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公开(公告)号：WO2021149970A1
公开(公告)日：2021-07-29
申请号：PCT/KR2021/000533
申请日：2021-01-14
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 탄소나노튜브 분산 용액, 팔라듐 형성용액 및 니켈 형성용액을 준비하는 단계; 및 상기 탄소나노튜브 분산용액, 팔라듐 형성용액 및 니켈 형성용액을 혼합하여 상기 탄소나노튜브의 표면에 무전해 도금방법에 의해 미세 분말형태의 니켈-팔라듐 합금을 형성하는 단계; 를 포함하는 니켈-팔라듐 탄소나노튜브 미세복합체의 제조방법을 제공 한다. 상기 제조 방법에 의하여 제조된 니켈-팔라듐 탄소나노튜브 미세복합체는 제조 공정이 매우 간단하여 우수한 생산성을 확보할 수 있고, 상기 니켈-팔라듐 탄소나노튜브 미세복합체가 포함된 전자파 차폐제는 전자파 차폐용액의 형태로 기재에 분사되어 전자파 차폐 필름을 제조할 수 있어, 대면적화 구현에 유리한 장점이 있다.
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公开(公告)号：KR101875602B1
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：KR1020170076087
申请日：2017-06-15
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: H01L33/00
CPC classification number: H01L33/005 , H01L33/0075 , H01L33/42 , H01L33/44
Abstract: 본발명은발광다이오드소자용탄소복합체및 이의제조방법과이를이용한자외선발광다이오드에관한것으로특히, 본발명의일실시예에따른발광다이오드소자용탄소복합체의제조방법은콜로이드상태의금속이온이분산된분산액을준비하는단계; 상기분산액에단일벽탄소나노튜브를혼합한후 교반하여단일벽탄소나노튜브의표면에상기금속이온이결합된탄소복합체를준비하는단계; 상기탄소복합체를박막화하는단계; 박막화된 상기탄소복합체를건조및 세정하는단계; 건조및 세정된 상기탄소복합체를열처리하는단계; 및열처리된 상기탄소복합체를패터닝하는단계를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020140103542A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：KR1020130017037
申请日：2013-02-18
Applicant: 전남대학교산학협력단
CPC classification number: H01L33/20 , H01L33/145 , H01L33/44
Abstract: Disclosed are a semiconductor light emitting device having a static electricity protection structure and a production method thereof. The semiconductor light emitting device comprises: a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer which are sequentially stacked from the top; an electrode structure which is stacked on the lower surface of the light emitting structure; one or more via holes which are configured to expose the first conductive semiconductor layer by penetrating a partial layer of the electrode structure, the second conductive semiconductor layer, and the active layer in order to electrically connect one of the electrodes of the electrode structure to the first conductive semiconductor layer; and a surrounding insulating film which is located in the light emitting structure within the partial layer of the electrode structure in the circumference of the via holes or the light emitting structure.
Abstract translation: 公开了具有静电保护结构的半导体发光器件及其制造方法。 半导体发光器件包括：发光结构，其包括从顶部依次堆叠的第一导电半导体层，有源层和第二导电半导体层; 堆叠在发光结构的下表面上的电极结构; 一个或多个通孔，其被配置为通过穿透电极结构的部分层，第二导电半导体层和有源层来暴露第一导电半导体层，以将电极结构的电极之一电连接到 第一导电半导体层; 以及在通孔或发光结构的圆周中位于电极结构的局部层内的发光结构中的周围绝缘膜。
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公开(公告)号：KR101838611B1
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：KR1020160021269
申请日：2016-02-23
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것으로, 보다구체적으로는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것이다. 본발명의단일벽탄소나노튜브특히, 자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브의제조방법에의하면, P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브를제조할수 있다. 또한, 본발명의자외선발광다이오드는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며, 광투과도의감소가적어높은효율의증대를이룰수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101838610B1
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：KR1020160021272
申请日：2016-02-23
