公开(公告)号：WO2017052202A1

公开(公告)日：2017-03-30

申请号：PCT/KR2016/010546

申请日：2016-09-21

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 이정오 ,  양철수 ,  안기석 ,  버나드두댕 ,  틴다라베르두치 ,  파올로사모리 ,  에마누엘레오리구 ,  박세린

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/05

CPC classification number: H01L51/00 ,  H01L51/05

Abstract: 본 발명은 금속 산화물 및/또는 금속 수산화물 함유 금속층과의 계면에서 금속 산화물 및/또는 금속 수산화물 함량을 저감시키면서 탄소계 패시베이션막을 형성시키는 방법; 이를 이용하여 금속층 및 상기 금속층 상에 형성된 탄소계 패시베이션막을 구비한 금속 전극; 및 이를 이용하여 용액공정으로 유기소자를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 어닐링 조건에서 탄소계 패시베이션막을 금속 산화물 및/또는 금속 수산화물 함유 금속층 표면에 형성시키는 경우, 금속 표면에 이미 존재하는 산화막 및/또는 수산화막을 환원시키고 더 이상의 산화 및 부식이 일어나지 않도록 금속 표면을 보호할 수 있을 뿐만아니라, 계면 저항이 낮아서 금(Au)과 같이 자연산화막이 형성되지 않는 금속 전극으로 활용할 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成碳基钝化膜的方法，同时减少与含有金属氧化物和/或金属氢氧化物的金属层的界面中的金属氧化物和/或金属氢氧化物的含量; 包括金属层的金属电极和使用其形成在金属层上的碳基钝化膜; 以及通过使用其的溶液法制造有机元素的方法。 当在根据本发明的退火条件下在含有金属氧化物和/或金属氢氧化物的金属层的表面上形成碳基钝化膜时，碳基钝化膜可以保护金属表面以减少 氧化膜和/或氢氧化物膜，其已经存在于金属表面上，并且防止进一步的氧化和腐蚀，并且可以用作未形成天然氧化物膜的金属电极，如金（Au） ，由于界面阻力低。

公开(公告)号：KR1020170034780A

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：KR1020160120991

申请日：2016-09-21

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 이정오 ,  양철수 ,  안기석 ,  버나드두댕 ,  틴다라베르두치 ,  파올로사모리 ,  에마누엘레오리구 ,  박세린

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/05

CPC classification number: H01L51/00 ,  H01L51/05

Abstract: 본발명은금속산화물및/또는금속수산화물함유금속층과의계면에서금속산화물및/또는금속수산화물함량을저감시키면서탄소계패시베이션막을형성시키는방법; 이를이용하여금속층및 상기금속층상에형성된탄소계패시베이션막을구비한금속전극; 및이를이용하여용액공정으로유기소자를제조하는방법에관한것이다. 본발명에따른어닐링조건에서탄소계패시베이션막을금속산화물및/또는금속수산화물함유금속층표면에형성시키는경우, 금속표면에이미존재하는산화막및/또는수산화막을환원시키고더 이상의산화및 부식이일어나지않도록금속표면을보호할수 있을뿐만아니라, 계면저항이낮아서금(Au)과같이자연산화막이형성되지않는금속전극으로활용할수 있다.

Abstract translation: 如何实现本发明，同时减少在使用包含金属氧化物和/或金属氢氧化物，以形成基于碳的钝化膜的金属层的界面上的金属氧化物和/或金属氢氧化物的内容; 金属电极，具有金属层和形成在金属层上的碳基钝化膜; 以及使用其的溶液法制造有机器件的方法。 当根据本发明的用于形成含有金属表面的碳基钝化膜的金属在退火条件氧化物和/或金属氢氧化物，金属表面艾米存在氧化物和/或金属的氢氧化物，使得减少和另外的氧化和腐蚀发生膜表面 不仅被保护，可以使用，因为这是一个自然氧化膜不形成作为界面电阻低，金（Au）的金属电极。