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公开(公告)号：TWI571708B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW101135679
申请日：2012-09-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 康尼森 薩巴斯丁 馬力亞 喬翰司 , CORNELISSEN, SEBASTIAAN MARIA JOHANNES , 吉列森 諾德 詹 , GILISSEN, NOUD JAN , 史哲班 安可 喬瑟夫 柯那勒斯 , SIJBEN, ANKO JOZEF CORNELUS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 史密茲 羅傑 威哈幕斯 安東尼斯 亨利克斯 , SCHMITZ, ROGER WILHELMUS ANTONIUS HENRICUS , 威爾 曼諾 愛麗斯 , WILL, MANON ELISE
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/707 , G03F7/70875 , G03F7/70908 , G10L15/08 , G10L2015/223 , H01L21/6831
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公开(公告)号：TW201319761A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101135679
申请日：2012-09-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 康尼森 薩巴斯丁 馬力亞 喬翰司 , CORNELISSEN, SEBASTIAAN MARIA JOHANNES , 吉列森 諾德 詹 , GILISSEN, NOUD JAN , 史哲班 安可 喬瑟夫 柯那勒斯 , SIJBEN, ANKO JOZEF CORNELUS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 史密茲 羅傑 威哈幕斯 安東尼斯 亨利克斯 , SCHMITZ, ROGER WILHELMUS ANTONIUS HENRICUS , 威爾 曼諾 愛麗斯 , WILL, MANON ELISE
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/707 , G03F7/70875 , G03F7/70908 , G10L15/08 , G10L2015/223 , H01L21/6831
Abstract: 本發明揭示一種吸附座、一種吸附座控制系統、一種微影裝置及一種使用一吸附座之方法。在一實施例中，提供一種吸附座，該吸附座用於藉由靜電力將一圖案化器件或一基板固持至一微影裝置之一支撐台上，其中該圖案化器件用於在一輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束，且該基板用於接收該經圖案化輻射光束；該吸附座包含：一介電構件；一溫度調節流體通道，其形成於該吸附座內；一驅動電極，其用於橫越該介電構件在該驅動電極與該圖案化器件或該基板之間施加一電位差，以便朝向該驅動電極靜電地吸引該圖案化器件或該基板；及一第一屏蔽電極，其用於縮減或防止歸因於施加至該驅動電極之一電壓而引起的橫越該溫度調節流體通道中之溫度調節流體之一電場之顯現，以便縮減或防止該流體中之電解。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种吸附座、一种吸附座控制系统、一种微影设备及一种使用一吸附座之方法。在一实施例中，提供一种吸附座，该吸附座用于借由静电力将一图案化器件或一基板固持至一微影设备之一支撑台上，其中该图案化器件用于在一辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束，且该基板用于接收该经图案化辐射光束；该吸附座包含：一介电构件；一温度调节流体信道，其形成于该吸附座内；一驱动电极，其用于横越该介电构件在该驱动电极与该图案化器件或该基板之间施加一电位差，以便朝向该驱动电极静电地吸引该图案化器件或该基板；及一第一屏蔽电极，其用于缩减或防止归因于施加至该驱动电极之一电压而引起的横越该温度调节流体信道中之温度调节流体之一电场之显现，以便缩减或防止该流体中之电解。
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公开(公告)号：TWI585543B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102111949
申请日：2013-04-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 史密茲 羅傑 威哈幕斯 安東尼斯 亨利克斯 , SCHMITZ, ROGER WILHELMUS ANTONIUS HENRICUS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 威爾 曼諾 愛麗斯 , WILL, MANON ELISE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/70875 , H01L21/6831
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公开(公告)号：TW201640218A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105103361