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것으로, 보다구체적으로는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은본 발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것이다. 본발명의단일벽탄소나노튜브특히, 자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브의제조방법에의하면, P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브를제조할수 있다. 또한, 본발명의제조방법에의하면붕소계열의환원제를사용하함으로써도금조절이용이할뿐만아니라니켈이고르게도금되는효과가있으며, 급속열처리를수행하여니켈또는니켈합금으로피막화할수 있다. 또한, 본발명의자외선발광다이오드는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적어높은효율의증대를이룰수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170099197A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：KR1020160021272
申请日：2016-02-23
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것으로, 보다구체적으로는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은본 발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것이다. 본발명의단일벽탄소나노튜브특히, 자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브의제조방법에의하면, P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브를제조할수 있다. 또한, 본발명의제조방법에의하면붕소계열의환원제를사용하함으로써도금조절이용이할뿐만아니라니켈이고르게도금되는효과가있으며, 급속열처리를수행하여니켈또는니켈합금으로피막화할수 있다. 또한, 본발명의자외선발광다이오드는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적어높은효율의증대를이룰수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及使用单壁碳纳米管和它们的制备方法，在紫外线发光二极管和此，具体而言，P型基于氮化物的半导体和欧姆（欧姆）的接触是可能的，并且本发明是减少更小的透光率更 单壁碳纳米管，其制造方法以及使用其的紫外线发光二极管。 根据单壁碳纳米管的SWNT用于本发明的紫外线发光二极管的电极特别透明的生产过程中，P转染较少紫外线发光基于货物半导体和欧姆（欧姆）的接触是可能的，并且减少光透射 可以制造用于二极管的透明电极的单壁碳纳米管。 此外，和以及根据本发明用于控制通过使用还原剂与硼系列镍的效果电镀的制造方法中被均匀地涂覆，可以迅速地通过执行镍或镍合金的热处理筛选膜。 另外，本发明的紫外发光二极管能够与P型半导体欧姆接触并且具有减小的光透射率，由此实现高效率增加。
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公开(公告)号：KR1020170099196A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：KR1020160021269
申请日：2016-02-23
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것으로, 보다구체적으로는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은단일벽탄소나노튜브및 이의제조방법, 그리고이를이용한자외선발광다이오드에관한것이다. 본발명의단일벽탄소나노튜브특히, 자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브의제조방법에의하면, P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며광투과도의감소가적은자외선발광다이오드의투명전극용단일벽탄소나노튜브를제조할수 있다. 또한, 본발명의자외선발광다이오드는 P형질화물계반도체와오믹(ohmic)접촉이가능하며, 광투과도의감소가적어높은효율의증대를이룰수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种紫外线发光二极管使用单壁碳纳米管和它们的制备方法，而这一点，更具体地，P型基于氮化物的半导体和欧姆（欧姆）的接触是可能的，并且光透射碳的小单壁还原 纳米管，其制造方法以及使用该纳米管的紫外线发光二极管。 根据单壁碳纳米管的SWNT用于本发明的紫外线发光二极管的电极特别透明的生产过程中，P转染较少紫外线发光基于货物半导体和欧姆（欧姆）的接触是可能的，并且减少光透射 可以制造用于二极管的透明电极的单壁碳纳米管。 此外，本发明的紫外线发光二极管可以是P型基于氮化物的半导体和欧姆接触（欧姆），并且具有和实现的光透射少高效率的降低的增加。
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公开(公告)号：KR102173611B1
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：KR20190004173
申请日：2019-01-11
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은, 전기적및/또는기계적성질이우수한전도성섬유복합체의제조방법에관한것으로서, 복수개의전도성섬유가닥을포함하는전도성섬유를전류안정기(Current stabilizer)를포함하는도금조에제공하는단계; 및상기도금조에서전해도금공정을수행하여전도성섬유의내부에금속플레이크를형성하는단계를포함하는전도성섬유복합체의제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR101458296B1
公开(公告)日：2014-11-04
申请号：KR1020130017037
申请日：2013-02-18
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 정전기 보호 구조를 가지는 반도체 발광 소자 및 그 제조방법이 개시된다. 반도체 발광 소자는 위로부터 순차로 적층된 제1도전형 반도체층, 활성층, 및 제2도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물과, 발광구조물의 하면에 적층된 전극구조물과, 전극구조물의 전극 중 하나를 제1도전형 반도체층과 전기적으로 연결하기 위하여, 전극구조물의 일부층, 제2도전형 반도체층, 및 활성층을 관통하여 제1도전형 반도체층을 노출시키는 하나 이상의 비아홀을 포함하며, 하나 이상의 비아홀 각각의 둘레의 전극구조물의 일부층 또는 발광구조물 내에 위치하는 둘레 절연막을 구비한다.
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