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公开(公告)号：WO2013035983A1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/KR2012/006211
申请日：2012-08-03
IPC: H01J37/317 , H01J37/20 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/32412 , H01J37/3405 , H01L21/2236
Abstract: 상온에서 고체 상태로 존재하는 원소의 이온을 낮은 공정 압력에서 시료의 표면에 효율적으로 이온주입할 수 있는 플라즈마 이온주입 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 이온주입 장치는 내부가 진공 상태를 유지하는 진공조, 진공조에 결합되어 진공조 내부에 펄스 플라즈마를 발생하는 마그네트론 증착원, 진공조 내에서 마그네트론 증착원에 대향하는 위치에 설치되어 시료가 장착되는 전도성 시료 장착대, 및 입력되는 펄스 직류전력와 RF전력을 결합하여 마그네트론 증착원에 RF전력과 펄스 직류전력이 중첩된 RF-DC 결합전력을 공급하는 RF-DC 결합부를 포함한다.
Abstract translation: 提供了一种用于等离子体离子注入的装置和方法，其能够在低处理压力下有效地将在室温下以固态存在的原料的离子注入样品表面。 根据本发明的一个实施例的等离子体离子注入装置包括：保持真空状态的真空室; 耦合到所述真空室并在所述真空室内产生脉冲等离子体的磁控溅射源; 导电样品台安装在与磁控管溅射源相对的真空室内的位置，样品就座在其上; 以及组合输入的脉冲DC功率和RF功率并将其提供给磁控溅射源的组合的RF-DC功率，即重叠的RF功率和脉冲DC功率的RF-DC耦合器。
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公开(公告)号：WO2013055141A9
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：PCT/KR2012/008300
申请日：2012-10-12
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: A61L27/02 , C23C16/503 , C23C16/515
Abstract: 생체재료로 이용되는 임플란트나 인공관절 등의 인공대체물과 그 시술에 쓰이는 여러 부속품들의 골형성과 골유착 성능을 향상시키기 위한 생체용 재료의 표면개질 장치 및 표면개질 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 생체용 재료의 표면개질 장치는 내부가 진공 상태를 유지하는 진공조, 진공조에 결합되어 생체활성 물질의 플라즈마 이온을 발생하는 마그네트론 증착원, 진공조 내에서 마그네트론 증착원에 대향하는 위치에 설치되어 시료가 장착되는 시료장착대, 마그네트론 증착원에 펄스직류 전력을 공급하여, 마그네트론 증착원으로부터 스퍼터링되는 생체활성 물질의 플라즈마 이온들을 발생시키는 펄스직류 전원부, 및 시료장착대에 음(-)의 고전압 펄스를 공급하여, 마그네트론 증착원으로부터 형성되는 생체활성 물질의 플라즈마 이온들을 이온주입시키는 고전압 펄스 전원부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR101181449B1
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：KR1020100003765
申请日：2010-01-15
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 인공 관절용 고분자 소재, 특히 초고분자량 폴리에틸렌의 내마모성 향상을 위한 것으로, 고체 이온을 위 고분자 소재의 표면에 효율적으로 이온 주입하기 위하여 고안된 것으로, 동기화된 펄스전압이 인가된 마그네트론(magnetron) 스퍼터링 증착원과 고전압 펄스를 이용함으로써 고체 원소 이온의 플라즈마 형태로의 주입을 가능하게 하는 방법 및 그 장치에 관한 것이다.
종래 박막증착을 위한 증착원으로서 이용되고 있었던 마그네트론 스퍼터링 증착원으로서 생체적합성이 뛰어나고 시료 내부로 이온주입되어 세라믹 입자를 형성할 수 있는 원소의 스퍼터링 증착원을 장착하여 펄스직류 전원을 이용한 펄스 모드로 작동하고, 이와 동기화된 고전압 펄스를 시료에 인가함으로써 펄스 모드의 마그네트론 스퍼터링 증착원으로부터 발생된 이온을 가속하여 시료의 표면에 이온주입을 할 수 있게 한다.
