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公开(公告)号：WO2021080089A1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：PCT/KR2020/000321
申请日：2020-01-08
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 표면파 공진 원리를 기반으로 플라즈마-쉬스(Plasma-sheath)에서 발생되는 표면파 공진 주파수를 측정하여 플라즈마 공정을 실시간으로 모니터링할 수 있는 비침습형 플라즈마 공정 진단 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 비침습형 플라즈마 공정 진단 방법은 정전척(ESC, Electrostatic Chuck)의 일측 또는 챔버의 내벽에 적어도 하나의 프로브를 설치하는 단계(S10), 상기 프로브를 이용하여 플라즈마 또는 쉬스에 고주파를 투사하는 단계(S20) 및 상기 프로브가 플라즈마 또는 쉬스로부터 반사되는 주파수를 검출하는 단계(S30)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 프로브에서 검출된 주파수를 이용하여 주파수에 따른 반사 스펙트럼을 추출하는 단계(S40), 상기 프로브에서 검출된 주파수 또는 반사 스펙트럼을 이용하여 플라즈마-쉬스의 표면파 공진 주파수를 추출하는 단계(S50) 및 상기 표면파 공진 주파수를 토대로 플라즈마의 전자밀도 또는 균일도(uniformity)를 추출하는 단계(S60)를 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2019039763A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：PCT/KR2018/008729
申请日：2018-07-31
Applicant: 리켐주식회사 , 충남대학교산학협력단
IPC: H01M10/0569 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M4/525 , H01M4/505
Abstract: 본 발명은 리튬 이차 전지용 전해액 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고전압에서도 우수한 안정성을 갖는 난연성 또는 불연성의 리튬 이차 전지용 전해액 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR102217574B1
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：KR1020180092324
申请日：2018-08-08
Applicant: (주)스카이이앤엠 , 충남대학교산학협력단
IPC: H01M10/0569 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M4/525 , H01M4/505
Abstract: 본발명은리튬이차전지용전해액및 이를포함하는리튬이차전지에관한것으로서, 더욱상세하게는고전압에서도우수한안정성을갖는난연성또는불연성의리튬이차전지용전해액및 이를포함하는리튬이차전지에관한것이다.
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公开(公告)号：KR102200662B1
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：KR1020190132290
申请日：2019-10-23
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은표면파공진원리를기반으로플라즈마-쉬스(Plasma-sheath)에서발생되는표면파공진주파수를측정하여플라즈마공정을실시간으로모니터링할수 있는비침습형플라즈마공정진단방법및 장치에관한것이다. 본발명에따른비침습형플라즈마공정진단방법은정전척(ESC, Electrostatic Chuck)의일측또는챔버의내벽에적어도하나의프로브를설치하는단계(S10), 상기프로브를이용하여플라즈마또는쉬스에고주파를투사하는단계(S20) 및상기프로브가플라즈마또는쉬스로부터반사되는주파수를검출하는단계(S30)를포함할수 있다. 또한, 상기프로브에서검출된주파수를이용하여주파수에따른반사스펙트럼을추출하는단계(S40), 상기프로브에서검출된주파수또는반사스펙트럼을이용하여플라즈마-쉬스의표면파공진주파수를추출하는단계(S50) 및상기표면파공진주파수를토대로플라즈마의전자밀도또는균일도(uniformity)를추출하는단계(S60)를포함할수 있다.
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