스티칭 노광 공정용 마스크
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023058929A1

    公开(公告)日:2023-04-13

    申请号:PCT/KR2022/013889

    申请日:2022-09-16

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 기판에 제1 방향과 제2 방향으로 마스크을 노광하여 스티칭 공정을 진행한다. 상기 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 상기 제1 방향으로 상기 마스크의 제1 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제1 노광 공정을 수행하는 단계; 및, 상기 2 방향으로 이격하여 상기 제1 샷들(shots)과 상기 제1 방향의 오프셋을 가지도록 상기 마스크의 제2 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제2 노광 공정을 수행하는 단계를 포함한다.

    장학정보관리장치 및 그 방법

    公开(公告)号:KR101817288B1

    公开(公告)日:2018-01-11

    申请号:KR1020170063519

    申请日:2017-05-23

    CPC classification number: G06Q50/2053 G06Q10/10

    Abstract: 장학정보관리장치및 그방법이개시된다. 장학정보관리장치는선발공고문의양식과장학금신청서의양식을연계하여저장하고, 장학금운영기관의단말로부터장학금유형의선택정보를수신하면장학금유형에해당하는선발공고문의양식을장학금운영기관의단말로제공하여각 항목을입력받고, 장학금모집공고에지원하는장학금신청자의단말에게선발공고문의양식과연계된장학금신청서의양식을제공하되, 장학금신청서의양식에포함된항목의전부또는일부를기 저장된상기장학금신청자의개인정보를이용하여미리채워서제공하고, 장학금심사결과를장학금신청자에게통보한다.

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