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公开(公告)号：KR20210033814A
公开(公告)日：2021-03-29
申请号：KR1020190115587A
申请日：2019-09-19
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C16/455 , C23C14/08 , C23C14/52 , C23C16/40 , G01N30/74
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C14/08 , C23C14/52 , C23C16/40 , G01N2030/743
Abstract: 본 개시는, 박막을 형성하기 위한 내부 공간을 제공하는 반응 챔버를 포함하며, 반응 챔버와 연결되도록 개구부가 박막 증착장치에 형성되고, 개구부는 광이 투과가능한 윈도우(window)에 의해 폐쇄되는, 박막 증착장치를 개시한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102227526B1
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：KR1020190115580A
申请日：2019-09-19
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L51/00
CPC classification number: H01L51/0003 , H01L51/001 , H01L51/0001 , H01L51/0008 , H01L51/0077 , H01L51/4253 , H01L51/4293 , H01L2251/5346 , Y10S977/812
Abstract: 본 개시는, 기판을 제공하는 단계, 기판 상에 제1 페로브스카이트 층을 형성하는 단계, 기판을 기체 상태의 금속 할라이드, 금속 산화물, 금속 황화물 중 어느 하나 또는 이들의 조합에 노출함으로써, 제1 페로브스카이트 층 상에 금속 층을 형성하는 단계, 및 금속 층 상에 할로겐 화합물을 공급하여, 금속 층에 포함된 금속 할라이드, 금속 산화물, 금속 황화물 중 어느 하나 또는 이들의 조합과 공급된 할로겐 화합물 간의 반응에 의해, 제2 페로브스카이트 층을 형성하는 단계를 포함하는, 복층 구조의 페로브스카이트를 제조하는 방법을 개시한다.
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公开(公告)号：KR102227526B1
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：KR1020190115580
申请日：2019-09-19
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L51/00
Abstract: 본개시는, 기판을제공하는단계, 기판상에제1 페로브스카이트층을형성하는단계, 기판을기체상태의금속할라이드, 금속산화물, 금속황화물중 어느하나또는이들의조합에노출함으로써, 제1 페로브스카이트층 상에금속층을형성하는단계, 및금속층 상에할로겐화합물을공급하여, 금속층에포함된금속할라이드, 금속산화물, 금속황화물중 어느하나또는이들의조합과공급된할로겐화합물간의반응에의해, 제2 페로브스카이트층을형성하는단계를포함하는, 복층구조의페로브스카이트를제조하는방법을개시한다.
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公开(公告)号：KR102108191B1
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：KR1020180130158
申请日：2018-10-29
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L31/032 , H01L31/0224 , H01L31/042 , H01L31/18
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