申请日：2016-02-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 迪 葛瑞夫 丹尼司 , DE GRAAF, DENNIS , 迪 克夫 羅伯特斯 寇尼勒斯 馬汀納斯 , DE KRUIF, ROBERTUS CORNELIS MARTINUS , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 史密斯 丹尼爾 安德魯 , SMITH, DANIEL ANDREW , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K , 威立 詹姆士 諾門 , WILEY, JAMES NORMAN
Abstract: 本發明提供一種方法，其包含以下步驟：收納包含一遮罩及藉由一護膜框架固持之一可移除EUV透明護膜的一遮罩組件；自該遮罩移除該護膜框架及EUV透明護膜；使用一檢測工具檢測該遮罩上之該遮罩圖案；及隨後將藉由一護膜框架固持之一EUV透明護膜附接至該遮罩。該方法亦可包含以下步驟：在自該遮罩移除該護膜框架及EUV透明護膜之後，將一替代護膜框架附接至該遮罩，該替代護膜框架固持由對於該檢測工具之一檢測光束實質上透明之一材料形成的一替代護膜；及在使用一檢測工具檢測該遮罩上之該遮罩圖案之後，自該遮罩移除藉由該替代護膜框架固持之該替代護膜，以將藉由該護膜框架固持之該EUV透明護膜附接至該遮罩。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种方法，其包含以下步骤：收纳包含一遮罩及借由一护膜框架固持之一可移除EUV透明护膜的一遮罩组件；自该遮罩移除该护膜框架及EUV透明护膜；使用一检测工具检测该遮罩上之该遮罩图案；及随后将借由一护膜框架固持之一EUV透明护膜附接至该遮罩。该方法亦可包含以下步骤：在自该遮罩移除该护膜框架及EUV透明护膜之后，将一替代护膜框架附接至该遮罩，该替代护膜框架固持由对于该检测工具之一检测光束实质上透明之一材料形成的一替代护膜；及在使用一检测工具检测该遮罩上之该遮罩图案之后，自该遮罩移除借由该替代护膜框架固持之该替代护膜，以将借由该护膜框架固持之该EUV透明护膜附接至该遮罩。
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公开(公告)号：TW201432390A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102148035
申请日：2013-12-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 克羅柏 佩多司 奧格斯提諾司 法蘭西斯克司 , KLOMP, PETRUS AUGUSTINUS FRANCISCUS , 莫頓斯 巴斯帝安 馬西亞斯 , MERTENS, BASTIAAN MATTHIAS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , H01L21/6875 , H02N13/00
Abstract: 本發明提供一種靜電夾具，其包含：一電極；位於該電極上之一電阻性材料層；及位於該電阻性材料上之一介電層，其中該靜電夾具進一步包含自該介電層突出之瘤節。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种静电夹具，其包含：一电极；位于该电极上之一电阻性材料层；及位于该电阻性材料上之一介电层，其中该静电夹具进一步包含自该介电层突出之瘤节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201346452A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102111949
申请日：2013-04-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 史密茲 羅傑 威哈幕斯 安東尼斯 亨利克斯 , SCHMITZ, ROGER WILHELMUS ANTONIUS HENRICUS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 威爾 曼諾 愛麗斯 , WILL, MANON ELISE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/70875 , H01L21/6831
Abstract: 一種經組態以固持一物件之靜電夾具，該靜電夾具包含一電極、位於該電極上的由一電阻性材料形成之一電阻性部分，及位於該電阻性部分上的由一介電材料形成之一介電部分。
Abstract in simplified Chinese: 一种经组态以固持一对象之静电夹具，该静电夹具包含一电极、位于该电极上的由一电阻性材料形成之一电阻性部分，及位于该电阻性部分上的由一介电材料形成之一介电部分。
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7.发明专利使用及製作遮罩組件及監測該遮罩組件之護膜的方法、遮罩、遮罩組件、遮罩組件容器、護膜組件、及護膜組件容器 有权使用及制作遮罩组件及监测该遮罩组件之护膜的方法、遮罩、遮罩组件、遮罩组件容器、护膜组件、及护膜组件容器
公开(公告)号：TWI687759B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW105103361
申请日：2016-02-02
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 迪 葛瑞夫 丹尼司 , DE GRAAF, DENNIS , 迪 克夫 羅伯特斯 寇尼勒斯 馬汀納斯 , DE KRUIF, ROBERTUS CORNELIS MARTINUS , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 史密斯 丹尼爾 安德魯 , SMITH, DANIEL ANDREW , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K , 威立 詹姆士 諾門 , WILEY, JAMES NORMAN
