公开(公告)号：WO2023058929A1

公开(公告)日：2023-04-13

申请号：PCT/KR2022/013889

申请日：2022-09-16

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 송정철 ,  오재섭 ,  박민준 ,  조희재 ,  김광희 ,  한창희

IPC: G03F1/36 ,  G03F7/20

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 기판에 제1 방향과 제2 방향으로 마스크을 노광하여 스티칭 공정을 진행한다. 상기 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 상기 제1 방향으로 상기 마스크의 제1 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제1 노광 공정을 수행하는 단계; 및, 상기 2 방향으로 이격하여 상기 제1 샷들(shots)과 상기 제1 방향의 오프셋을 가지도록 상기 마스크의 제2 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제2 노광 공정을 수행하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：WO2022250260A1

公开(公告)日：2022-12-01

申请号：PCT/KR2022/003599

申请日：2022-03-15

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 오재섭 ,  김광희 ,  김태현

IPC: B81C1/00 ,  B81B7/02

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 MEMS 소자의 제조 방법은, 실리콘 기판 상에 복수의 MEMS 소자들을 형성하는 단계; 스텔스 다이싱 정렬키를 포함하고 상기 스텔스 다이싱 정렬키와 연속적으로 연결되고 상기 MEMS 소자들을 서로 분리하고 상기 실리콘 기판 상에 모든 박막을 제거하는 스텔스 다이싱 패턴을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기판의 하부면에서 상기 스텔스 다이싱 정렬키에 정렬된 백사이드 정렬키와 MEMS 소자와 정렬된 백사이드 식각 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 스텔스 다이싱 패턴을 따라 레이저 빔을 조사하여 상기 실리콘 기판을 다이싱하는 단계;를 포함한다.

公开(公告)号：WO2021182813A2

公开(公告)日：2021-09-16

申请号：PCT/KR2021/002799

申请日：2021-03-08

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 오재섭 ,  이종권 ,  박종철 ,  김태현 ,  김광희

IPC: G01J5/20 ,  B81C1/00 ,  B81B7/00 ,  B81B7/0032 ,  B81C1/00039 ,  B81C1/00063 ,  B81C1/00087 ,  B81C2203/03

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 멤스 소자는, 하부 기판; 및 상기 하부 기판에 형성된 적외선 센서를 포함한다. 상기 적외선 센서는, 상기 하부 기판의 상부면에 형성되어 검출회로와 전기적으로 연결되는 금속 패드; 상기 금속 패드와 동일한 평면에 배치되고 상기 하부 기판의 상부면에 형성되고 적외선 대역을 반사하는 반사층; 상기 반사층을 덮도록 배치되고 광경로 거리를 변경하는 투과층; 상기 투과층의 상부에 이격되어 형성되고 적외선을 흡수하여 저항을 변화시키는 흡수판; 및 상기 금속 패드의 상부에 형성되어 상기 흡수판을 지지하고 상기 금속 패드와 상기 흡수판을 전기적으로 연결하는 앵커를 포함한다. 상기 반사층의 상부면과 상기 흡수판의 하부면 사이의 거리는 특정 적외선 파장에서 파장/4 보다 작다.

公开(公告)号：WO2020242236A1

公开(公告)日：2020-12-03

申请号：PCT/KR2020/006955

申请日：2020-05-29

Applicant: 한국과학기술원 ,  주식회사 옵트론텍

Inventor： 이종권 ,  강일석 ,  심갑섭 ,  김광희 ,  김재범 ,  김장섭 ,  김병오 ,  박종철

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/30 ,  G02B1/11

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필터는, 투명 기판; 상기 투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터; 서로 나란히 연장되고 상기 투명 기판의 타면에 배치된 무반사 코팅 패턴; 서로 나란히 연장되고 상기 무반사 코팅 패턴에 정렬된 와이어 그리드 형태로 패터닝된 폴리머 패턴들; 및 상기 폴리머 패턴들 각각의 적어도 일 측면 및 상부면을 덮는 도전 패턴들을 포함한다.

