公开(公告)号：KR1019930004282A

公开(公告)日：1993-03-22

申请号：KR1019910014924

申请日：1991-08-28

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 조광연 ,  정인화 ,  정영륜 ,  김영섭 ,  민용기 ,  오영주 ,  전근숙 ,  김흥태 ,  김병섭

IPC: C07D271/06

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR1020050017342A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020030055984

申请日：2003-08-13

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 오영주 ,  정원용 ,  강윤찬

IPC: H01J9/02 ,  H01J11/22

Abstract: PURPOSE: A method is provided to eliminate the necessity of using an expensive evaporation device by electroless-plating a black metal directly on a glass substrate coated with an ITO in formation of a metal seed layer. CONSTITUTION: A method comprises a step of forming a black metal seed layer(12) on a substrate(11); a step of forming a pattern of a photosensitive resin layer on the metal seed layer; a step of forming a metal electrode layer(14) on the metal seed layer exposed through the pattern of the photosensitive resin layer through an electro-plating process; and a step of removing the pattern of the photosensitive resin layer, and selectively removing the metal seed layer by connecting a positive pole to the metal electrode layer and connecting a negative pole to an object electrode(15) in an etching solution, and applying power.

Abstract translation: 目的：提供一种方法，以消除在形成金属种子层的情况下，直接在涂覆有ITO的玻璃基板上对黑色金属进行无电镀处理来使用昂贵的蒸发装置。 构成：一种方法包括在基底（11）上形成黑色金属种子层（12）的步骤; 在金属籽晶层上形成感光性树脂层的图案的工序; 在通过电镀工艺通过感光性树脂层的图案露出的金属种子层上形成金属电极层（14）的工序; 以及去除感光性树脂层的图案的步骤，并且通过将正极连接到金属电极层并将负极连接到蚀刻溶液中的目标电极（15）来选择性地去除金属种子层，并施加电力 。

公开(公告)号：KR100183540B1

公开(公告)日：1999-05-01

申请号：KR1019910014924

申请日：1991-08-28

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 조광연 ,  정인화 ,  정영륜 ,  김영섭 ,  민용기 ,  오영주 ,  전근숙 ,  김흥태 ,  김병섭

IPC: C07D271/06

Abstract: 본 발명은 살균제로서 유용한 다음 일반식(I)로 표시되는 신규의 1,2,4-옥사디아졸-5-온 유도체 및 그의 제조방법을 제공한다.

상기 식에서, X 는 수소원자, 할로겐원자, C
1-3 알킬기 또는 C
1-2 알콕시기이고, Y 는 수소원자, 할로겐원자, C
1-4 알킬기, C
1-3 알콕시기 또는 메틸티오기이며, Z 는 수소원자, 할로겐원자, 메틸기 또는 메톡시기이고, R
1 는 수소원자, 할로겐원자, 메틸기, 트리플루오로메틸기, 또는 메톡시기이며, R
2 는 수소원자 또는 할로겐원자이다.
또한, 본 발명은 상기 일반식(I)의 화합물을 유효성분으로 함유하는 살균제 조성물을 제조하는 것이다.

公开(公告)号：KR100513494B1

公开(公告)日：2005-09-08

申请号：KR1020030055984

申请日：2003-08-13

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 오영주 ,  정원용 ,  강윤찬

IPC: H01J9/02 ,  H01J11/22

Abstract: 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성방법에 관한 것으로, 금속 시드층의 형성시 기판의 표면 위에 직접 흑색 금속을 무전해도금의 방법으로 형성함으로써 고가의 증착장치를 사용하지 않아도 될 뿐만 아니라, 후공정인 금속 시드층의 식각공정에서는 갈바닉 쌍의 효과를 이용하여 식각을 수행함으로써 기존 분무식 또는 침적식 식각에 비해 보다 깨끗한 식각 결과를 얻을 수 있고 공정시간 단축 및 제조비용의 절감이 가능해지는 전극 형성방법을 제공하고자 한 것이다.
이러한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성방법은, 기판 상에 흑색 금속 시드층을 형성하는 공정과; 금속 시드층 상면에 감광성 수지층의 패턴을 형성하는 공정과; 감광성 수지층의 패턴을 통해 노출된 금속 시드층 위에 전기도금의 방법으로 금속 전극층을 형성하는 공정과; 감광성 수지층의 패턴 제거 후 식각 용액 내에서 금속 전극층에 양극을 연결하고 상대 전극에 음극을 연결한 다음 전원을 인가하여 금속 시드층을 선택적으로 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.