Abstract:
본 발명은, 전극이 형성된 센서기판 및 상기 전극이 형성된 센서기판 상에 금속산화물 나노입자가 분산된 용액을 분사하여 형성된 박층의 센서소재를 포함하는 가스센서 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 가스센서는 센서소재가 미세한 나노입자들로 구성된 금속산화물 박층으로 형성되어, 매우 큰 금속산화물 비표면적을 가지며 다공성이므로, ppb 레벨의 높은 감도(Sensitivity)와 우수한 반응속도를 구현한다. 또한, 본 발명의 가스센서는 상온에서 제조하는 것이 가능하며, 분사 시간의 조절을 통해 센서소재의 두께를 쉽게 조절할 수 있어, 박막 또는 후막 가스센서로 제조하는 것이 용이하다.
Abstract:
The fingerprint recognition method is for discriminating the identity of two fingerprints by comparing break points and diverging points of fingerprints. The method comprises two steps: (A) comparing print patterns of the registered and the input finger prints and setting intervals; above upper boundary, between upper and lower boundary, and below lower boundary; (B) discriminating that two finger prints are identical or different if the difference belongs to upper boundary and lower boundary respectively; (C) if the difference is between upper and lower boundary, extracting the characteristic points of input finger print by preprocessing (19) and edge detection process and comparing the similarities.
Abstract:
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 비스(스티릴)피리미딘 및 비스(스티릴)벤젠 유도체, 이의 약학적으로 허용 가능한 염, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 함유하는 베타아밀로이드 집적 관련 질환의 예방 또는 치료용 약학적 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 화학식 1의 유도체 화합물은 베타아밀로이드 집적을 저해하고 베타아밀로이드의 독성을 감소시키며, 베타아밀로이드 집적 관련 질환에서 나타나는 학습 및 기억력 저하를 개선시키는 효과를 나타내므로 본 발명에 따른 화학식 1의 유도체 화합물은 베타아밀로이드 집적 관련 질환의 치료에 유용하게 사용될 수 있다. [화학식 1]
(상기 화학식 1에서, 상기 R 1 , R 2 , R 3 및 X는 본 명세서 내에 정의한 바와 같다.) 알츠하이머병 치료제, 베타아밀로이드, 베타아밀로이드 집적 관련 질환
Abstract:
PURPOSE: A bis(styryl)pyrimidine and bis(styryl)benzene derivative are provided to reduce beta-amyloid toxicity and to improve memory. CONSTITUTION: A bis(styryl)pyrimidine and bis(styryl)benzene derivative is denoted by chemical formula 1. A method for preparing bis(styryl)pyrimidine and bis(styryl)benzene derivative comprises: a step of condensing a pyridine derivative compound of chemical formula 2 and a benzaldehyde derivative compound of chemical formula 3 under the base presence to obtain a compound of chemical formula 4; and a step of deprotecting the compound of the chemical formula 4. The deprotection is performed in methylchloride solution containing trifluoreacetic acid in hydrochloric acid/ethanol(3:1) solution.