그로우브스트라체드릭데지레 ,  반크라이요마르쿠스게라르두스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명에 따르면, 높은 개구수 렌즈의 퓨필 평면에서, 방사선이 기판에서 반사된 결과로서, 각도-분해 스펙트럼을 측정함으로써, 기판의 특성을 결정하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 특성은, 각도 및 파장에 의존적일 수 있으며, TM- 및 TE-편광된 광의 세기 및 그들의 관련 위상차를 포함할 수도 있다.

公开(公告)号：KR1020170016006A

公开(公告)日：2017-02-10

申请号：KR1020177001173

申请日：2015-06-19

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 싱아만데브 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  워나르페트릭

IPC: G03F7/20 ,  G01J3/28 ,  G01J3/45 ,  G01N21/47

CPC classification number: G03F7/70491 ,  G01J3/2823 ,  G01J3/45 ,  G01N21/4788 ,  G01N2201/06113 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

Abstract: 검사장치(100)는기판상에서타겟의파라미터를측정하기위해이용된다. 가간섭성방사선은타겟(T)을조명하기위한조명경로(실선표시된광선)를따른다. 집광경로(파선표시된광선)는타겟으로부터회절방사선을집광하여록-인이미지검출기(112)에전달한다. 기준빔은기준경로(점선표시된광선)를따른다. 음향-광학변조기(108)는록-인검출기에서의방사선의세기가기준방사선의주파수와회절방사선의주파수사이의차이에대응하는특성주파수를갖는시변성분을포함하도록기준빔의광 주파수를시프트한다. 록-인이미지검출기는시변성분의진폭및 위상모두를나타내는 2차원이미지정보를기록한다. 상이한시프트(110)를갖는제2 기준빔은제2 기준경로(쇄선표시된광선)를따른다. 2개의기준빔들사이의간섭이세기정규화를위해이용될수 있다.

Abstract translation: 检查装置（100）用于测量基板上的目标的参数。 相干辐射遵循用于照射目标（T）的照明路径（固体光线）。 收集路径（虚线）从目标物体收集衍射辐射并将其传送到锁定图像检测器（112）。 参考光束遵循参考路径（虚线）。 声光调制器（108）移动参考光束的光频率，使得锁定检测器处的​​辐射强度包括具有与衍射辐射的频率之间的差异相对应的特征频率的时变分量，以及 参考辐射。 锁定图像检测器记录表示时变分量的幅度和相位的二维图像信息。 具有不同偏移（110）的第二参考光束遵循第二参考路径（点划线）。 两个参考光束之间的干涉可用于强度归一化。

公开(公告)号：KR100592823B1

公开(公告)日：2006-06-23

申请号：KR1020030092191

申请日：2003-12-16

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 레바시에르레온마르틴 ,  덴보에프아리에,예프레이 ,  디른스토르페르인고 ,  예우닌크안드레베르나르두스 ,  크뤼요스비요크슈테판게르테 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  세티야이르반다니 ,  톨스마호이테피에터데오도르

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076

Abstract: 본 발명에 따른 리소그래피장치는, 기판테이블(WT)상의 기판(W)을 패터닝수단(MA)에 대하여 정렬하는 정렬 서브시스템(21)을 포함한다. 정렬구조체(10)는 정렬 서브시스템(21)내의 기준회절격자(26)를 이용하여 캡처위치 또는 체크위치로서 검출될 수 있는 비주기적 피처(15)를 포함한다. 비주기적피처(15)는 정렬 서브시스템(21)의 검출된 신호의 위상효과 또는 진폭효과를 유발할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040055638A

公开(公告)日：2004-06-26

申请号：KR1020030092191

申请日：2003-12-16

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 레바시에르레온마르틴 ,  덴보에프아리에,예프레이 ,  디른스토르페르인고 ,  예우닌크안드레베르나르두스 ,  크뤼요스비요크슈테판게르테 ,  펠레만스헨리쿠스페트루스마리아 ,  세티야이르반다니 ,  톨스마호이테피에터데오도르

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076

Abstract: PURPOSE: Provided are a lithography apparatus comprising an alignment subsystem, a method for preparing a device and an alignment structure to improve the capture range of a periodic alignment system and robustness. CONSTITUTION: The lithography apparatus comprises a supporting structure which supports the patterning means patterning the projected beam of radiation according to a desired pattern; a substrate table which holds a substrate(W) provided with an alignment structure having spatially periodic optical properties; and an alignment subsystem(21) which aligns the substrate to the pattern means, wherein the alignment subsystem(21) comprises an optical device(20, 24, 26) which optically treats the light reflected from the alignment structure or transmitted by the alignment structure to produce a measuring light whose intensity is changed according to the reference position defined to the patterning means and the relative position of the spatially periodic alignment structure; a sensor which is connected with an optical interference device for measuring the intensity of measuring light and/or the information of phase; and an actuator(PW) which controls the relative position of the patterning means and the substrate table based on the intensity of measuring light and/or the information of phase. The alignment subsystem is aligned so as to use an aperiodic pitcher provided on the alignment structure detectable as a capture position or a check position.

Abstract translation: 目的：提供一种光刻设备，其包括对准子系统，用于制备器件的方法和对准结构，以改善周期性对准系统的捕获范围和鲁棒性。 构成：光刻设备包括支撑结构，其支撑图案化装置以根据期望的图案图案化投射的辐射束; 保持具有空间周期性光学特性的取向结构的基板（W）的基板台; 以及对准子系统（21），其将衬底对准图案装置，其中对准子系统（21）包括光学装置（20,24,26），其光学地对待由对准结构反射或由对准结构传播的光 以产生其强度根据与图案形成装置限定的基准位置和空间周期性取向结构的相对位置而改变的测量光; 与用于测量测量光的强度和/或相位信息的光学干涉装置连接的传感器; 以及基于测量光的强度和/或相位信息来控制图案形成装置和衬底台的相对位置的致动器（PW）。 对准子系统被对准以便使用提供在对准结构上的非周期性的投手，其被检测为捕获位置或检查位置。