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公开(公告)号：KR101705990B1
公开(公告)日：2017-02-13
申请号：KR1020150142066
申请日：2015-10-12
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은고분자구조체의제조방법및 그고분자구조체를이용한미세패턴이형성된구조체의제조방법에관한것으로, 양각부분및 음각부분이패터닝된구조몰드를준비하는단계와, 상기준비된구조몰드를소수성처리및 친수성처리하는단계와, 상기소수성및 친수성처리된상기구조몰드의상부에유동성고분자용액을도포하여상기음각부분을제 1 고분자로충진하는단계와, 상기제 1 고분자가충진된상기구조몰드의상부를기판과접촉시킨후, 상기기판을가압하면서상기제 1 고분자를경화시키는단계와, 상기구조몰드로부터상기기판을분리하여상기기판의상부에제 1 고분자패턴이형성된제 1 고분자구조체를제조하는단계를포함함으로써, 미세패턴을갖는고분자구조체를제조할수 있다.
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公开(公告)号：KR101547533B1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：KR1020130141902
申请日：2013-11-21
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B29C59/02
Abstract: 본발명은미세패턴이형성된구조체를제조하는방법에관한것으로서, 더욱상세하게는고분자몰드를이용한생산성이향상된미세패턴이형성된구조체의제조방법에관한것이다. 본발명에따른미세패턴이형성된구조체의제조방법은, (ㄱ) 표면에패턴이형성된고분자몰드를제조하는단계와, (ㄴ) 상기고분자몰드의패턴내에유동성재료를도포하는단계와, (ㄹ) 2차구조체지지기판을상기고분자몰드의패턴위에배치하는단계와, (ㅁ) 상기유동성재료를경화시켜상기 2차구조체지지기판에부착하는단계와, (ㅂ) 상기 2차구조체지지기판과상기고분자몰드를분리시켜, 상기유동성재료가경화되면서형성된유동성재료경화구조체가부착된 2차구조체지지기판을얻는단계를포함한다. 본발명에따른미세패턴이형성된구조체의제조방법은기포등에의한패턴결함이발생할확률이낮다는장점이있다. 따라서구조의미세화와고밀도화에유리하며수율이높다.
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公开(公告)号：KR1020150059190A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：KR1020130141902
申请日：2013-11-21
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B29C59/02
CPC classification number: B29C59/022 , B29C41/22 , B29C59/046 , B29C2059/023 , G03F7/0002
Abstract: 본발명은미세패턴이형성된구조체를제조하는방법에관한것으로서, 더욱상세하게는고분자몰드를이용한생산성이향상된미세패턴이형성된구조체의제조방법에관한것이다. 본발명에따른미세패턴이형성된구조체의제조방법은, (ㄱ) 표면에패턴이형성된고분자몰드를제조하는단계와, (ㄴ) 상기고분자몰드의패턴내에유동성재료를도포하는단계와, (ㄹ) 2차구조체지지기판을상기고분자몰드의패턴위에배치하는단계와, (ㅁ) 상기유동성재료를경화시켜상기 2차구조체지지기판에부착하는단계와, (ㅂ) 상기 2차구조체지지기판과상기고분자몰드를분리시켜, 상기유동성재료가경화되면서형성된유동성재료경화구조체가부착된 2차구조체지지기판을얻는단계를포함한다. 본발명에따른미세패턴이형성된구조체의제조방법은기포등에의한패턴결함이발생할확률이낮다는장점이있다. 따라서구조의미세화와고밀도화에유리하며수율이높다.
