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公开(公告)号：KR101249262B1
公开(公告)日：2013-04-02
申请号：KR1020110015507
申请日：2011-02-22
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01B1/08
Abstract: 본 발명은 투명도전 조성물 및 타겟, 이를 이용한 투명도전 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 하기 화학식의 조성을 포함하는 투명도전 조성물 및 박막용 타겟, 상기 타겟을 이용한 투명도전 박막 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 하기 화학식으로 표시되는 특정의 조성을 포함하여 우수한 도전성(낮은 저항률) 및 높은 광투과율을 갖는다. 특히, 상온에서 증착되었음에도 불구하고 10
-3 Ω·cm 이하의 낮은 저항률과 90% 이상의 높은 광투과율을 가져 미래의 핵심 디스플레이 산업이라고 할 수 있는 연성전자소자에도 매우 유용하게 적용될 수 있다.
[화학식]
Al
x Zn
1
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x O
위 화학식에서, x는 0.04 ≤ x ≤ 0.063이다.-
公开(公告)号：KR1020130001930A
公开(公告)日：2013-01-07
申请号：KR1020110062861
申请日：2011-06-28
IPC: C23C14/34
Abstract: PURPOSE: A sputtering device for depositing a thin film and searching a composition is provided to install a contamination preventing shield chamber at the front end portion of each sputter gun, thereby minimizing a cross contamination between targets in pre-sputtering and increasing the utilization of space inside the chamber. CONSTITUTION: A sputtering device comprises a main chamber(100), a substrate holder(200), plural sputter guns(300), a shutter assembly(500), a distance controlling means(400), and a contamination preventing shield chamber(600). The sputter gun(300) is installed inside the main chamber(100), and is equipped with a target(T). The shutter assembly(500) is installed inside the main chamber(100), and includes a shutter(520) which prevents a contamination of the target(T) in pre-sputtering. The shutter assembly(500) includes the shutter(520) and a linear moving means(540). The linear moving means(540) linearly moves the shutter(520). The distance controlling means(400) moves the sputter gun(300) so that a distance between the sputter gun(300) and a substrate(S) is controllable. The contamination preventing shield chamber(600) is installed at the front end portion of the sputter gun(300). The front end portion of the sputter gun(300) and the shutter(520) of the shutter assembly(500) are contained in the contamination preventing shield chamber(600). An entrance portion(640) for moving the shutter(520) in and out is formed at the contamination preventing shield chamber(600).
Abstract translation: 目的：提供用于沉积薄膜并搜索组合物的溅射装置，以在每个溅射枪的前端部分安装防污染屏蔽室，从而最小化预溅射中目标之间的交叉污染并增加空间的利用 在房间里面 构成：溅射装置包括主室（100），基板保持架（200），多个溅射枪（300），快门组件（500），距离控制装置（400）和防污染屏蔽室 ）。 溅射枪（300）安装在主室（100）的内部，并配备有目标（T）。 闸门组件（500）安装在主室（100）的内部，并且包括防止在预溅射中污染目标（T）的挡板（520）。 快门组件（500）包括快门（520）和线性移动装置（540）。 线性移动装置（540）直线地移动快门（520）。 距离控制装置（400）移动溅射枪（300），使得溅射枪（300）和衬底（S）之间的距离是可控的。 防污染屏蔽室（600）安装在溅射枪（300）的前端部分。 溅射枪（300）的前端部和挡板组件（500）的挡板（520）被容纳在防污染屏蔽室600中。 在防污染屏蔽室（600）上形成用于移动快门（520）进出的入口部分（640）。
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公开(公告)号：KR101255524B1
公开(公告)日：2013-04-23
申请号：KR1020110062861
申请日：2011-06-28
IPC: C23C14/34
Abstract: 본 발명은 스퍼터링 장치에 관한 것이다. 본 발명은 메인 챔버; 상기 메인 챔버의 내부에 설치되고, 기판이 고정되는 기판 홀더; 상기 메인 챔버의 내부에 설치되고, 타겟이 장착되는 복수의 스퍼터 건; 상기 메인 챔버의 내부에 설치되고, 프리-스퍼터링 시 타겟의 오염을 방지하는 셔터를 포함하는 셔터 조립체; 상기 스퍼터 건과 기판의 거리 조절이 가능하도록, 상기 스퍼터 건을 이동시키는 거리 조절수단; 및 상기 스퍼터 건의 전단부에 설치되어, 스퍼터 건의 전단부와 셔터 조립체의 셔터를 내장시키며, 상기 셔터가 출입되는 출입부가 형성된 오염방지 쉴드 챔버를 포함하는 스퍼터링 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 스퍼터링 장치는 박막 형성 장치로서의 기능을 할 뿐만 아니라, 빠른 시간 내에 조성을 탐색할 수 있는 장치로 사용될 수 있다. 또한, 프리-스퍼터링 시 타겟 간의 상호오염을 최소화할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020120097451A
公开(公告)日：2012-09-04
申请号：KR1020110015507
申请日：2011-02-22
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01B1/08
Abstract: PURPOSE: A transparent conductive composition is provided to have excellent conductivity, low resistance, and optical transmittance by doping with a specific composition ratio. CONSTITUTION: A transparent conductive composition comprises a composition with a chemical formula of AlxZn(1-x)O. In the chemical formula, 0.04
Abstract translation: 目的：提供透明导电组合物以通过以特定组成比掺杂以具有优异的导电性，低电阻和光透射率。 构成：透明导电组合物包含具有化学式Al x Zn（1-x）O的组合物。 在化学式中，0.04 <= x <= 0.063。 透明导电薄膜的靶包含具有化学式的组合物。 透明薄膜包含具有化学式的组合物，透光率为90％以上，电阻率为10 ^（ - 3）Ω·cm以下。 透明薄膜的制造方法包括获得目标的步骤和在室温下通过溅射蒸发靶的步骤。
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