公开(公告)号：TWI421636B

公开(公告)日：2014-01-01

申请号：TW096142725

申请日：2007-11-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凱斯 法蘭克 貝斯特 ,  BEST, KEITH FRANK ,  奎辰坤 ,  GUI, CHENG-QUN ,  大衛 克里斯多夫 歐克威爾 ,  OCKWELL, DAVID CHRISTOPHER ,  彼德 譚 伯格 ,  TEN BERGE, PETER

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L21/67115 ,  H01L24/80 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01061 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：TWI412899B

公开(公告)日：2013-10-21

申请号：TW098129697

申请日：2004-05-28

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 喬治 里察 亞立克安德 ,  GEORGE, RICHARD ALEXANDER ,  桂 成群 ,  GUI, CHENG-QUN ,  戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 ,  DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN ,  范 里溫 羅博特 愛德格 ,  AN LEEUWEN, V, ROBBERT EDGAR ,  博荷恩 賈庫巴 ,  BURGHOORN, JACOBUS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03B27/53 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026

公开(公告)号：TWI456355B

公开(公告)日：2014-10-11

申请号：TW098129741

申请日：2009-09-03

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 艾爾賽德 尼可雷 尼可拉契夫 ,  IOSAD, NIKOLAY NIKOLAEVICH ,  桂 成群 ,  GUI, CHENG-QUN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70508

公开(公告)号：TWI531872B

公开(公告)日：2016-05-01

申请号：TW102144702

申请日：2009-09-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 ,  DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN ,  斑尼 維頂 維根維齊 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 ,  BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS ,  桂 成群 ,  GUI, CHENG-QUN ,  昂夫里 喬漢斯 ,  ONVLEE, JOHANNES ,  范 茲維 愛爾恩 約翰 ,  VAN ZWET, ERWIN JOHN

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC classification number: G03F7/70183 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704

公开(公告)号：TW201413400A

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：TW102144702

申请日：2009-09-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 ,  DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN ,  斑尼 維頂 維根維齊 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 ,  BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS ,  桂 成群 ,  GUI, CHENG-QUN ,  昂夫里 喬漢斯 ,  ONVLEE, JOHANNES ,  范 茲維 愛爾恩 約翰 ,  VAN ZWET, ERWIN JOHN

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC classification number: G03F7/70183 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704

Abstract: 在一實施例中，本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括：一調變器，該調變器經組態以將基板之一曝光區域曝光於根據一所要圖案所調變之複數個光束；及一投影系統，該投影系統經組態以將該等經調變光束投影至該基板上。該調變器可相對於該曝光區域可移動，及/或該投影系統可具有用以接收該複數個光束之一透鏡陣列，該透鏡陣列係相對於該曝光區域可移動。

Abstract in simplified Chinese: 在一实施例中，本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括：一调制器，该调制器经组态以将基板之一曝光区域曝光于根据一所要图案所调制之复数个光束；及一投影系统，该投影系统经组态以将该等经调制光束投影至该基板上。该调制器可相对于该曝光区域可移动，及/或该投影系统可具有用以接收该复数个光束之一透镜数组，该透镜数组系相对于该曝光区域可移动。

公开(公告)号：TWI427431B

公开(公告)日：2014-02-21

申请号：TW098131847

申请日：2009-09-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 ,  DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN ,  斑尼 維頂 維根維齊 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 ,  BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS ,  桂 成群 ,  GUI, CHENG-QUN ,  昂夫里 喬漢斯 ,  ONVLEE, JOHANNES ,  范 茲維 愛爾恩 約翰 ,  VAN ZWET, ERWIN JOHN

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC classification number: G03F7/70183 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704