公开(公告)号：KR100316586B1

公开(公告)日：2002-02-28

申请号：KR1019960011994

申请日：1996-04-19

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 감직상 ,  한경섭 ,  최원국 ,  고석근 ,  정형진

IPC: C08J7/00 ,  C03B29/00 ,  C08J7/12

Abstract: PURPOSE: Provided are a method for modifying a polymer surface, which decrease a contact angle of the polymer surface, or increase adhesiveness of the polymer surface, and a material having surface modified by the method. CONSTITUTION: The method comprises directly blowing a reactive gas selected from oxygen, nitrogen, hydrogen, ammonia, carbon monooxide, and a mixture thereof on the polymer surface, and then irradiating an ion particle having energy of 0.5-2.5 KeV to the polymer surface to decrease a contact angle or increase an adhesion in the polymer surface. The amount of blown gas is 1-8 ml/min. The polymer is selected from polycarbonate, polymethylmethacrylate, polyimide, teflon, polyvinylidene fluoride, polyethylene terephthalate, polyethylene, and silicone rubber.

公开(公告)号：KR1019960037742A

公开(公告)日：1996-11-19

申请号：KR1019960011994

申请日：1996-04-19

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 감직상 ,  한경섭 ,  최원국 ,  고석근 ,  정형진

IPC: C08J7/00 ,  C03B29/00 ,  C08J7/12

Abstract: 본 발명은 진공 상태하에, 반응성 가스를 고분자, 세라믹, ITO 또는 유리 표면에 직접 불어 넣어주면서, 에너지를 가진 이온 입자를 고분자, 세라믹, ITO 또는 유리 표면에 조사하여 그 표면의 접촉각을 감소시켜 고분자, 세라믹, ITO 또는 유리 표면을 개질하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면 개질 방법은 재료 표면의 접촉각을 크게 감소시킴으로서 수성 물감의 번집 증가, 다른 물질과의 접착력 증가 및 빛의 산란 방지 등을 가져올 수 있어 고분자, 세라믹, ITO 또는 유리의 응용 분야에서 널리 이용될 수 있다.