Abstract translation: 本发明涉及一种制造具有精细图案的结构的方法，更具体地说，涉及使用聚合物模具提高生产率的精细图案的结构的制造方法，包括以下步骤：（a）制造聚合物模具， 表面有图案; （b）用流体材料在聚合物模具上涂布图案; （d）在所述聚合物模具上设置辅助结构支撑基板; （e）将固化的流体材料附着到二级结构支撑基底; 和（f）将聚合物模具与二级结构支撑基材分离，从而获得附着有通过固化流体材料形成的流体材料的固化结构的第二结构支撑基底，从而具有高产率，同时具有较低的图案可能性 气泡造成的故障，有利于制作微结构和高密度。
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公开(公告)号：KR1020180099972A
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：KR1020170025609
申请日：2017-02-27
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G03F7/0002 , B82B3/0038 , G03F7/2012
Abstract: 본발명은불연속나노구조물제조방법에관한것으로, 일측표면에나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 전사하고자하는기판을준비하는단계; 나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 기판의상부표면을활성화시키는단계; 표면이활성화된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프를기판상부면에낮은압력으로가압하여두 표면을접합하는단계; 접합된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프와기판을높은침투특성을갖는유기용매에침지하는단계; 인장응력을가해줌과동시에접합된구조의결합을분리하는단계;를포함하는불연속나노구조물제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR101846741B1
公开(公告)日：2018-04-09
申请号：KR1020160155884
申请日：2016-11-22
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02B5/1847 , G02B3/0031 , G02B5/3058
Abstract: 일실시예에따르면, 선격자편광판제조방법은제1 요철패턴을갖는마스터템플릿기판을준비하는단계; 상기마스터템플릿기판의상기제1 요철패턴상에고분자박막을도포하고분리하여, 상기제1 요철패턴에대한역상구조의제2 요철패턴을갖는고분자복제박막몰드를형성하는단계; 상기고분자복제박막몰드의상기제2 요철패턴중 돌출부위에기능성물질을증착하여기능성나노구조체를형성하는단계; 상기기능성나노구조체를편광기판위에프린팅하고에칭하여나노격자기판을제작하는단계; 상기나노격자기판에전도성물질을증착하는단계; 및상기전도성물질의상부를선택적으로제거하여, 선격자편광판을제조하는단계를포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130076329A
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：KR1020110144878
申请日：2011-12-28
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/56 , B29C35/0805 , B29C2035/0827 , B29K2083/00 , B29K2875/00 , B29K2905/02 , B29K2905/06 , B29K2905/10 , B29K2905/12 , B29K2905/14 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a replication mold for a nano imprint and the replication mold for the nano imprint are provided to endure several imprinting steps and to facilitate duplication because the replication mold is easily discharged from a master mold without cleavage. CONSTITUTION: A method for manufacturing a replication mold for a nano imprint is as follows: a step of manufacturing a master mold (5) by forming intaglio and embossed nano patterns on a master substrate (1); a step of manufacturing a polymer mold with reversed nano patterns by hardening polymer solution on the master mold; a step of separating the polymer mold from the master mold; and a step of forming a metal layer on the reversed nano patterns of the polymer mold.
Abstract translation: 目的：制造用于纳米压印的复制模具的方法和用于纳米压印的复制模具，以承受几个压印步骤并且便于重复，因为复制模具容易地从主模具排出而不会分裂。 构成：用于制造用于纳米压印的复制模具的方法如下：通过在母基板（1）上形成凹版和压花纳米图案来制造母模（5）的步骤; 通过在主模上固化聚合物溶液来制造具有反向纳米图案的聚合物模具的步骤; 将聚合物模具与母模分离的步骤; 以及在聚合物模具的反转的纳米图案上形成金属层的步骤。
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公开(公告)号：KR101897902B1
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：KR1020170025609
申请日：2017-02-27
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은불연속나노구조물제조방법에관한것으로, 일측표면에나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 전사하고자하는기판을준비하는단계; 나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프및 기판의상부표면을활성화시키는단계; 표면이활성화된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프를기판상부면에낮은압력으로가압하여두 표면을접합하는단계; 접합된나노구조를갖는고분자탄성중합체스탬프와기판을높은침투특성을갖는유기용매에침지하는단계; 인장응력을가해줌과동시에접합된구조의결합을분리하는단계;를포함하는불연속나노구조물제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR101617952B1
公开(公告)日：2016-05-09
申请号：KR1020140098547
申请日：2014-07-31
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/027 , H01L21/60
Abstract: 본발명은경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게는소프트리소그래피를이용하여경사진관통구멍을구비한구조체를제조하는방법에관한것이다. 본발명에따른경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법은, 경사진양각구조를구비한스탬프를준비하는단계와, 금속층이형성된기판상에고분자용액을도포하는단계와, 도포된고분자용액에상기스탬프를가압접촉시켜상기고분자용액에경사진음각구조를형성하는단계와, 상기고분자용액을경화하여경사진음각구조가형성된고분자층을형성하는단계와, 상기스탬프를경화된고분자층으로부터분리하는단계와, 상기고분자층의음각구조를식각하여상기금속층을노출시키는단계와, 노출된상기금속층과고분자층의음각구조에금속구조를형성하는단계와, 상기금속층과고분자층으로부터금속구조를분리하여경사진관통구멍을구비한구조체를얻는단계를포함한다. 본발명에따른경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법에따르면, 종래의방법에비해서용이하게경사진관통구멍을구비한구조체를제조할수 있다.
