公开(公告)号：KR101597919B1

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：KR1020140193592

申请日：2014-12-30

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  곽영훈 ,  성민호

IPC: G02B5/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/00 ,  G02F1/1335

Abstract: 본발명은광학시트및 그제조방법에관한것으로서, 본발명에의한일체형광학시트는기재필름과, 상기기재필름의상부에도포되며실리카재질의중공파우더 1 ~ 7 중량%와, 상기중공파우더가혼합되는 MEK(Methyl Ethyl Ketone)과, 열경화수지를포함하며, 상기 MEK와상기열경화수지는동일한중량비를갖도록구성되는중공파우더층과, 상기중공파우더층의상부에형성되는다층박막산화물층과, 상기중공파우더층과상기기재필름의사이에배치되며, 실리카재질의중공파우더를포함하는중공파우더졸층을구비하여, 상기중공파우더에의해굴절률이낮은특성을갖는중공파우더층을형성할수 있고, 휘도와투과율을향상시킬수 있으므로, 광학특성이우수하고휘도향상으로인하여백라이트유니트의얼룩을용이하게검출할수 있으며, 복수개의광학시트를사용하지않고, 이를상기일체형광학시트로대체할수 있으므로, 백라이트어셈블리에소요되는시트의수를절감하여제조비용을절감할수 있고백라이트어셈블리의두께를감소시킬수 있다.

Abstract translation: 光学片及其制造方法技术领域本发明涉及光学片及其制造方法。 根据本发明的单片光学片包括：基膜; 中空粉末层，其涂覆在基膜的上部，并且包括含有1〜7重量％的二氧化硅材料的中空粉末，与中空粉末混合的甲基乙基酮（MEK）和热固性树脂，其中MEK和 热固性树脂具有相同的重量％; 形成在中空粉末层的上部的多层薄膜氧化物层; 以及设置在中空粉末层和基底膜之间的中空粉末溶胶层，并且包括由二氧化硅材料制成的中空粉末。 本发明的单片光学片可以通过中空粉末形成具有低折射率的中空粉末层，并且可以提高亮度和透光率，因此可以通过优异的光学性能和亮度改善来容易地检测背光单元的污点。 本发明可以通过减少背光组件中所需的片材数量并且可以通过用多块光学片替代多个光学片而不会使用多个光学片，来降低背光组件的厚度来降低制造成本。

公开(公告)号：KR101481464B1

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：KR1020130061049

申请日：2013-05-29

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  윤영우 ,  유시홍 ,  안병욱 ,  성민호

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 금속 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 금속 막의 식각을 위한 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략한 금속 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략함으로써, 에칭 공정에 수반되는 환경 유해 물질의 배출을 억제하여 친환경적 금속 패턴 형성 공정을 구현할 수 있고 나아가 공정 절차의 단순화를 통해 대량 생산에 유리할 수 있다. 또한, 상기 포토 레지스트 패턴 구조물을 별도로 제거하지 않고 위 포토 레지스트 패턴 구조물을 금속 패턴의 절연 재료로 활용함으로써 간편한 방식으로 금속간 절연효과가 우수한 패턴을 형성할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020150138943A

公开(公告)日：2015-12-11

申请号：KR1020140065966

申请日：2014-05-30

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  유시홍 ,  성민호

IPC: G02B5/02

CPC classification number: G02B5/021 ,  G02B1/04 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0278 ,  G02B6/003 ,  G02F1/133504 ,  G02F1/133526

Abstract: 본발명은백라이트(Back Light Unit: BLU)용광학시트에관한것으로, 구체적으로광학특성향상을위한광학시트의구조및 광학시트의제작방법에관한것이다. 발수코팅된파우더를이용하여형성되는포토레지스트패턴층; 상기포토레지스트패턴층의상부에형성되는평탄화층; 및상기평탄화층의상부에형성되는마이크로-렌즈형태의패턴층을포함하는본 발명의일 실시예에따른광학시트가개시된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于背光单元（BLU）的光学片。 特别地，本发明涉及一种用于改善光学特性的光学片结构及其制造方法。 根据本发明实施例的光学片包括通过使用防水涂层粉末形成的光致抗蚀剂图案层; 形成在光致抗蚀剂图案层的上部的平坦化层; 以及形成在平坦化层的上部的微透镜型图案层。

公开(公告)号：KR101524365B1

公开(公告)日：2015-06-05

申请号：KR1020130125243

申请日：2013-10-21

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이한별 ,  김완규 ,  성민호 ,  윤영우 ,  유시홍

