하이브리드 투명전극 및 이의 제조방법

    公开(公告)号:KR101519888B1

    公开(公告)日:2015-05-15

    申请号:KR1020130120855

    申请日:2013-10-10

    Abstract: 본 발명의 목적은 하이브리드 투명전극 및 이의 제조방법을 제공하는 데 있다. 이를 위하여 이를 위하여 본 발명은 투명기판 상에 금속 메쉬층 및 은 나노와이어 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 메쉬 및 은 나노와이어의 하이브리드 투명전극을 제공한다. 또한, 본 발명은 투명 기판 상에 금속 메쉬층을 형성하는 단계(단계 1); 및 상기 투명 기판 상에 형성된 금속 메쉬층에 은 나노와이어를 성장시켜 은 나노와이어 층을 형성하는 단계(단계 2);를 포함하는 하이브리드 투명전극의 제조방법을 제공한다. 본 발명에서는 미세 선폭을 가지는 금속 메쉬층 상에 은 나노와이어 층을 형성하여 금속 메쉬층이 눈에 보이게 되는 시인성 문제를 해결하고, 미세 선폭으로 인하여 발생하는 전기전도도의 저하를 은 나노와이어 층으로 보완할 수 있다. 또한, 금속 메쉬층과 은 나노와이어 층이 동시에 형성됨으로 인하여 전기 전도도가 향상될 수 있으므로, 은 나노와이어 층을 적절한 두께로 형성할 수 있어 나노와이어 층으로 인하여 발생하는 헤이즈(Haze) 문제를 해결할 수 있다. 나아가, 투명전극을 형성하기 위한 공정에서 화학적인 공정이 사용되지 않을 수 있으므로, 투명전극이 친환경적으로 제조될 수 있다.

    미세구리배선의 제조 방법 및 이를 이용한 트랜지스터제조방법
    2.
    发明授权
    미세구리배선의 제조 방법 및 이를 이용한 트랜지스터제조방법 有权
    微铜线制造方法和使用相同晶体管的制造方法

    公开(公告)号:KR101554563B1

    公开(公告)日:2015-09-21

    申请号:KR1020130156330

    申请日:2013-12-16

    Abstract: 기판상부에구리나노입자를포함하는코팅층을형성하는단계, 레이저를코팅층에조사하는단계, 잔류코팅층을제거하는단계를포함하고, 상기구리나노입자는, 90%이상의구리를포함하는것을특징으로하고, 상기레이저를코팅층에조사하는단계는, 레이저스캐닝속도가 1 ~ 3000mm/s의속도로스캐닝하는것을특징으로하는구리배선의제조방법.

    레이저 직접 패터닝을 이용한 터치스크린 패널의 제조방법
    3.
    发明授权
    레이저 직접 패터닝을 이용한 터치스크린 패널의 제조방법 有权
    使用激光直接图案制作触摸屏面板的方法

    公开(公告)号:KR101625584B1

    公开(公告)日:2016-05-31

    申请号:KR1020140114253

    申请日:2014-08-29

    Abstract: 본발명은유기금속화합물잉크를기판상부에도포하는단계(단계 1); 상기단계 1에서유기금속화합물잉크가도포된기판을예비가열(pre-baking)하는단계(단계 2); 상기단계 2에서예비가열된기판에레이저직접패터닝방법을수행하여전극을형성하는단계(단계 3); 및상기단계 3에서전극이형성된기판을세척하는단계(단계 4);를포함하는터치스크린패널의제조방법을제공한다. 본발명에따른터치스크린패널의제조방법은유기금속화합물잉크를기판에도포한후 예비가열하여형성되는금속나노입자의광흡수율을조절하고, 광흡수율이조절된금속나노입자에레이저직접패터닝방법을수행하여투명전극패턴및 베젤전극패턴을동시에제조할수 있으며, 상기패턴의선폭을조절할수 있는효과가있다. 또한, 본발명의제조방법으로제조된터치스크린패널은 95 % 이상의투과도를가질수 있을뿐만아니라, 전기적특성이우수한효과가있다.

