公开(公告)号：CN103889888B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201280048599.5

申请日：2012-10-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·恩古岩 ,  J·范德尔斯 ,  W·卡特拉尔斯 ,  S·伍伊斯特尔 ,  E·范德海伊登 ,  H·梅森 ,  R·科莱 ,  E·皮特斯 ,  C·范黑斯克 ,  A·布里扎尔特 ,  H·布特斯 ,  T·朱兹海妮娜 ,  J·德鲁伊特尔

IPC: B81C1/00

CPC classification number: C30B1/12 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337 ,  Y10T117/10

Abstract: 本发明公开一种图形外延模板，用以对准自组装嵌段聚合物，所述嵌段聚合物适于自组装为具有平行于第一轴线延伸、沿正交的第二轴线相互间隔开并且通过连续第二区域或域分开的不连续第一区域或域的平行行的二维阵列。所述图形外延模板具有基本上平行的第一和第二侧壁，所述第一和第二侧壁平行于第一轴线延伸并且限定第一轴线并且沿第二轴线相互间隔开以提供间隔区，该间隔区适于保持处于衬底上侧壁之间并且平行于侧壁的至少一行不连续第一区域或域，并且通过连续第二区域或域与其分开。所述间隔区具有图形外延成核特征，所述图形外延成核特征被布置用于将至少一个不连续第一区域或域定位在间隔区内的特定位置处。本发明还公开用于形成图形外延模板的方法及其用于器件光刻的应用。

公开(公告)号：CN103889888A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201280048599.5

申请日：2012-10-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·恩古岩 ,  J·范德尔斯 ,  W·卡特拉尔斯 ,  S·伍伊斯特尔 ,  E·范德海伊登 ,  H·梅森 ,  R·科莱 ,  E·皮特斯 ,  C·范黑斯克 ,  A·布里扎尔特 ,  H·布特斯 ,  T·朱兹海妮娜 ,  J·德鲁伊特尔

IPC: B81C1/00

CPC classification number: C30B1/12 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337 ,  Y10T117/10

Abstract: 本发明公开一种图形外延模板，用以对准自组装嵌段聚合物，所述嵌段聚合物适于自组装为具有平行于第一轴线延伸、沿正交的第二轴线相互间隔开并且通过连续第二区域或域分开的不连续第一区域或域的平行行的二维阵列。所述图形外延模板具有基本上平行的第一和第二侧壁，所述第一和第二侧壁平行于第一轴线延伸并且限定第一轴线并且沿第二轴线相互间隔开以提供间隔区，该间隔区适于保持处于衬底上侧壁之间并且平行于侧壁的至少一行不连续第一区域或域，并且通过连续第二区域或域与其分开。所述间隔区具有图形外延成核特征，所述图形外延成核特征被布置用于将至少一个不连续第一区域或域定位在间隔区内的特定位置处。本发明还公开用于形成图形外延模板的方法及其用于器件光刻的应用。