Patent search ap:("한양대학교 에리카산학협력단") AND inv:"편해정" Page 1

1.

发明授权
베리어 구조체를 이용한 패턴 마스크의 제조 방법 및 제조 장치 有权

公开(公告)号：KR102030920B1

公开(公告)日：2019-10-10

申请号：KR1020180034421

申请日：2018-03-26

Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단

Inventor： 박진구 , 김명준 , 류헌열 , 이정환 , 편해정 , 한광민

IPC: H01L21/67 , G03F7/20

Patent Agency Ranking