KR102235245B1 - Light Irradiation Apparatus for Particle Monitoring, and Particle Measuring Apparatus using the Same

    公开(公告)号:KR102235245B1

    公开(公告)日:2021-04-05

    申请号:KR1020190126813A

    申请日:2019-10-14

    CPC classification number: G01N15/0211 G01N21/01 G01N21/85 G01N2021/8592

    Abstract: 본 발명에 따른 오염 입자 측정용 광 조사 장치는 챔버 내의 오염 입자 측정을 위하여 챔버의 내부 공간으로 레이저 광을 조사하는 장치로서, 레이저 광을 생성하여 조사하는 광 조사부, 조사되는 레이저 광의 경로를 챔버를 향하도록 바꾸어주는 반사 거울, 반사 거울에서 반사된 레이저 광을 챔버 내의 일정 위치로 집속하는 포커스 렌즈, 광 조사부를 일정 범위 내에서 직선 이동시키는 액추에이터부를 포함하여 이루어진다. 광 조사부가 일정 범위만큼 직선 이동하기 때문에 결국 챔버 내에서 광이 집속되는 부분이 하나의 특정 지점이 아니라 일정한 영역 범위로 확장된다. 이에 따라, 확장된 영역 범위에 존재하는 오염 입자들을 측정할 수 있게 되어 더욱 정확한 오염 입자 측정이 가능하며, 챔버 내에 광이 집속되도록 미리 설정된 반사 거울과 포커스 렌즈 등의 광학계를 새로 설정할 필요가 없어 적은 비용으로 편리하게 구현할 수 있다.

    KR102227433B1 - Apparatus and Method for High-Accuracy Optical Particle Measuring using Laser Power Scanning

    公开(公告)号:KR102227433B1

    公开(公告)日:2021-03-15

    申请号:KR1020200158562A

    申请日:2020-11-24

    Inventor: 문지훈 강상우

    CPC classification number: G01N15/0205 G01N21/39 G01N2015/0096 G01N2015/0222

    Abstract: 본 발명은 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 여러 파워의 레이저를 순서대로 조사하는 레이저 파워 스캐닝을 이용하여, 높은 정확도로 크기 범위별 입자 개수를 측정할 수 있다. 먼저, 복수 개의 서로 다른 입자 크기에 각각 대응하여, 해당 크기 이상의 입자를 측정할 수 있는 최소 파워의 레이저를 입자측정공간에 일정 시간 동안 조사하고, 산란된 광을 검출하여 입자의 크기별 개수를 측정한다. 그리고, 측정된 실측값을 이용하여, 각 크기 범위에 속한 입자의 개수를 알고리즘을 이용하여 정확하게 산출한다. 이때, 측정되는 입자 개수와 레이저 파워에 관한 비례관계를 이용할 수 있다. 플로우 노즐이나 플랫-탑 광학계 등 추가적 부품을 사용하지 않으므로, 입자 측정 장치의 개발 비용을 절감할 수 있으며, 상압(대기압)이나 진공 환경에 상관없이 사용 가능하다. 또한, 기존 장치에 대한 알고리즘 업그레이드를 통해서도 정확도를 개선할 수 있다.

    레이저 파워 스캐닝을 이용한 고정확 광학식 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법

    公开(公告)号:WO2022114452A1

    公开(公告)日:2022-06-02

    申请号:PCT/KR2021/010552

    申请日:2021-08-10

    Inventor: 문지훈 강상우

    Abstract: 본 발명은 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 여러 파워의 레이저를 순서대로 조사하는 레이저 파워 스캐닝을 이용하여, 높은 정확도로 크기 범위별 입자 개수를 측정할 수 있다. 먼저, 복수 개의 서로 다른 입자 크기에 각각 대응하여, 해당 크기 이상의 입자를 측정할 수 있는 최소 파워의 레이저를 입자측정공간에 일정 시간 동안 조사하고, 산란된 광을 검출하여 입자의 크기별 개수를 측정한다. 그리고, 측정된 실측값을 이용하여, 각 크기 범위에 속한 입자의 개수를 알고리즘을 이용하여 정확하게 산출한다. 이때, 측정되는 입자 개수와 레이저 파워에 관한 비례관계를 이용할 수 있다. 플로우 노즐이나 플랫-탑 광학계 등 추가적 부품을 사용하지 않으므로, 입자 측정 장치의 개발 비용을 절감할 수 있으며, 상압(대기압)이나 진공 환경에 상관없이 사용 가능하다. 또한, 기존 장치에 대한 알고리즘 업그레이드를 통해서도 정확도를 개선할 수 있다.

    확장된 검사 영역을 갖는 웨이퍼 센서, 및 이를 이용한 건식 공정 장치

    公开(公告)号:WO2019240372A1

    公开(公告)日:2019-12-19

    申请号:PCT/KR2019/004934

    申请日:2019-04-24

    Abstract: 본 발명에 따른 확장된 검사 영역을 갖는 웨이퍼 센서는, 지지 부재에 그 둘레를 따라 원형을 이루도록 부착되는 복수 개의 확장 패드를 포함하여 이루어지며, 각 확장 패드는 웨이퍼 조각으로서 지지 부재에 부착되어 적어도 12 인치 기본 직경과 확장 직경 사이에 구비되는 확장 영역을 형성한다. 확장 직경은 공정 챔버 내에 12 인치 웨이퍼가 놓이는 곳의 둘레에 배치되는 에지 링의 외곽까지 이르도록 구성될 수 있다. 12 인치보다 큰 확장 영역에 대하여 모니터링이 가능하므로, 에지 링이 배치된 영역의 온도와 플라즈마 상태 등을 모니터링할 수 있다. 일반적으로 사용되고 있는 12 인치 이하의 웨이퍼를 활용하여 구성될 수 있으므로, 큰 비용을 들이지 않고 저렴하게 구현할 수 있다.

    레이저 파워 스캐닝을 이용한 고정확 광학식 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법

    公开(公告)号:KR1020200142479A

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:KR1020200158562

    申请日:2020-11-24

    Inventor: 문지훈 강상우

    Abstract: 본발명은입자측정장치및 입자측정방법에관한것으로서, 여러파워의레이저를순서대로조사하는레이저파워스캐닝을이용하여, 높은정확도로크기범위별입자개수를측정할수 있다. 먼저, 복수개의서로다른입자크기에각각대응하여, 해당크기이상의입자를측정할수 있는최소파워의레이저를입자측정공간에일정시간동안조사하고, 산란된광을검출하여입자의크기별개수를측정한다. 그리고, 측정된실측값을이용하여, 각크기범위에속한입자의개수를알고리즘을이용하여정확하게산출한다. 이때, 측정되는입자개수와레이저파워에관한비례관계를이용할수 있다. 플로우노즐이나플랫-탑광학계등 추가적부품을사용하지않으므로, 입자측정장치의개발비용을절감할수 있으며, 상압(대기압)이나진공환경에상관없이사용가능하다. 또한, 기존장치에대한알고리즘업그레이드를통해서도정확도를개선할수 있다.

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