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公开(公告)号：KR101429524B1
公开(公告)日：2014-08-14
申请号：KR1020130053757
申请日：2013-05-13
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/004
Abstract: According to the present invention, a 3D fine structure forming method using diffuser lithography includes a step of applying a sensitizer onto a substrate; a step of forming a pattern of a mask; a step of emitting light; and a step of forming a 3D structure on the sensitizer by using a developer. In the light emitting step, light scattered from more than two kinds of diffusers is emitted to the sensitizer through the mask. According to another type of the present invention, the diffuser is a diffuser applied to the 3D fine structure forming method using diffuser lithography and is characterized in that two kinds of diffusers are overlapped with each other. With the present invention, various 3D structures, having a lower gradient and thinner thickness than existing diffuser lithography, are made by using complexly formed light. Moreover, the present invention forms a 3D fine structure having an inclined cross section through a simpler facility in comparison with the former technology. The present invention enables mass production by using a lithography process.
Abstract translation: 根据本发明，使用漫射光刻的3D精细结构形成方法包括将敏化剂施加到基底上的步骤; 形成掩模图案的步骤; 发光的一步; 以及通过使用显影剂在敏化剂上形成3D结构的步骤。 在发光步骤中，从两种扩散器散射的光通过掩模发射到敏化剂。 根据本发明的另一种类型，扩散器是应用于使用漫射光刻的3D精细结构形成方法的扩散器，其特征在于两种扩散器彼此重叠。 利用本发明，通过使用复合形成的光来制造具有比现有扩散器光刻更低的梯度和更薄的厚度的各种3D结构。 此外，与前述技术相比，本发明通过更简单的设备形成具有倾斜横截面的3D精细结构。 本发明可以通过使用光刻工艺进行批量生产。
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公开(公告)号：KR101664688B1
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：KR1020150067075
申请日：2015-05-14
Applicant: 현대자동차주식회사 , 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: F25B39/02 , C09D133/26 , B60H1/00
Abstract: 본발명은초친수및 초발수표면특성을갖는에어컨증발기및 그제조방법에관한것으로, 보다상세하게는요철형상의알루미늄표면상에카르복실산유도체로말단화된폴리(N-이소프로필아크릴아마이드) 화합물을포함하는초친수-초발수코팅막을형성함으로써온도에따라저온에서는초친수성으로인해응축수의배출을용이하게하여열교환성능을향상시키는동시에고온에서는초발수성으로인해응축수의잔존시간을단축시키고, 먼지, 이물질등을자가세정하여미생물의서식및 이로인한악취발생을억제할수 있는초친수및 초발수표면특성을갖는에어컨증발기및 그제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101409406B1
公开(公告)日：2014-06-20
申请号：KR1020120116089
申请日：2012-10-18
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
Abstract: 본 발명은 직물의 발수가공용 금형 제조방법 및 이를 이용한 직물의 발수가공방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 직물 표면에 발수성 기능을 가지는 미세 패턴을 형성할 수 있는 발수가공용 금형 제조방법과 이를 이용한 직물의 발수가공방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면 직접적 전사방법에 의해 직물 표면에 발수성 기능을 가지는 미세패턴을 형성할 수 있다. 기존의 코팅법이나 수지를 이용한 침지법보다 간단한 공정으로 이루어지고 대면적 공정에도 적용이 가능하여 생산성, 경제성이 개선될 수 있다. 또한 환경에 유해한 솔벤트 등의 사용이 요구되지 않아 작업 안전성을 개선할 수 있다. 아울러 마찰 또는 세탁으로 발수도가 저하될 염려가 없어 발수성 기능을 반영구적으로 유지할 수 있다.-
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公开(公告)号：KR101743828B1
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：KR1020150130744
申请日：2015-09-16
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: H01L21/033 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L29/06 , C23C14/04
Abstract: 기판을준비하는단계, 상기기판의제1 면(first surface) 상에타겟패턴(target pattern)이형성된제1 필름(first film)을배치하는단계, 상기기판의제2 면(second surface) 상에, 상기기판의중앙부를덮고, 상기기판의가장자리부를노출하는제2 필름(second film)을배치하는단계, 및노출된상기기판의상기가장자리부를통해전류를공급하는방법으로, 상기기판을전기화학식각(electrochemical etching)하여, 상기기판내에상기타겟패턴에대응하는타겟홀(target hole)을형성하는단계를포함하는패턴마스크의제조방법이제공될수 있다.
