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公开(公告)号：KR101897902B1
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：KR1020170025609
申请日：2017-02-27
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은불연속나노구조물제조방법에관한것으로, 일측표면에나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 전사하고자하는기판을준비하는단계; 나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 기판의상부표면을활성화시키는단계; 표면이활성화된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프를기판상부면에낮은압력으로가압하여두 표면을접합하는단계; 접합된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프와기판을높은침투특성을갖는유기용매에침지하는단계; 인장응력을가해줌과동시에접합된구조의결합을분리하는단계;를포함하는불연속나노구조물제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR1020180099972A
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：KR1020170025609
申请日：2017-02-27
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G03F7/0002 , B82B3/0038 , G03F7/2012
Abstract: 본발명은불연속나노구조물제조방법에관한것으로, 일측표면에나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 전사하고자하는기판을준비하는단계; 나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 기판의상부표면을활성화시키는단계; 표면이활성화된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프를기판상부면에낮은압력으로가압하여두 표면을접합하는단계; 접합된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프와기판을높은침투특성을갖는유기용매에침지하는단계; 인장응력을가해줌과동시에접합된구조의결합을분리하는단계;를포함하는불연속나노구조물제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR101846741B1
公开(公告)日：2018-04-09
申请号：KR1020160155884
申请日：2016-11-22
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02B5/1847 , G02B3/0031 , G02B5/3058
Abstract: 일실시예에따르면, 선격자편광판제조방법은제1 요철패턴을갖는마스터템플릿기판을준비하는단계; 상기마스터템플릿기판의상기제1 요철패턴상에고분자박막을도포하고분리하여, 상기제1 요철패턴에대한역상구조의제2 요철패턴을갖는고분자복제박막몰드를형성하는단계; 상기고분자복제박막몰드의상기제2 요철패턴중 돌출부위에기능성물질을증착하여기능성나노구조체를형성하는단계; 상기기능성나노구조체를편광기판위에프린팅하고에칭하여나노격자기판을제작하는단계; 상기나노격자기판에전도성물질을증착하는단계; 및상기전도성물질의상부를선택적으로제거하여, 선격자편광판을제조하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR101705990B1
公开(公告)日：2017-02-13
申请号：KR1020150142066
申请日：2015-10-12
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은고분자구조체의제조방법및 그고분자구조체를이용한미세패턴이형성된구조체의제조방법에관한것으로, 양각부분및 음각부분이패터닝된구조몰드를준비하는단계와, 상기준비된구조몰드를소수성처리및 친수성처리하는단계와, 상기소수성및 친수성처리된상기구조몰드의상부에유동성고분자용액을도포하여상기음각부분을제 1 고분자로충진하는단계와, 상기제 1 고분자가충진된상기구조몰드의상부를기판과접촉시킨후, 상기기판을가압하면서상기제 1 고분자를경화시키는단계와, 상기구조몰드로부터상기기판을분리하여상기기판의상부에제 1 고분자패턴이형성된제 1 고분자구조체를제조하는단계를포함함으로써, 미세패턴을갖는고분자구조체를제조할수 있다.
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