본 발명에 의한, 고체 원소 플라즈마 이온주입 방법은, 펄스 마그네트론 스퍼터링 증착원과 동기화된 고전압 펄스를 이용함으로써, 소재의 표면에 고체 이온을 효율적으로 이온 주입할 수 있으며, 이로 인하여 인공 관절용 소재의 내마모성 향상을 구현할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020120084844A
公开(公告)日：2012-07-31
申请号：KR1020110006123
申请日：2011-01-21
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: A61L27/30 , A61F2/30 , A61F2002/30003 , A61F2002/3006 , A61L27/04 , A61L27/306 , C23C14/48
Abstract: PURPOSE: A method for preparing artificial joint materials and an apparatus thereof are provided to reduce the abrasion of artificial joint materials. CONSTITUTION: A method for preparing artificial joint materials is as follows. A ceramic thin film is deposited on a metal material used as a material for the artificial joint. The abrasion quantity of a polymer material for the artificial joint is reduced by injecting the ions of active gas to the surface of a metal material.
Abstract translation: 目的：提供一种制备人造关节材料的方法及其装置，以减少人造关节材料的磨损。 构成：人造关节材料的制备方法如下。 将陶瓷薄膜沉积在用作人造关节材料的金属材料上。 通过将活性气体的离子注入到金属材料的表面，人造接头的聚合物材料的磨损量减少。
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公开(公告)号：KR101267459B1
公开(公告)日：2013-05-31
申请号：KR1020110091468
申请日：2011-09-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/265 , C23C14/48 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32412 , H01J37/3405 , H01L21/2236
Abstract: 상온에서고체상태로존재하는원소의이온을낮은공정압력에서시료의표면에효율적으로이온주입할수 있는플라즈마이온주입장치및 방법을제공한다. 본발명의실시예에따른플라즈마이온주입장치는내부가진공상태를유지하는진공조, 진공조에결합되어진공조내부에펄스플라즈마를발생하는마그네트론증착원, 진공조내에서마그네트론증착원에대향하는위치에설치되어시료가장착되는전도성시료장착대, 및입력되는펄스직류전력와 RF전력을결합하여마그네트론증착원에 RF전력과펄스직류전력이중첩된 RF-DC 결합전력을공급하는 RF-DC 결합부를포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130039483A
公开(公告)日：2013-04-22
申请号：KR1020110104070
申请日：2011-10-12
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: A61L27/28 , A61L27/02 , C23C16/503 , C23C16/515
CPC classification number: C23C14/205 , C23C14/345 , C23C14/358 , H01J37/3405 , H01J37/3467
Abstract: PURPOSE: An apparatus for surface modification of biological materials and a method therefor are provided to improve osteogenesis and synostosis performances of a prosthesis in an operation, by carrying out plasma ion injection of solid bioactive materials to the prosthesis and various parts used in the operation. CONSTITUTION: An apparatus for surface modification of biological materials comprises a vacuum tank(1) of which the inside is maintained to be vacuum; a magnetron vapor deposition source(6) for generating plasma ions of a biological material-single material of an element or compound material of elements; a sample mounting table(7) for mounting a sample, provided at the location facing the magnetron vapor deposition source inside the vacuum tank; and a pulsed direct current power unit(5) for supplying pulsed direct current power to the magnetron vapor deposition source so as to generate plasma ions of a biological material sputtered from the magnetron vapor deposition source.
Abstract translation: 目的：提供一种用于生物材料表面改性的设备及其方法，用于通过将固体生物活性材料等离子体离子注入假体和操作中使用的各种部件来改善假体在手术中的成骨和骨化性能。 构成：用于生物材料的表面改性的装置包括其内部保持为真空的真空罐（1）; 用于产生元素或元素复合材料的生物材料单一材料的等离子体离子的磁控管气相沉积源（6）; 用于安装样品的样品安装台（7），设置在所述真空槽内面向所述磁控管蒸镀源的位置; 以及用于向磁控管气相沉积源提供脉冲直流电力以产生从磁控管气相沉积源溅射的生物材料的等离子体离子的脉冲直流电力单元（5）。
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公开(公告)号：KR1020110083827A
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：KR1020100003765
申请日：2010-01-15
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for improving abrasion-resistance of a polymer material for an artificial joint are provided to efficiently inject ions into the surface of a material regardless of the shape of the material using a high-voltage pulse synchronized with a pulse magnetron sputtering deposition source. CONSTITUTION: An apparatus for improving abrasion-resistance of a polymer material for an artificial joint comprises a vacuum tank(1), a plasma generating gas induction device(8), a solid ion plasma generator, and a sample mounting stand(7). The plasma generating gas induction device is installed in the vacuum tank. The solid ion plasma generator uses a magnetron sputtering deposition source(4) installed inside the vacuum tank. The sample mounting stand is installed to be separated from the solid ion plasma generator.
