Abstract:
본 발명의 목적은 표면에너지가 낮은 불소계 고분자, 이를 포함하는 불소계 고분자 조성물, 이를 포함하는 불소계 고분자막, 및 이들의 제조방법을 제공하는데 있다. 본 발명은 아크릴레이트계 공중합체 고분자를 제공하되, 특히 반복단위의 불화탄소수를 3 내지 5개로 한정하는 것을 구성의 특징으로 하고, 이를 통하여 고분자 및 이를 통하여 제조되는 고분자막의 표면 에너지가 현저히 낮아지는 효과가 있다. 또한, 본 발명의 고분자는 유리 등에 코팅되었을 때, 광투과도를 현저하게 개선하는 효과가 있고, 기계적 강도가 우수한 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 (A) 불화 금속의 존재 하에 화학식 1로 표시되는 화합물로부터 퍼플루오로디알킬에테르를 제조하는 단계; 및 (B) 상기 퍼플루오로디알킬에테르를 분리하는 단계;를 포함하는 것인 퍼플루오로디알킬에테르의 제조 방법, 및 불화 금속의 존재 하에 화학식 1로 표시되는 화합물로부터 퍼플루오로디알킬에테르를 제조하기 위한 반응부; 상기 반응부에 화학식 1로 표시되는 화합물을 투입하기 위한 반응물 공급부; 및 상기 퍼플루오로디알킬에테르를 상기 반응부의 상부로부터 배출하기 위한 배출부;를 포함하는 것인 퍼플루오로디알킬에테르의 제조 장치에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기체 상태의 단량체, 계면활성제, 및 개시제를 공급하는 반응물 공급 단계; 상기 단량체, 상기 계면활성제, 및 상기 개시제가 참여하는 중합 반응을 수행하는 중합 반응 단계; 및 상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물을 배출하는 생성물 배출 단계를 포함하고, 공급된 상기 개시제의 유량은 상기 고분자 화합물의 분자량과 반비례하고, 상기 개시제의 유량을 제어하여 상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물의 분자량을 조절하는, 분자량 조절 고분자 중합 공정이 제공된다.
Abstract:
본 발명의 일 측면에서의 목적은 1.8 미만의 현저히 낮은 유전율을 나타내는 불소계 고분자 및 이를 포함하는 불소계 고분자 조성물을 제공하는 데 있다. 본 발명의 일 측면에서 제공되는 불소계 고분자 매우 낮은 유전율을 나타내며, 유해물질이 발생되지 않는 공해저감형 소재일 뿐만 아니라, 높은 점착성으로 인해서 다양한 분야에서 코팅소재로 활용될 수 있다. 나아가, 이를 소재로 적용한 고분자막은 체적저항이 약 5.8 × 1015 Ohmcm로 절연재로로써 우수한 저항값을 나타낸다.
Abstract:
반응촉매 하에 삼불화질소(nitrogen trifluoride) 및 아산화질소(nitrous oxide)를 반응시켜 중간 생성물을 제조하는 단계; 및 상기 중간 생성물을 불화 나트륨(sodium fluoride)과 100 mmHg 이하의 진공 조건에서 반응시켜 산화 삼불화아민(trifluoroamine oxide)을 제조하는 단계;를 포함하는 산화 삼불화아민의 제조방법이 개시된다.
Abstract:
산화 삼불화아민의 제조방법이 개시된다. 일 실시예에 따른 산화 삼불화아민의 제조방법은, SbF5 반응촉매 하에 삼불화질소 및 아산화질소를 동시에 투입하여 반응시켜 중간 생성물을 제조하는 단계와, 상기 중간 생성물을 불화 칼륨과 반응시켜 산화 삼불화아민을 제조하는 단계를 포함한다. 중간 생성물을 불화 칼륨과 반응시키는 단계는 대기압 및 상온 하에서 수행된다.
Abstract:
본 발명은 태양전지용 고 생산성 다결정 실리콘 잉곳 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공챔버 내부에서 원료 실리콘을 가열하여 용융시킨 후, 냉각시켜 다결정 실리콘 잉곳을 제조하는 장치에 있어서, 상기 진공챔버 내부에 수평방향으로 상호 이격되도록 배열되며, 원료 실리콘이 각각 담겨져 다결정 실리콘 잉곳이 제조되는 다수의 도가니, 상기 각 도가니를 가열시켜 담겨진 원료 실리콘을 용융시키도록 상기 각 도가니의 외측에 구비되는 히터수단, 및 상기 히터수단에 의해 용융된 실리콘을 한방향으로 냉각시켜 다결정 잉곳으로 성장시키기 위해 상기 도가니를 냉각시키는 냉각수단을 포함하여 이루어진다.