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公开(公告)号：KR101674989B1
公开(公告)日：2016-11-22
申请号：KR1020130057256
申请日：2013-05-21
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/36 , G03F7/40
Abstract: 하기화학식 1로표현되는부분을포함하는화합물및 용매를포함하는레지스트하층막용조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, A내지 A, X, X, L, L, Z 및 m은각각명세서에서정의한바와같다.
Abstract translation: 公开了一种抗蚀剂底层组合物，其包含包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。 在上述化学式1中，A1至A3，X1，X2，L1，L2，Z和m与说明书中所定义相同。
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公开(公告)号：KR1020150005167A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：KR1020130078592
申请日：2013-07-04
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/0392 , Y10S430/1055
Abstract: (A) 적어도 하나의 말단에 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물; 및 (C) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그리고 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자가 제공된다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)Abstract translation: 在本发明中，提供一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）在至少一个末端具有由化学式1表示的官能团的聚苯并恶唑前体：（B）感光性重氮醌化合物; （C）和溶剂和感光性树脂层以及使用其的显示装置。 在化学式1中，每个取代基如说明书中所定义。 根据本发明的实施例，提供了一种包括感光性树脂层的显示装置。
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公开(公告)号：KR101423177B1
公开(公告)日：2014-07-29
申请号：KR1020110147388
申请日：2011-12-30
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/105 , G03F7/0233 , G03F7/0757
Abstract: (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 또는 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 페놀화합물, (D) 흡광 파장이 400 내지 700nm인 유기염료 1 종 이상 및 (E) 용매를 포함하며, 상기 유기염료(D)는 상기 알칼리 가용성 수지 전구체 100 중량부에 대하여 1 내지 40 중량부로 포함되는 포지티브형 감광성 수지 조성물를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020120036126A
公开(公告)日：2012-04-17
申请号：KR1020100097834
申请日：2010-10-07
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F220/28 , C08F220/34 , C08F2220/1841 , C08F20/10 , C08F20/18 , C08L33/04 , G03F7/004 , G03F7/0045 , C08F2220/281 , C08F220/06 , C08F2220/1875
Abstract: PURPOSE: A (meth)acrylate-based polymer is provided not to generate scum because of excellent solubility to developer, to have excellent adhesion to a substrate, and to manufacture a resin film with excellent implant resistance. CONSTITUTION: A (meth)acrylate-based polymer comprises repeating units in chemical formula 1-3. In chemical formulas, R^1 comprises hydrogen or a methyl group, R^10 comprises a substituted or unsubstituted C3-20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C2-20 heterocycloalkyl group, n is an integer of 0-3, R^2 comprises hydrogen or a methyl group, R^20 comprises a substituted or unsubstituted C3-20 cyclo alkyl group including an ester group, R^3 comprises hydrogen or a methyl group, and R^30 comprises t-butyl, triethylcarbyl, 1-methylcyclohexy, 1- ethylcyclopentyl, t-amyl, or acetal.
Abstract translation: 目的：提供一种（甲基）丙烯酸酯系聚合物，由于对显影剂的溶解性优异，对基材的附着性优异，并且制造具有优异的耐注入性的树脂膜，不产生浮渣。 构成：（甲基）丙烯酸酯类聚合物包含化学式1-3中的重复单元。 在化学式中，R 1包括氢或甲基，R 10包含取代或未取代的C 3-20环烷基，或取代或未取代的C 2-20杂环烷基，n是0-3的整数，R' 2包含氢或甲基，R 12 20包含取代或未取代的包括酯基的C 3-20环烷基，R 3 3包含氢或甲基，R 10 30包括叔丁基，三乙基羰基， 甲基环己基，1-乙基环戊基，叔戊基或缩醛。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101609631B1
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：KR1020120152458
申请日：2012-12-24
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0233
Abstract: (A) 하기화학식 1로표시되는반복단위를포함하는화합물인용해조절제, (B) 폴리벤조옥사졸전구체, (C) 감광성디아조퀴논화합물및 (D) 용매를포함하는포지티브형감광성수지조성물, 그리고이를이용한표시소자용유기절연막및 표시소자가제공된다. [화학식 1](상기화학식 1에서, 각치환기는명세서에정의된바와같다.)
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公开(公告)号：KR101486568B1
公开(公告)日：2015-01-27
申请号：KR1020110147903
申请日：2011-12-30
Applicant: 제일모직주식회사
Abstract: (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 또는 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 150℃ 내지 200℃에서 분해되는 열산발생제 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공한다.
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8.发明公开
公开(公告)号：KR1020140127691A
公开(公告)日：2014-11-04
申请号：KR1020130046363
申请日：2013-04-25
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/092 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/0271
Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 포함하는 화합물 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
상기 A
1 , A
2 , B
1 , R
1 , R
2 는 각각 명세서에서 정의한 바와 같다.Abstract translation: 提供一种抗蚀剂底层组合物，其包含包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。 [化学式1]在化学式1中，A1，A2，B1，R1和R2分别在规范中定义。
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公开(公告)号：KR101354640B1
公开(公告)日：2014-01-27
申请号：KR1020110147877
申请日：2011-12-30
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03C1/61 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , G03F7/105
Abstract: (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 및 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 페놀화합물, (D) 유기 염료 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공하며, 상기 유기 염료(D)는 흡광 파장이 590 내지 700 nm인 적어도 하나의 적색 염료, 흡광 파장이 550 내지 590 nm인 적어도 하나의 황색 염료 및 흡광 파장이 450 내지 500 nm인 적어도 하나의 청색 염료이다.
Abstract translation: （A）包括聚苯并恶唑前体，所述聚酰亚胺前体和碱溶性树脂被从组合中选择，（B）感光性直径jokwi匿名化合物，（C）的酚化合物，（d）的有机染料和（E）溶剂 正提供了一种光敏树脂组合物，其中所述有机染料（d），其是590至700nm的至少一种红色染料，至少一种黄色染料和550〜590nm的450到吸收波长的吸收波长的吸收波长 500nm。
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公开(公告)号：KR1020130078760A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020110147877
申请日：2011-12-30
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03C1/61 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , G03F7/105
Abstract: PURPOSE: A positive photosensitive resin composition is provided to have an excellent light shielding without inhibiting the intrinsic physical property of an insulating layer by preventing the degradation of the insulation property, pattern development and residual removal rate. CONSTITUTION: A positive photosensitive resin composition comprises (A) alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor and their combination; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phenol compound; (D) organic dye; and (E) a solvent. The organic dye (D) includes at least one red dye with light absorption wavelengths of 590-700 nm, at least one yellow dye with light absorption wavelengths of 550-590 nm, and at least blue dye with light absorption wavelengths of 450-500 nm.
Abstract translation: 目的：提供正型感光性树脂组合物，通过防止绝缘性，图案形成和残留除去率的劣化，具有优异的遮光性而不会妨碍绝缘层的固有物性。 构成：正型感光性树脂组合物包含（A）选自聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体及其组合的碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （C）酚化合物; （D）有机染料; 和（E）溶剂。 有机染料（D）包括至少一种具有590-700nm光吸收波长的红色染料，至少一种具有550-590nm光吸收波长的黄色染料，至少蓝色染料的光吸收波长为450-500 纳米。
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