Abstract translation: 目的：提供一种用于改善人造关节聚合物材料的耐磨性的方法和设备，以使用与脉冲磁控管同步的高电压脉冲来有效地将离子注入材料的表面，而不管材料的形状如何 溅射沉积源。 构成：用于改善人造接头的聚合物材料的耐磨性的装置包括真空槽（1），等离子体产生气体诱导装置（8），固体离子等离子体发生器和样品安装台（7）。 等离子体产生气体感应装置安装在真空罐中。 固体离子等离子体发生器使用安装在真空罐内的磁控溅射沉积源（4）。 样品安装台安装成与固体离子等离子体发生器分离。
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公开(公告)号：KR101649746B1
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020110006123
申请日：2011-01-21
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본발명은인공관절용고분자소재의마모량감소를목적으로, 상대재인금속소재의관절표면층에세라믹박막을효율적으로증착하기위하여고안된것으로, 고분자소재의마모량을더욱감소시키기위해박막의증착전에이온주입을수행하는방법, 세라믹박막을증착하는방법, 그리고세라믹박막과금속소재사이의접합력을증진시키기위해박막의증착과동시에이온주입을수행하는방법및 그장치에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020130125095A
公开(公告)日：2013-11-18
申请号：KR1020120048595
申请日：2012-05-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/324 , H01L21/26
CPC classification number: H01L21/02667 , H01J37/3211 , H01J37/32174 , H01J37/32412 , H01L21/265 , H01L21/324
Abstract: Disclosed are an apparatus and method for crystallizing an amorphous semiconductor thin film. The apparatus for crystallizing the amorphous semiconductor thin film according to the present invention includes: a vacuum chamber on which a substrate mounting stand on which a substrate is mounted is arranged and in which a vacuum state is maintained; a crystallization catalyst material deposition source which is connected to the vacuum chamber and injects crystallization catalyst material ions; a semiconductor thin film deposition source which is separated from the crystallization catalyst deposition source and deposits a semiconductor thin film on the substrate; and an inductively coupled plasma generator. [Reference numerals] (S10) Step for mounting a substrate on a substrate mounting stand arranged inside a vacuum chamber where a vacuum state is maintained;(S20) Step for injecting plasma ions of crystallization catalyst materials;(S30) Step for depositing an amorphous conductor thin film on the substrate;(S40) Step for heat-treating the amorphous conductor thin film
Abstract translation: 公开了一种使非晶半导体薄膜结晶的装置和方法。 根据本发明的用于结晶非晶半导体薄膜的装置包括：布置有其上保持有真空状态的其上安装有基板的基板安装台的真空室; 结晶催化剂材料沉积源，其连接到真空室并注入结晶催化剂材料离子; 半导体薄膜沉积源，其与所述结晶催化剂沉积源分离并将半导体薄膜沉积在所述衬底上; 和电感耦合等离子体发生器。 （S10）（S10）将基板安装在保持真空状态的真空室内的基板安装台上的步骤;（S20）结晶催化剂材料的等离子体离子注入工序;（S30）沉积非晶态的步骤 导电薄膜;（S40）非晶导体薄膜的热处理工序
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公开(公告)号：KR101305382B1
公开(公告)日：2013-09-06
申请号：KR1020110104070
申请日：2011-10-12
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: A61L27/28 , A61L27/02 , C23C16/503 , C23C16/515
CPC classification number: C23C14/205 , C23C14/345 , C23C14/358 , H01J37/3405 , H01J37/3467
Abstract: 생체재료로 이용되는 임플란트나 인공관절 등의 인공대체물과 그 시술에 쓰이는 여러 부속품들의 골형성 또는 골유착 성능을 향상시키기 위한 생체용 재료의 표면개질 장치 및 표면개질 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 생체용 재료의 표면개질 장치는 내부가 진공 상태를 유지하는 진공조, 진공조에 결합되어 생체활성 물질의 플라즈마 이온을 발생하는 마그네트론 증착원, 진공조 내에서 마그네트론 증착원에 대향하는 위치에 설치되어 시료가 장착되는 시료장착대, 마그네트론 증착원에 펄스직류 전력을 공급하여, 마그네트론 증착원으로부터 스퍼터링되는 생체활성 물질의 플라즈마 이온들을 발생시키는 펄스직류 전원부, 및 시료장착대에 음(-)의 고전압 펄스를 공급하여, 마그네트론 증착원으로부터 형성되는 생체활성 물질의 플라즈마 이온들을 이온주입시키는 고전압 펄스 전원부를 포함한다.
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