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公开(公告)号：KR1020170096806A
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：KR1020160018526
申请日：2016-02-17
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C14/58 , C23C14/14 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/22 , C23C16/44 , C23C16/06 , C23C16/26 , C23C16/56
Abstract: 본발명은탄화귀금속박막을형성한후, 산소플라즈마를이용하여박막내 탄소원자를선택적으로제거하는산소플라즈마디얼로잉(O2 plasma de-alloying) 공정을통해다공성귀금속박막의제조방법에관한것으로서, 본발명에의하면, 다공성의귀금속박막구조를제작하는전 과정이건식공정으로만이루어짐으로써, 종래전기화학적분해법또는선택적용해법등 습식공정을사용하는경우에비해청결한공정이가능하고높은재현특성으로인해다공성박막의응용분야인촉매, 센서, 연료전지전극, 에너지저장장치등의다양한분야에이용될수 있으며, 대량생산이가능하다는장점을갖는다.
Abstract translation: 本发明涉及通过划船制备多孔贵金属薄膜（O 2等离子体脱合金化）工艺用氧等离子体径向以选择性地通过使用碳化物贵金属薄膜，氧等离子体，在形成后除去在碳源那些薄膜的方法 根据本发明，由于整个过程yigeonsik过程euroman，常规的电化学分解或诸如可用的和高纯度的过程再现特性选择溶液与使用湿法工艺由yirueojim以产生多孔膜的孔隙率的贵金属薄膜结构的情况相比 催化剂的应用，而在传感器的不同区域使用，例如燃料电池用电极，能量存储装置具有大规模生产的优点是可能的。
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公开(公告)号：KR1020170021540A
公开(公告)日：2017-02-28
申请号：KR1020150116045
申请日：2015-08-18
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본발명은그래핀을기판상에전사(transfer)시키는과정없이탄화금속막을이용하여그래핀을제조하는방법에관한것으로, 그래핀을성장시키고자하는대상물상에, 탄화금속막을형성하여제1 구조체를준비하는단계와제1 구조체를열처리함으로써, 상기탄화금속막양측표면에그래핀을형성하여제2 구조체를형성하는단계와탄화금속막과그 상부표면에성장된그래핀을제거하는단계를구비하는탄화금속막을이용하여그래핀을제조하는방법을제공한다.
Abstract translation: 本发明是使用薄膜金属碳化物是一种方法，而不传输（传送）销在基板上制造的销，就在目标对象到图像生长所述销和椅子的过程中，形成的涂层的金属碳化物第一结构部件 通过对金属碳化物膜进行热处理，在金属碳化物膜的两个表面上形成石墨烯，并且去除生长在金属碳化物膜及其上表面上的石墨烯，从而形成第二结构 本发明提供使用金属碳化物膜制造石墨烯的方法。
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公开(公告)号：KR1020170022744A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：KR1020150118130
申请日：2015-08-21
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/165 , C23C14/046 , C23C14/3485 , C23C14/35 , C23C14/351 , H01J37/32394 , H01J37/32669 , H01J37/3405 , H01J37/3423 , H01J37/3426 , H01J37/3467
Abstract: 본발명은, 금속관시료의양쪽개구부가장착되고, 금속관시료내부의진공배기및 사용가스인입에의한압력조절이가능하도록금속관시료내부를외기로부터차단할수 있는장착대; 금속관시료내부에금속관시료와동축으로설치되는스퍼터링타겟용금속관; 금속관시료의외경부에금속관시료와동축으로설치되어금속관시료의축 방향으로펄스자기장이인가되도록하는펄스전자석; 상기펄스전자석에펄스전원을인가하는전자석펄스전원장치; 상기스퍼터링타겟용금속관에음(-)의고전압펄스를상기펄스전자석에서발생하는펄스전원과동기하여인가하는스퍼터링펄스전원장치를포함하는금속관의내벽코팅장치및 방법을제공한다.
Abstract translation: 提供一种用于涂覆金属管内壁的装置和方法。 用于涂覆金属管的内壁的装置包括安装柱，金属管的两个端部开口安装在该柱上，并且构造成将金属管的内部与周围空气阻挡，使得金属管中的压力可由 真空排气和工艺气体的流入，与金属管同轴地安装在金属管内的溅射靶金属管，与金属管同轴地安装在金属管的外周周围的脉冲电磁体，以在金属管中施加脉冲磁场 所述电磁脉冲电源单元被配置为向所述脉冲电磁体施加脉冲功率;以及溅射脉冲电源单元，被配置为使负高压脉冲与施加到所述脉冲电磁体的脉冲功率同步并应用 到溅射靶金属管。
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