Abstract translation: 一种制造半导体器件的方法，包括：制备衬底;在衬底的第一表面上设置可释放地图案化的第一膜;在衬底的第二表面上形成第二膜; ，布置覆盖基板的中心部分并暴露基板的边缘部分并且通过暴露的基板的边缘部分供应电流的第二膜， 通过对图案化的掩模进行电化学蚀刻，在基板上形成与目标图案对应的靶孔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140049814A
公开(公告)日：2014-04-28
申请号：KR1020120116089
申请日：2012-10-18
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
CPC classification number: D06C23/04 , B82Y40/00 , C23F1/02 , D06C2700/31 , D06M2200/12 , D10B2401/021 , G03F7/16
Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a metallic mold for water-repellent finishing of a fabric and a method for water-repellent finishing of the fabric using the same, and more specifically, to a method for manufacturing a metallic mold for water-repellent finishing of a fabric, capable of forming fine patterns having a water-repellent function on a surface of the fabric, and a method for water-repellent finishing of the fabric using the same. According to the present invention, fine patterns having a water-repellent function can be formed on a surface of a fabric through a direct transferring method. The present invention is conducted through a simpler process than an existing coating method or an immersion method using a resin, and can be applied to even a large-area process, thereby being capable of improving productivity and economic feasibility. In addition, a solvent or the like, which is harmful to the environment, is not required to be used, thereby being capable of improving working stability. Further, since no fear exists of a decrease in the water-repellent degree due to friction or washing, the water-repellent function can be semipermanently maintained. [Reference numerals] (AA) Photosensitive layer; (BB) Substrate; (CC) Fabric; (DD) Mask
Abstract translation: 本发明涉及一种制造用于织物防水整理的金属模具的方法和使用该方法的织物的防水整理方法，更具体地说，涉及一种用于制造水溶性金属模具的方法， 能够在织物的表面上形成具有防水功能的精细图案的织物的防水整理，以及使用该织物的织物的防水整理方法。 根据本发明，可以通过直接转印法在织物的表面上形成具有防水功能的精细图案。 本发明通过比现有的涂布方法或使用树脂的浸渍法更简单的方法进行，并且甚至可以应用于大面积工艺，从而能够提高生产率和经济可行性。 此外，不需要使用对环境有害的溶剂等，从而能够提高工作稳定性。 此外，由于不会因摩擦或洗涤而导致防水性降低，所以可以半维持防水功能。 （附图标记）（AA）感光层; （BB）基材; （CC）面料; （DD）面膜
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公开(公告)号：KR102156997B1
公开(公告)日：2020-09-16
申请号：KR1020190027274
申请日：2019-03-11
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: B24B53/017 , B24B53/12 , B24B37/20
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公开(公告)号：KR1020170033461A
公开(公告)日：2017-03-27
申请号：KR1020150130744
申请日：2015-09-16
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: H01L21/033 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L29/06 , C23C14/04
Abstract: 기판을준비하는단계, 상기기판의제1 면(first surface) 상에타겟패턴(target pattern)이형성된제1 필름(first film)을배치하는단계, 상기기판의제2 면(second surface) 상에, 상기기판의중앙부를덮고, 상기기판의가장자리부를노출하는제2 필름(second film)을배치하는단계, 및노출된상기기판의상기가장자리부를통해전류를공급하는방법으로, 상기기판을전기화학식각(electrochemical etching)하여, 상기기판내에상기타겟패턴에대응하는타겟홀(target hole)을형성하는단계를포함하는패턴마스크의제조방법이제공될수 있다.
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公开(公告)号：KR101651341B1
公开(公告)日：2016-08-26
申请号：KR1020140170294
申请日：2014-12-02
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
Abstract: 초발수성금속구조물의제조방법이제공된다. 상기초발수성금속구조물의제조방법은, 금속구조물을준비하는단계, 상기금속구조물의표면에제1 선폭을갖는제1 패턴을형성하는단계, 및상기제1 패턴을갖는상기금속구조물의상기표면에상기제1 선폭(line width)보다좁은제2 선폭을갖는제2 패턴, 및상기제2 패턴을덮는(cover) 코팅층을동일한공정에서형성하는단계를포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020160066590A
公开(公告)日：2016-06-13
申请号：KR1020140170294
申请日：2014-12-02
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
Abstract: 초발수성금속구조물의제조방법이제공된다. 상기초발수성금속구조물의제조방법은, 금속구조물을준비하는단계, 상기금속구조물의표면에제1 선폭을갖는제1 패턴을형성하는단계, 및상기제1 패턴을갖는상기금속구조물의상기표면에상기제1 선폭(line width)보다좁은제2 선폭을갖는제2 패턴, 및상기제2 패턴을덮는(cover) 코팅층을동일한공정에서형성하는단계를포함할수 있다.
Abstract translation: 提供了一种超疏水金属结构体的制造方法。 超疏水金属结构的制造方法包括：制备金属结构的步骤; 在所述金属结构的表面上形成具有第一线宽度的第一图案的步骤; 以及在具有第一图案的金属结构体的表面上形成具有比第一线宽窄的第二线宽的第二图案的步骤，并且在相同的工艺中形成覆盖第二图案的涂层。 超疏水金属结构具有改善的防水性能，并且能够通过简化的制造工艺以降低的成本制造。
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