公开(公告)号：KR102041830B1

公开(公告)日：2019-11-27

申请号：KR1020180076988

申请日：2018-07-03

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 박재홍 ,  형정환 ,  이병주 ,  노길선 ,  김광희

IPC: H01L21/02 ,  H01L29/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/762 ,  H01L21/768

公开(公告)号：KR1020130076329A

公开(公告)日：2013-07-08

申请号：KR1020110144878

申请日：2011-12-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 박재홍 ,  안치원 ,  강희오 ,  오재섭 ,  김광희 ,  서창호 ,  장현익

IPC: B29C33/42 ,  B29C39/00 ,  B29C59/02

CPC classification number: B29C33/3842 ,  B29C33/40 ,  B29C33/56 ,  B29C35/0805 ,  B29C2035/0827 ,  B29K2083/00 ,  B29K2875/00 ,  B29K2905/02 ,  B29K2905/06 ,  B29K2905/10 ,  B29K2905/12 ,  B29K2905/14 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a replication mold for a nano imprint and the replication mold for the nano imprint are provided to endure several imprinting steps and to facilitate duplication because the replication mold is easily discharged from a master mold without cleavage. CONSTITUTION: A method for manufacturing a replication mold for a nano imprint is as follows: a step of manufacturing a master mold (5) by forming intaglio and embossed nano patterns on a master substrate (1); a step of manufacturing a polymer mold with reversed nano patterns by hardening polymer solution on the master mold; a step of separating the polymer mold from the master mold; and a step of forming a metal layer on the reversed nano patterns of the polymer mold.

Abstract translation: 目的：制造用于纳米压印的复制模具的方法和用于纳米压印的复制模具，以承受几个压印步骤并且便于重复，因为复制模具容易地从主模具排出而不会分裂。 构成：用于制造用于纳米压印的复制模具的方法如下：通过在母基板（1）上形成凹版和压花纳米图案来制造母模（5）的步骤; 通过在主模上固化聚合物溶液来制造具有反向纳米图案的聚合物模具的步骤; 将聚合物模具与母模分离的步骤; 以及在聚合物模具的反转的纳米图案上形成金属层的步骤。

公开(公告)号：KR102166765B1

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：KR1020190064139

申请日：2019-05-30

Applicant: 한국과학기술원 ,  주식회사 옵트론텍

Inventor： 이종권 ,  강일석 ,  심갑섭 ,  김광희 ,  김재범 ,  김장섭 ,  김병오 ,  박종철

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/30 ,  G02B1/10

公开(公告)号：KR102121898B1

公开(公告)日：2020-06-11

申请号：KR1020180125204

申请日：2018-10-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 오재섭 ,  김광희 ,  이종권

IPC: B81B7/00 ,  B81B1/00

公开(公告)号：KR1020170126682A

公开(公告)日：2017-11-20

申请号：KR1020160057040

申请日：2016-05-10

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 배남호 ,  이석재 ,  이경균 ,  김광희 ,  유동은 ,  정순우 ,  이문근 ,  윤석오 ,  김용태

IPC: G01L1/22 ,  B81B7/02 ,  H01B1/02 ,  H01B3/12 ,  H01B3/30 ,  G01N3/08 ,  G01N3/04

Abstract: 본개시내용의구체예에따르면, 외력또는외부압력의작용시 3차원적구조를갖는센서자체의변형에따른저항변화를감지하는방식으로작동하여다양한분야, 예를들면세포의거동을모니터링을수반하는기술분야에효과적으로적용할수 있는스트레인센서및 이의제조방법이개시된다.

Abstract translation: 根据本公开，外力或实施例，当外部压力作品通过感测传感器本身的应变的电阻变化的作用具有三维结构涉及各种领域中，例如，监测细胞的行为 公开了一种应变传感器及其制造方法。

公开(公告)号：KR101342900B1

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：KR1020110144878

申请日：2011-12-28

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 박재홍 ,  안치원 ,  강희오 ,  오재섭 ,  김광희 ,  서창호 ,  장현익

IPC: B29C33/42 ,  B29C39/00 ,  B29C59/02

Abstract: 본발명은나노임프린트용복제몰드에관한것으로서, 더욱상세하게는나노패턴이전사되는대상인고분자물질로부터의이형성이향상된나노임프린트용복제몰드의제조방법에관한것이다. 본발명에따르면, (a) 마스터기판에양각과음각의나노패턴을형성하여마스터몰드를제작하는단계와, (b) 상기마스터몰드상에고분자용액을도포한후 경화하여역상의나노패턴이형성된고분자몰드를제조하는단계와, (c) 상기고분자몰드를상기마스터몰드에서분리하는단계와, (d) 상기고분자몰드의역상의나노패턴상에금속층을형성하는단계를포함하는나노임프린트용복제몰드의제조방법이제공된다. 본발명에따른나노임프린트용복제몰드는나노패턴상에금속층이형성되어있거나, 단독의금속박판체로구성되어있어종래의나노임프린트용몰드에비해서이형성이우수하다. 따라서고분자물질에전사된나노패턴의품질이우수하다.