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公开(公告)号：TW201807507A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106113642
申请日：2017-04-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 納莎里維奇 邁可辛 亞歷山德羅維奇 , NASALEVICH, MAXIM ALEKSANDROVICH , 艾柏格 艾瑞克 阿奇里斯 , ABEGG, ERIK ACHILLES , 班諾吉 尼魯潘 , BANERJEE, NIRUPAM , 布勞 米契爾 亞歷山卓 , BLAUW, MICHIEL ALEXANDER , 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 蘭德林克 愛伯革 , LENDERINK, EGBERT , 邁可辛 尼可拉 , MAXIM, NICOLAE , 倪祺佩洛 安得列 , NIKIPELOV, ANDREY , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 彼烈戈 克勞蒂亞 , PILIEGO, CLAUDIA , 彼得 瑪莉亞 , PETER, MARIA , 瑞斯朋 吉斯博特 , RISPENS, GIJSBERT , 碩 納德嘉 , SCHUH, NADJA , 范 戴 克豪夫 馬卡斯 安德納斯 , VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS , 汎 德 贊登 威廉 裘 , VAN DER ZANDE, WILLEM JOAN , 凡 柔 彼德-珍 , VAN ZWOL, PIETER-JAN , 沃伯格 安東尼斯 威廉 , VERBURG, ANTONIUS WILLEM , 費爾莫默朗 約翰內斯 佩特魯斯 馬丁努斯 伯納德斯 , VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS , 凡爾斯 大衛 凡迪奈德 , VLES, DAVID FERDINAND , 福爾特赫伊曾 威廉-彼德 , VOORTHUIJZEN, WILLEM-PIETER , 茲德拉夫科夫 亞歷山得 尼可拉夫 , ZDRAVKOV, ALEKSANDAR NIKOLOV
Abstract: 揭示用於EUV微影之膜。在一個配置中，一膜包含具有按以下次序之層之一堆疊：一第一罩蓋層，其包含第一金屬之氧化物；一基層，其包含化合物，該化合物包含第二金屬及選自由以下各者組成之群組之額外元素：Si、B、C及N；及一第二罩蓋層，其包含第三金屬之氧化物，其中該第一金屬不同於該第二金屬且該第三金屬相同或不同於該第一金屬。
Abstract in simplified Chinese: 揭示用于EUV微影之膜。在一个配置中，一膜包含具有按以下次序之层之一堆栈：一第一罩盖层，其包含第一金属之氧化物；一基层，其包含化合物，该化合物包含第二金属及选自由以下各者组成之群组之额外元素：Si、B、C及N；及一第二罩盖层，其包含第三金属之氧化物，其中该第一金属不同于该第二金属且该第三金属相同或不同于该第一金属。
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公开(公告)号：TWI608303B
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：TW102148035
申请日：2013-12-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 克羅柏 佩多司 奧格斯提諾司 法蘭西斯克司 , KLOMP, PETRUS AUGUSTINUS FRANCISCUS , 莫頓斯 巴斯帝安 馬西亞斯 , MERTENS, BASTIAAN MATTHIAS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , H01L21/6875 , H02N13/00
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公开(公告)号：TW202010861A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108121192
申请日：2019-06-19
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 納莎里維奇 邁可辛 亞歷山德羅維奇 , NASALEVICH, MAXIM ALEKSANDROVICH , 克萊茵 亞歷山大 路德維希 , KLEIN, ALEXANDER LUDWIG , 克爾甘諾凡 艾夫喬尼亞 , KURGANOVA, EVGENIA , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 凡 柔 彼德 珍 , VAN ZWOL, PIETER-JAN , 凡爾斯 大衛 凡迪奈德 , VLES, DAVID FERDINAND
Abstract: 本發明揭示一種護膜，其包含：一芯，該芯包含除了碳化矽以外之一材料；一碳化矽黏著層；及一釕罩蓋層，該釕罩蓋層與該碳化矽黏著層接觸。本發明亦描述一種製備一護膜之方法，該方法包含以下步驟：(i)設置一護膜芯；(ii)在該護膜芯上設置一碳化矽黏著層；及(iii)將一釕罩蓋層設置成與該碳化矽黏著層接觸。本發明亦提供碳化矽在一EUV護膜中作為一黏著層之用途，以及一種總成。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种护膜，其包含：一芯，该芯包含除了碳化硅以外之一材料；一碳化硅黏着层；及一钌罩盖层，该钌罩盖层与该碳化硅黏着层接触。本发明亦描述一种制备一护膜之方法，该方法包含以下步骤：(i)设置一护膜芯；(ii)在该护膜芯上设置一碳化硅黏着层；及(iii)将一钌罩盖层设置成与该碳化硅黏着层接触。本发明亦提供碳化硅在一EUV护膜中作为一黏着层之用途，以及一种总成。
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