公开(公告)号：TWI490919B

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：TW098137301

申请日：2009-11-03

Applicant: ASM美國股份有限公司 ,  ASM AMERICA, INC.

Inventor： 吉文斯 麥克 ,  GIVENS, MICHAEL ,  古德曼 馬修G ,  GOODMAN, MATTHEW G. ,  霍金斯 馬克 ,  HAWKINS, MARK ,  哈勒克 布拉德 ,  HALLECK, BRAD ,  特后司特 赫伯特 ,  TERHORST, HERBERT

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/6719 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45589 ,  C23C16/45591

公开(公告)号：TW201023250A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：TW098137301

申请日：2009-11-03

Applicant: ASM美國股份有限公司

Inventor： 吉文斯 麥克 ,  古德曼 馬修G ,  霍金斯 馬克 ,  哈勒克 布拉德 ,  特后司特 赫伯特

IPC: H01L

CPC classification number: H01L21/6719 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45589 ,  C23C16/45591

Abstract: 本發明提供一種反應室,此反應室中界定有反應空間,其中此反應空間為可調節的,以形成流過此反應空間之氣體之實質穩定之層流。此實質穩定之層流經配置以提高在反應室內處理之基板上之沈積均勻性,以提供可預測之沈積輪廓。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种反应室,此反应室中界定有反应空间,其中此反应空间为可调节的,以形成流过此反应空间之气体之实质稳定之层流。此实质稳定之层流经配置以提高在反应室内处理之基板上之沉积均匀性,以提供可预测之沉积轮廓。