KR102224346B1 - Organic-inorganic hybrid layer, organic-inorganic laminate having the layer, organic electroinc device including the laminate as a gas barrier

    公开(公告)号:KR102224346B1

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:KR1020190083749A

    申请日:2019-07-11

    Inventor: 성명모 박진선

    CPC classification number: H01L51/0032 H01L51/00 H01L51/50

    Abstract: 유무기 하이브리드층, 이를 구비하는 유무기 적층체, 및 이를 가스 배리어로 구비하는 유기전자소자를 제공한다. 상기 유무기 적층체는 적어도 두 층의 금속 산화물층들; 및 상기 금속 산화물층들 사이에 배치되고, 금속 원자층 및 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 유기 분자층을 구비하는 단위층을 적어도 한 층 포함하는 유무기 하이브리드층을 포함한다.
    [화학식 1] (-X
    a R
    a )(X
    b1 R
    b )C(R
    c X
    c -)(R
    d X
    d -)
    [화학식 2] (-X
    a R
    a )(-X
    b2 R
    b )C(R
    c X
    c -)(R
    d X
    d -)
    상기 화학식 1 또는 화학식 2에서, -들은 서로에 관계없이 상기 금속 원자층 또는 상기 금속 산화물층 내의 금속과의 결합을 의미하고, X
    a , X
    b2 , X
    c , 및 X
    d 는 서로에 관계없이 O, S, Se 또는 NH이고, X
    b1 은 수소이고, R
    a , R
    b , R
    c , 및 R
    d 는 서로에 관계없이 결합 또는 C1 내지 C5의 알킬렌기이다.

    유무기 하이브리드층, 이 층을 구비하는 유무기 적층체, 및 이 적층체를 가스 배리어로 구비하는 유기전자소자

    公开(公告)号:WO2021006712A1

    公开(公告)日:2021-01-14

    申请号:PCT/KR2020/009169

    申请日:2020-07-13

    Inventor: 성명모 박진선

    Abstract: 유무기 하이브리드층, 이를 구비하는 유무기 적층체, 및 이를 가스 배리어로 구비하는 유기전자소자를 제공한다. 상기 유무기 적층체는 적어도 두 층의 금속 산화물층들; 및 상기 금속 산화물층들 사이에 배치되고, 금속 원자층 및 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 유기 분자층을 구비하는 단위층을 적어도 한 층 포함하는 유무기 하이브리드층을 포함한다. [화학식 1] (-X a R a )(X b1 R b )C(R c X c -)(R d X d -) [화학식 2] (-X a R a )(-X b2 R b )C(R c X c -)(R d X d -) 상기 화학식 1 또는 화학식 2에서, -들은 서로에 관계없이 상기 금속 원자층 또는 상기 금속 산화물층 내의 금속과의 결합을 의미하고, X a , X b2 , X c , 및 X d 는 서로에 관계없이 O, S, Se 또는 NH이고, X b1 은 수소이고, R a , R b , R c , 및 R d 는 서로에 관계없이 결합 또는 C1 내지 C5의 알킬렌기이다.

    막 구조체, 소자 및 멀티레벨 소자

    公开(公告)号:WO2020080621A1

    公开(公告)日:2020-04-23

    申请号:PCT/KR2019/003242

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 본 발명의 일 실시 예에 따른 막 구조체는 적어도 한 축 방향으로 양자화된 에너지 레벨을 가지는 적어도 한 층의 액티브 모노레이어(active monolayer) 및 상기 적어도 한 층의 액티브 모노레이어와 교번 적층되는 적어도 한 층의 배리어(barrier)를 포함하되, 상기 액티브 모노레이어에는 전류가 흐르되, 상기 양자화된 에너지 레벨에 의하여 전류의 흐름이 제한될 수 있다.

    TMDC 막 제조방법 및 그 제조장치

    公开(公告)号:KR102214902B1

    公开(公告)日:2021-02-15

    申请号:KR1020180124390

    申请日:2018-10-18

    Abstract: 본발명의일 실시예에따르면, 기판이마련된챔버내의유출구를밀폐시킨상태에서, 전이금속증착을위한소스가스를제공함으로써, 상기챔버내의압력을증가시켜, 상기소스가스를상기밀폐된챔버내의상기기판에흡착시키는소스가스가압도징(dosing) 단계, 상기소스가스가압도징단계이후, 퍼지시키는제1 메인퍼징(main purging) 단계, 상기제1 메인퍼징단계후에, 반응가스를제공하는반응가스도징단계및 상기반응가스도징단계이후, 퍼지시키는제2 메인퍼징단계를포함할수 있다.

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