公开(公告)号：DE102012107105A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：DE102012107105

申请日：2012-08-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT GMBH

Inventor： DE JONG ARDJAN ,  EHM DIRK HEINRICH ,  STORM ARNOLDUS JAN ,  KAMPEN MAARTEN VAN ,  PUTTEN MICHEL VAN ,  HUIJSER TIMO ,  SCHMIDT STEFAN-WOLFGANG ,  WILLIAMS-PETERS ALISIA ,  TE SLIGTE EDWIN

IPC: G03F7/20

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von Projektionsbelichtungsanlagen, insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, beim welchem Wasserstoffgas zumindest in einem zu reinigenden Teilbereich der Projektionsbelichtungsanlage eingebracht wird und bei welchem die Projektionsbelichtungsanlage bei Anwesenheit des Wasserstoffs mit Arbeitslicht betrieben wird, sodass durch das Arbeitslicht Wasserstoffionen erzeugt werden, die die Reinigung einer zu reinigenden optischen Komponente (100) bewirken, sowie eine entsprechend hergerichtete Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage oder Maskeninspektions – und/oder – reparaturanlagen für vorzugsweise die EUV-Mikrolithographie.

公开(公告)号：NL2006551A

公开(公告)日：2011-05-17

申请号：NL2006551

申请日：2011-04-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SCHASFOORT AD ,  HUIJBREGTSE JEROEN ,  VANNEER ROELAND ,  STORM ARNOLDUS ,  SLIGTE EDWIN ,  KEMPEN ANTONIUS ,  JONKER WOUTER ,  HUIJSER TIMO

IPC: G03F7/20