    레이저 직접 패터닝을 이용한 터치스크린 패널의 제조방법
    4.
    发明公开
    레이저 직접 패터닝을 이용한 터치스크린 패널의 제조방법 有权
    使用激光直接格式制作触摸屏面板的方法

    公开(公告)号:KR1020160027442A

    公开(公告)日:2016-03-10

    申请号:KR1020140114253

    申请日:2014-08-29

    CPC classification number: G06F3/041 G06F2203/04103

    Abstract: 본발명은유기금속화합물잉크를기판상부에도포하는단계(단계 1); 상기단계 1에서유기금속화합물잉크가도포된기판을예비가열(pre-baking)하는단계(단계 2); 상기단계 2에서예비가열된기판에레이저직접패터닝방법을수행하여전극을형성하는단계(단계 3); 및상기단계 3에서전극이형성된기판을세척하는단계(단계 4);를포함하는터치스크린패널의제조방법을제공한다. 본발명에따른터치스크린패널의제조방법은유기금속화합물잉크를기판에도포한후 예비가열하여형성되는금속나노입자의광흡수율을조절하고, 광흡수율이조절된금속나노입자에레이저직접패터닝방법을수행하여투명전극패턴및 베젤전극패턴을동시에제조할수 있으며, 상기패턴의선폭을조절할수 있는효과가있다. 또한, 본발명의제조방법으로제조된터치스크린패널은 95 % 이상의투과도를가질수 있을뿐만아니라, 전기적특성이우수한효과가있다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种使用激光直接图案化来制备触摸屏面板的方法,该方法包括以下步骤:(步骤1)用有机金属复合油墨涂覆基底的上层; (步骤2)在步骤1中预烘烤涂有有机金属化合物油墨的基材; (步骤3)在步骤2中预烘烤的基板上进行激光直接图案化方法以形成电极; 和(步骤4)在步骤3中洗涤其上形成有电极的基板。根据本发明的制备触摸屏面板的方法调节通过用有机金属化合物涂覆基底而形成的金属纳米颗粒的光吸收率 油墨和预烘烤基材,并且以调节的光吸收率对金属纳米颗粒进行激光直接图案化方法以能够同时制造透明电极图案和边框电极图案并调整图案的临界尺寸。 此外,通过本发明的制备方法制造的触摸屏面板可以具有95%以上的透射率和优异的电性能。

    미세구리배선의 제조 방법 및 이를 이용한 트랜지스터제조방법
    5.
    发明公开
    미세구리배선의 제조 방법 및 이를 이용한 트랜지스터제조방법 有权
    微型铜线制造方法及使用该晶体管的制造方法

    公开(公告)号:KR1020150069788A

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:KR1020130156330

    申请日:2013-12-16

    Abstract: 기판상부에구리나노입자를포함하는코팅층을형성하는단계, 레이저를코팅층에조사하는단계, 잔류코팅층을제거하는단계를포함하고, 상기구리나노입자는, 90%이상의구리를포함하는것을특징으로하고, 상기레이저를코팅층에조사하는단계는, 레이저스캐닝속도가 1 ~ 3000mm/s의속도로스캐닝하는것을특징으로하는구리배선의제조방법.

    Abstract translation: 铜线的制造方法包括:在基板的上部形成包含铜纳米粒子的被覆层的工序; 将激光发射到涂层的步骤; 以及去除残留涂层的步骤。 铜纳米颗粒包含不少于90%的铜。 向涂层发射激光的步骤以1-3000mm / s的激光扫描速度进行扫描。

    금속패턴 형성방법
    6.
    发明授权
    금속패턴 형성방법 有权
    形成金属图案的方法

    公开(公告)号:KR101394968B1

    公开(公告)日:2014-05-15

    申请号:KR1020120113607

    申请日:2012-10-12

    Abstract: 금속패턴 형성방법에서, 기판 상에 금속 잉크층을 형성한다. 상기 금속 잉크층이 형성된 상기 기판을 가열하고, 상기 금속 잉크층 상에 보호층을 형성하고, 상기 기판의 상부에서 조사된 레이저가 상기 보호층을 통과하여 상기 금속 잉크층을 패터닝하며, 상기 보호층 및 상기 금속 잉크층을 제거하여 금속 패턴을 잔류시킨다. 이와 같이, 상기 금속 잉크층 상에 보호층을 형성한 후, 레이저 패터닝 공정을 수행하므로, 상기 금속 잉크층이 공기 중의 산소, 수분 또는 외부의 광과 직접 접촉하는 것이 방지되어, 상기 레이저 패터닝을 통한 금속 패턴의 형성시 균일성이 향상될 수 있다.