IPC: H01L51/52 ,  H05B33/04 ,  H05B33/22

Abstract: 본발명은다기능성봉지막을갖는플렉서블 OLED에관한것으로서, 박막기판과양전극, 정공층, 발광층, 전자층및 음전극을구비하는플렉서블 OLED와, 박막기판의양전극에대향하는측에서박막기판에증착되는산화물막과, 산화물막의상부에형성되는광학패턴층과, 광학패턴층의상부에형성되며광학패턴층을보호하는무기물박막층을포함하고, 산화물막은 MgO와 LaO가혼합된혼합박막또는 MgO층과 LaO층이교대로적층된다층박막이고, 혼합박막또는다층박막은전자빔증착법, 듀얼전자빔증착법, 화학기상증착법, 물리기상증착법중 어느하나에의해증착되는것을특징으로하며, OLED의박막기판에수화특성이좋은산화물막을형성함으로써수분투과에의해소자의수명이감소하는현상을방지할수 있고, 수분투과를방지함과동시에광학특성을향상시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020140140675A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：KR1020130061049

申请日：2013-05-29

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  윤영우 ,  유시홍 ,  안병욱 ,  성민호

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F1/80 ,  H01L21/02104

Abstract: 본 발명은 금속 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 금속 막의 식각을 위한 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략한 금속 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략함으로써, 에칭 공정에 수반되는 환경 유해 물질의 배출을 억제하여 친환경적 금속 패턴 형성 공정을 구현할 수 있고 나아가 공정 절차의 단순화를 통해 대량 생산에 유리할 수 있다. 또한, 상기 포토 레지스트 패턴 구조물을 별도로 제거하지 않고 위 포토 레지스트 패턴 구조물을 금속 패턴의 절연 재료로 활용함으로써 간편한 방식으로 금속간 절연효과가 우수한 패턴을 형성할 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种形成金属图案的方法，更具体地，涉及一种形成金属图案的方法，其中用于蚀刻金属层的蚀刻工艺和光致抗蚀剂（PR）去除工艺的蚀刻工艺， 省略了半导体的光刻工艺。 根据本发明的一个实施例，通过省略用于蚀刻金属层的蚀刻工艺和半导体的光刻工艺中的光刻胶（PR）去除工艺，排出伴随腐蚀工艺的环境有害材料 被抑制，因此可以实现环保金属成形工艺，并且可以通过简化工艺程序在批量生产中有利。 此外，通过利用光刻胶图案结构作为金属图案的绝缘材料，而不需要单独去除光致抗蚀剂图案结构，可以通过方便的方案形成具有优异金属之间绝缘性能的图案。

公开(公告)号：KR1020150046422A

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：KR1020130125243

申请日：2013-10-21

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이한별 ,  김완규 ,  성민호 ,  윤영우 ,  유시홍

IPC: H01L51/52 ,  H05B33/04 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/5237 ,  H01L51/0097 ,  H05B33/04 ,  H05B33/22

Abstract: 본발명은플렉시블 OLED에관한것으로서, 박막기판과양전극, 정공층, 발광층, 전자층및 음전극을구비하는플렉서블 OLED에있어서, 상기박막기판의상기양전극에대향하는측에서상기박막기판에증착되는산화물막과, 상기산화물막의상부에형성되는광학패턴층과, 상기광학패턴층의상부에형성되며상기광학패턴층을보호하는무기물박막층을포함하는다기능성봉지막을구비하며, 상기광학패턴층과상기제 2 광학패턴층에형성되는패턴은프리즘형상의패턴, 피라미드형상의패턴, 렌즈형상의패턴, 또는피라미드형상의패턴을중심으로상기피라미드형상의패턴을복수의프리즘형상의패턴이둘러싸는폐쇄형피라미드패턴인것을특징으로하며, OLED의박막기판에수화특성이좋은산화물막을형성함으로써수분투과에의해소자의수명이감소하는현상을방지할수 있고, 수분투과를방지함과동시에광학특성을향상시킬수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种柔性OLED，其包括薄膜基板，正极，空穴层，发光层，电子层和负极。 柔性OLED包括：多功能封装层，其包括沉积在薄膜基板的面对正极的一侧的薄膜基板上的氧化物层，形成在氧化物层的上侧的光学图案层 以及形成在光学图案层上并保护光学图案层的无机薄膜层。 形成在第二光学图案层和光学图案层上的图案是通过围绕金字塔图案的多个棱镜图案围绕金字塔图案的棱镜图案，金字塔图案，透镜图案或闭合金字塔图案。 通过在OLED的薄膜基板上形成具有高水合性能的氧化物层来防止由于水分渗透而导致的器件寿命的降低。 防止湿气渗透，同时改善光学特性。