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公开(公告)号：KR101342900B1
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：KR1020110144878
申请日：2011-12-28
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은나노임프린트용복제몰드에관한것으로서, 더욱상세하게는나노패턴이전사되는대상인고분자물질로부터의이형성이향상된나노임프린트용복제몰드의제조방법에관한것이다. 본발명에따르면, (a) 마스터기판에양각과음각의나노패턴을형성하여마스터몰드를제작하는단계와, (b) 상기마스터몰드상에고분자용액을도포한후 경화하여역상의나노패턴이형성된고분자몰드를제조하는단계와, (c) 상기고분자몰드를상기마스터몰드에서분리하는단계와, (d) 상기고분자몰드의역상의나노패턴상에금속층을형성하는단계를포함하는나노임프린트용복제몰드의제조방법이제공된다. 본발명에따른나노임프린트용복제몰드는나노패턴상에금속층이형성되어있거나, 단독의금속박판체로구성되어있어종래의나노임프린트용몰드에비해서이형성이우수하다. 따라서고분자물질에전사된나노패턴의품질이우수하다.
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公开(公告)号：KR1020160017195A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020140098547
申请日：2014-07-31
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/027 , H01L21/60
CPC classification number: H01L21/0273
Abstract: 본발명은경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게는소프트리소그래피를이용하여경사진관통구멍을구비한구조체를제조하는방법에관한것이다. 본발명에따른경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법은, 경사진양각구조를구비한스탬프를준비하는단계와, 금속층이형성된기판상에고분자용액을도포하는단계와, 도포된고분자용액에상기스탬프를가압접촉시켜상기고분자용액에경사진음각구조를형성하는단계와, 상기고분자용액을경화하여경사진음각구조가형성된고분자층을형성하는단계와, 상기스탬프를경화된고분자층으로부터분리하는단계와, 상기고분자층의음각구조를식각하여상기금속층을노출시키는단계와, 노출된상기금속층과고분자층의음각구조에금속구조를형성하는단계와, 상기금속층과고분자층으로부터금속구조를분리하여경사진관통구멍을구비한구조체를얻는단계를포함한다. 본발명에따른경사진관통구멍을구비한구조체의제조방법에따르면, 종래의방법에비해서용이하게경사진관통구멍을구비한구조체를제조할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造包括倾斜通孔的结构的方法，更具体地说，涉及一种使用软光刻技术制造包括倾斜通孔的结构的方法。 根据本发明，用于制造包括倾斜通孔的结构的方法包括以下步骤：制备包括倾斜压花结构的印模; 将聚合物溶液施加到其上形成有金属层的基板上; 通过使施加的聚合物溶液和印模在压力下彼此接触来在聚合物溶液上形成倾斜的雕刻结构; 形成通过硬化聚合物溶液形成倾斜雕刻结构的聚合物层; 将印模与硬化的聚合物层分离; 通过蚀刻聚合物层的雕刻结构来暴露金属层; 在金属层和聚合物层的暴露的雕刻结构上形成金属结构; 以及通过从金属层和聚合物层分离金属结构，获得包括倾斜通孔的结构。 根据用于制造包括倾斜通孔的结构的方法，与常规方法相比，能够容易地制造包括倾斜通孔的结构。
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