    하이브리드 투명전극 및 이의 제조방법
    7.
    发明公开
    하이브리드 투명전극 및 이의 제조방법 有权
    混合透明电极及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020150042369A

    公开(公告)日:2015-04-21

    申请号:KR1020130120855

    申请日:2013-10-10

    CPC classification number: H01B5/14 H01B13/00

    Abstract: 본발명의목적은하이브리드투명전극및 이의제조방법을제공하는데 있다. 이를위하여이를위하여본 발명은투명기판상에금속메쉬층및 은나노와이어층을포함하는것을특징으로하는금속메쉬및 은나노와이어의하이브리드투명전극을제공한다. 또한, 본발명은투명기판상에금속메쉬층을형성하는단계(단계 1); 및상기투명기판상에형성된금속메쉬층에은 나노와이어를성장시켜은 나노와이어층을형성하는단계(단계 2);를포함하는하이브리드투명전극의제조방법을제공한다. 본발명에서는미세선폭을가지는금속메쉬층상에은 나노와이어층을형성하여금속메쉬층이눈에보이게되는시인성문제를해결하고, 미세선폭으로인하여발생하는전기전도도의저하를은 나노와이어층으로보완할수 있다. 또한, 금속메쉬층과은 나노와이어층이동시에형성됨으로인하여전기전도도가향상될수 있으므로, 은나노와이어층을적절한두께로형성할수 있어나노와이어층으로인하여발생하는헤이즈(Haze) 문제를해결할수 있다. 나아가, 투명전극을형성하기위한공정에서화학적인공정이사용되지않을수 있으므로, 투명전극이친환경적으로제조될수 있다.

    Abstract translation: 本发明提供一种混合透明电极及其制造方法。 对于上述,本发明提供一种金属网和银纳米线混合透明电极,其在透明基板上包括金属网层和银纳米线层。 本发明提供的混合透明电极的制造方法包括:在透明基板上形成金属网层的工序1; 以及通过在形成在透明基板上的金属网层上生长银纳米线而形成银纳米线层的步骤2。 本发明能够通过在具有细线宽度的金属网层上形成银纳米线层来解决导致金属网层暴露的可见性问题; 并且使用银纳米线层来补偿由细线宽度产生的电导率的劣化。 本发明能够通过形成适当厚度的银纳米线层来解决由纳米线层引起的雾度问题,因为通过同时形成金属网格层和银纳米线层可以提高导电性。 因此,透明电极可以以环保的方式制造,因为在形成透明电极的工艺中不使用化学工艺。

    금속패턴 형성방법
    8.
    发明公开
    금속패턴 형성방법 有权
    形成金属图案的方法

    公开(公告)号:KR1020140047763A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:KR1020120113607

    申请日:2012-10-12

    CPC classification number: B23K26/361 H01L21/0273

    Abstract: A method of forming a metal pattern comprises forming a metal ink layer on a substrate; heating the substrate on which the metal ink layer is formed; forming a protective layer on the metal ink layer; patterning the metal ink layer by allowing a laser irradiated at the upper portion of the substrate to pass through the protective layer; and leaving a metal pattern by removing the protective and metal ink layers. The method of forming a metal pattern layer is provided to prevent a metal ink layer from coming in direct contact with oxygen in the air, moisture and external light by performing a laser patterning process after forming the protective layer on the metal ink layer, thereby improving uniformity when a metal pattern is formed through laser patterning. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) Step of forming a metal ink layer on a substrate; (S20) Step of heating the substrate on which the metal ink layer is formed; (S30) Step of forming a protective layer on the metal ink layer; (S40) Step of patterning the metal ink layer by irradiating the substrate with a laser; (S50) Step of leaving a metal pattern by removing the protective and metal ink layers; (S60) Step of drying the metal pattern

    Abstract translation: 形成金属图案的方法包括在基底上形成金属油墨层; 加热其上形成有金属油墨层的基板; 在金属油墨层上形成保护层; 通过允许在基板的上部照射的激光通过保护层来图案化金属油墨层; 并通过去除保护金属和金属油墨层而留下金属图案。 提供形成金属图案层的方法,以防止金属油墨层在金属油墨层上形成保护层之后通过进行激光图案化工艺与空气,水分和外部光中的氧直接接触,由此改善 当通过激光图案形成金属图案时的均匀性。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S10)在基板上形成金属油墨层的工序; (S20)对形成有金属油墨层的基板进行加热的工序; (S30)在金属油墨层上形成保护层的工序; (S40)通过用激光照射基板来图案化金属油墨层的步骤; (S50)通过去除保护金属和金属油墨层而离开金属图案的步骤; (S60)干燥金属图案的步骤

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