표면 처리 동박, 캐리어 부착 동박, 적층체, 프린트 배선판, 전자 기기, 표면 처리 동박의 제조 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
    3.
    发明公开
    표면 처리 동박, 캐리어 부착 동박, 적층체, 프린트 배선판, 전자 기기, 표면 처리 동박의 제조 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 审中-实审
    表面处理铜箔,具有载体的铜箔,层压板,印刷电路板,电子器件,制造表面处理铜箔的方法和制造印刷电路板的方法

    公开(公告)号:KR1020150137023A

    公开(公告)日:2015-12-08

    申请号:KR1020150074145

    申请日:2015-05-27

    Abstract: 필강도가양호하고, 또한, 고주파회로기판에사용해도전송손실이양호하게억제되는표면처리동박을제공한다. 본발명의표면처리동박은, 동박과, Ni, Co, Zn, W, Mo 및 Cr 로이루어지는군에서선택되는원소를 1 종이상함유하는금속층과, 크롬산화물로형성된표면처리층을이 순서로갖는표면처리동박이며, 금속층에있어서의 Ni, Co, Zn, W, Mo 및 Cr 로이루어지는군에서선택되는원소의합계부착량이 200 ∼ 2000 ㎍/d㎡이고, 250 ℃ × 10 분간의열 처리를가한후, 표면처리층의표면만을노출시킨상태로농도 20 mass% 또한온도 25 ℃의 질산욕에 30 초간침지했을때에, 질산욕으로의구리의용출량이 0.0030 g/25 ㎠이하이다.

    Abstract translation: 提供了一种表面处理的铜箔,其表现出令人满意的剥离强度,并且即使在高频电路板中使用时也能够令人满意地降低传输损失。 本发明的表面处理铜箔按以下顺序包括:铜箔; 包括选自Ni,Co,Zn,W,Mo和Cr中的一种或多种的金属层; 以及由铬氧化物构成的表面处理层,其中,选自Ni,Co,Zn,W,Mo和Cr中的元素的总沉积量为200-2000μg/ dm 2,金属 并且当表面处理的铜箔在25℃的20质量%的硝酸浴中浸渍30秒时,只有表面处理层的表面露出,在250℃下热处理后, 10分钟完成,溶解在硝酸浴中的铜量等于或小于0.0030g / 25cm 2。

    표면 처리 동박
    10.
    发明授权
    표면 처리 동박 有权
    表面处理铜

    公开(公告)号:KR101658722B1

    公开(公告)日:2016-09-21

    申请号:KR1020147030308

    申请日:2013-03-29

    Inventor: 후쿠치료

    Abstract: 동박표면의 XPS survey 측정에있어서, Si 농도가 2.0 % 이상이고, N 농도가 2.0 % 이상인것을특징으로하는표면처리동박. 고주파용도에바람직한액정폴리머 (LCP) 에동박을적층한플렉시블프린트기판 (FPC) 용동박을제공할때, 필강도를향상시킨동박을얻는것을과제로한다.

    Abstract translation: 在铜箔表面的XPS测量的测量,Si浓度超过2.0%时,表面处理铜箔,其特征在于的2.0%以上的N浓度。 当通过用优选的液晶聚合物(LCP),以高频率使用,并且零层叠铜箔提供用于柔性印刷电路板(FPC)的铜箔,并获得具有改善的剥离强度的铜箔。

Patent Agency Ranking