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公开(公告)号：KR101711922B1
公开(公告)日：2017-03-03
申请号：KR1020140040690
申请日：2014-04-04
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C07D401/10 , C07D403/10 , C07D215/02 , C07D209/48 , G03F7/00
Abstract: 하기화학식 1로표시되는화합물이제공된다. [화학식 1](상기화학식 1에서, 각치환기는명세서에정의된바와같다.)
Abstract translation: 提供了由化学式1表示的化合物。在化学式1中，每个取代基与说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：KR101645074B1
公开(公告)日：2016-08-02
申请号：KR1020140004794
申请日：2014-01-14
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C08L63/08 , C07D213/26 , B01J31/02
CPC classification number: C08G59/4014 , B01J31/02 , B01J31/0271 , C07D213/04 , C07D213/30 , C07D213/84 , C07D213/85 , C08G59/245 , C08G59/621 , C08G59/686 , C08L63/00 , H01L23/295 , H01L23/3121 , H01L2224/16227 , H01L2224/32225 , H01L2224/73204 , H01L2224/92125
Abstract: 본발명은화학식 1의피리디늄계화합물, 이를포함하는에폭시수지조성물및 이를사용하여제조된장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及化学式1的吡啶鎓系化合物，包含该化合物的环氧树脂组合物和使用该化合物的制造装置。
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公开(公告)号：KR1020150115512A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：KR1020140040690
申请日：2014-04-04
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C07D401/10 , C07D403/10 , C07D215/02 , C07D209/48 , G03F7/00
CPC classification number: C07D401/10 , C07D209/48 , C07D215/02 , C07D403/10 , G03F7/00
Abstract: 하기화학식 1로표시되는화합물이제공된다. [화학식 1](상기화학식 1에서, 각치환기는명세서에정의된바와같다.)
Abstract translation: 提供了由化学式1表示的化合物。在化学式1中，每个取代基与说明书中所定义的相同。
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5.发明公开
公开(公告)号：KR1020140127691A
公开(公告)日：2014-11-04
申请号：KR1020130046363
申请日：2013-04-25
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/092 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/0271
Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 포함하는 화합물 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
상기 A
1 , A
2 , B
1 , R
1 , R
2 는 각각 명세서에서 정의한 바와 같다.Abstract translation: 提供一种抗蚀剂底层组合物，其包含包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。 [化学式1]在化学式1中，A1，A2，B1，R1和R2分别在规范中定义。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101785435B1
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：KR1020140054331
申请日：2014-05-07
Applicant: 제일모직주식회사
Abstract: 하기화학식 1로표시되는화합물이제공된다. [화학식 1](상기화학식 1에서, 각치환기는명세서에정의된바와같다.)
Abstract translation: 提供了由下式（1）表示的化合物。 [化学式1]（其中每个取代基如说明书中所定义）
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公开(公告)号：KR101674989B1
公开(公告)日：2016-11-22
申请号：KR1020130057256
申请日：2013-05-21
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/36 , G03F7/40
Abstract: 하기화학식 1로표현되는부분을포함하는화합물및 용매를포함하는레지스트하층막용조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, A내지 A, X, X, L, L, Z 및 m은각각명세서에서정의한바와같다.
Abstract translation: 公开了一种抗蚀剂底层组合物，其包含包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。 在上述化学式1中，A1至A3，X1，X2，L1，L2，Z和m与说明书中所定义相同。
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公开(公告)号：KR1020150084612A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020140004794
申请日：2014-01-14
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C08L63/08 , C07D213/26 , B01J31/02
CPC classification number: C08G59/4014 , B01J31/02 , B01J31/0271 , C07D213/04 , C07D213/30 , C07D213/84 , C07D213/85 , C08G59/245 , C08G59/621 , C08G59/686 , C08L63/00 , H01L23/295 , H01L23/3121 , H01L2224/16227 , H01L2224/32225 , H01L2224/73204 , H01L2224/92125 , C08L63/08 , C07D213/26
Abstract: 본발명은화학식 1의피리디늄계화합물, 이를포함하는에폭시수지조성물및 이를사용하여제조된장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及以化学式1表示的吡啶鎓系化合物，含有它的环氧树脂组合物及使用该化合物的装置。
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公开(公告)号：KR101702704B1
公开(公告)日：2017-02-03
申请号：KR1020140005608
申请日：2014-01-16
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C07F9/50 , C07F9/53 , C07C311/16
CPC classification number: C08G59/688 , C07C311/51 , C07D239/42 , C07F9/5442 , C07F9/5456 , C08G59/245 , C08G59/621 , C08L63/00 , C08L63/04 , C08L2205/05
Abstract: 본발명은화학식 1의포스포늄이온함유화합물, 이를포함하는에폭시수지조성물, 및이를사용하여제조된장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及化学式1的含有鏻离子的化合物，含有该化合物的鏻离子的化合物，以及使用该鏻离子的装置。
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